[EN] RADIATION-SENSTIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE<br/>[JA] 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
申请人:JSR CORP
公开号:WO2020250639A1
公开(公告)日:2020-12-17
露光光に対する感度が良好であり、LWR性能及び解像性に優れるレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。フェノール性水酸基を含む第1構造単位及び下記式(1)で表される第2構造単位を有する重合体と、下記式(2)で表される化合物を含む感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。