2,2'-[1,6-萘二基二(氧基亚甲基)]二环氧乙烷 | 27610-48-6

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 多环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 2,2'-[1,6-萘二基二(氧基亚甲基)]二环氧乙烷
• 中文别名: 2,2'-(萘-1,6-二基双(氧基))双(亚甲基)二环氧乙烷；(1S,2R,3S,3aS,10bS)-2-羟基-1,5-二甲基-1,2,3,3a,4,9,10,10b-八氢-7H-3,10a-(环氧亚甲基)环庚三烯并[bc]苊烯-7,11-二酮；2,2'-[1,6-亚萘基二(氧亚甲基)]二环氧乙烷；1,6-二(2,3-环氧丙氧基)萘；2,2-[1,6-亚萘基二(氧亚甲基)]二环氧乙烷
• 英文名称: HP-4032D
• 英文别名: 1,6-naphthalene diglycidyl ether；Oxirane, 2,2'-[1,6-naphthalenediylbis(oxymethylene)]bis-；2-[[5-(oxiran-2-ylmethoxy)naphthalen-2-yl]oxymethyl]oxirane
• CAS: 27610-48-6
• 化学式: C₁₆H₁₆O₄
• mdl: MFCD00688174
• 分子量: 272.301
• InChiKey: MEVBAGCIOOTPLF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  455.5±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.283±0.06 g/cm3(Predicted)
• LogP：
  2.3 at 20℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  43.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2910900090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2'-[1,6-萘二基二(氧基亚甲基)]二环氧乙烷 在 三甲基硫脲 作用下， 以 乙醇 、 甲苯 为溶剂， 生成 2-[[5-(Thiiran-2-ylmethoxy)naphthalen-2-yl]oxymethyl]thiirane
  参考文献：
  名称：

  JP5815343

  摘要：

  公开号：

文献信息

• [EN] HIGH HEAT MONOMERS AND METHODS OF USE THEREOF<br/>[FR] MONOMÈRES À CHALEUR ÉLEVÉE ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION
  申请人：SABIC GLOBAL TECHNOLOGIES BV

  公开号：WO2016014536A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  High purity epoxide compounds, methods for preparing the high purity epoxide compounds, and compositions derived from the epoxide compounds are provided. Also provided are materials and articles derived from the epoxide compounds.

  本发明提供了高纯度环氧化合物、制备高纯度环氧化合物的方法以及从环氧化合物衍生的组合物。还提供了从环氧化合物衍生的材料和物品。
• [EN] METHODS FOR SYNTHESIZING HIGH PURITY EPOXY COMPOUNDS AND PRODUCTS OBTAINED THEREFROM<br/>[FR] PROCÉDÉS DE SYNTHÈSE DE COMPOSÉS ÉPOXY DE HAUTE PURETÉ ET PRODUITS OBTENUS À PARTIR DE CEUX-CI
  申请人：SABIC GLOBAL TECHNOLOGIES BV

  公开号：WO2018129012A1

  公开（公告）日：2018-07-12

  A process for preparing a diglycidyl ether of formula (1) to (9) with epichlorohydrin and a catalyst, for a time and at a temperature to provide a first reaction mixture comprising a dichlorohydrin of formula (1-d) to (9-d); adding a base to the first reaction mixture to provide a second reaction mixture over a period of 15 minutes to 3 hours; and agitating the second reaction mixture for 2 to 5 hours at 40 to 60°C, to provide an as-synthesized diglycidyl ether of formula (1) to (9) having a purity of 96 to 99% or greater as determined by high performance liquid chromatography is provided. An as-synthesized or isolated diglycidyl ether of formula (1) to (9) made by the provided process is provided. A cured composition comprising the cured product of the provided diglycidyl ether, and an article comprising the same are provided.

  本发明提供一种使用环氧氯丙烷和催化剂制备式（1）至（9）的二缩水甘油醚的方法，包括在一定的时间和温度下，以产生式（1-d）至（9-d）的二氯水合物的第一反应混合物；向第一反应混合物中加入碱，以在15分钟至3小时内形成第二反应混合物；并在40至60°C下搅拌第二反应混合物2至5小时，以提供纯度为96至99％或更高的原始合成式（1）至（9）的二缩水甘油醚，其纯度由高效液相色谱法确定。本发明还提供了由所提供的方法制备的原始合成或分离的式（1）至（9）的二缩水甘油醚。本发明还提供了由所提供的二缩水甘油醚的固化产物组成的固化组合物和包含该固化组合物的物品。
• NOVEL EPOXY RESIN AND EPOXY RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME
  申请人：Chun Hyun-Aee

  公开号：US20120041102A1

  公开（公告）日：2012-02-16

  The present invention relates to a novel epoxy resin having improved heat-resistance, thermal expansion properties and processability, and to a thermosetting resin composition comprising the same. To this end, the present invention provides an epoxy resin of Chemical Formula 1 as disclosed in the Description, an epoxy resin composition comprising the same, and a packaging, substrate and transistor formed thereof. When a composition that contains an epoxy resin with a specific side functional group according to the present invention and/or an epoxy resin with a specific core structure is cured, a filler forms a strong chemical bond with the epoxy resin, thereby maximizing filling effects of the filler for the epoxy resin. Moreover, with the specific core structure, heat resistance and heat expansion properties of a cured product are substantially improved (CTE is reduced), and enhanced glass transition properties, strength and processability are demonstrated.

  本发明涉及一种具有改进的耐热性、热膨胀性和加工性的新型环氧树脂，以及包含该环氧树脂的热固性树脂组合物。为此，本发明提供了一种化学式1的环氧树脂，其详细描述在说明书中披露，以及包含该环氧树脂的环氧树脂组合物，以及由此形成的包装、基板和晶体管。当含有本发明的具有特定侧基团的环氧树脂和/或具有特定核心结构的环氧树脂的组合物被固化时，填料与环氧树脂形成强化学键，从而最大化填料对环氧树脂的填充效果。此外，具有特定核心结构，固化产品的耐热性和热膨胀性得到了显著改善（CTE降低），并表现出增强的玻璃转移性能、强度和加工性。
• COMPOSITION FOR FORMING HIGHLY ADHESIVE RESIST UNDERLAYER FILM
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：US20150031206A1

  公开（公告）日：2015-01-29

  A composition for forming a resist underlayer film for lithography, including a polymer having a repeating structural unit of Formula (1): R 1 is a hydrogen atom or a methyl group and Q 1 is a group of Formula (2) or Formula (3): (wherein R 2 , R 3 , R 5 , and R 6 are independently a hydrogen atom or a linear or branched hydrocarbon group having a carbon atom number of 1 to 4, R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, R 7 is a linear or branched hydrocarbon group having a carbon atom number of 1 to 6, a C 1-4 alkoxy group, a C 1-4 alkylthio group, a halogen atom, a cyano group, or a nitro group, w 1 is an integer of 0 to 3, w 2 is an integer of 0 to 2, and x is an integer of 0 to 3), and v 1 and v 2 are independently 0 or 1; and an organic solvent.

  一种用于光刻的阻抗下层膜的组合物，包括具有重复结构单元公式（1）的聚合物：其中R1是氢原子或甲基基团，Q1是公式（2）或公式（3）的基团：（其中R2、R3、R5和R6分别是具有1至4个碳原子的线性或支链烃基或氢原子，R4是氢原子或甲基基团，R7是具有1至6个碳原子的线性或支链烃基、C1-4烷氧基、C1-4烷硫基、卤素原子、氰基或硝基，w1为0至3的整数，w2为0至2的整数，x为0至3的整数），以及有机溶剂。
• RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20150087155A1

  公开（公告）日：2015-03-26

  A composition forms a resist underlayer film showing improved adhesiveness to a resist pattern. A resist underlayer film-forming composition for lithography, including: a polymer that has a structure of Formula (1a), Formula (1b), or Formula (2) below on an end of the polymer; and an organic solvent: (where R 1 is a hydrogen atom or a methyl group; each of R 2 and R 3 is independently a hydrogen atom or an organic group such as a hydrocarbon group, etc., the hydrocarbon group optionally has at least one of a hydroxy group and a methylthio group as substituent(s); R 4 is a hydrogen atom or a hydroxy group; Q 1 is an arylene group; v is 0 or 1; y is an integer of 1 to 4; w is an integer of 1 to 4; x 1 is 0 or 1; and x 2 is an integer of 1 to 5).

  一种组成物形成抗蚀底层膜，显示出对抗蚀图案改进的粘附性。一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，包括：具有以下公式（1a）、公式（1b）或公式（2）结构的聚合物，其位于聚合物的一端；以及有机溶剂：（其中R1是氢原子或甲基基团；R2和R3各自独立地是氢原子或有机基团，例如烃基团等，烃基团可选地具有至少一个羟基和一个甲硫基作为取代基；R4是氢原子或羟基；Q1是芳基烃基团；v为0或1；y为1到4的整数；w为1到4的整数；x1为0或1；x2为1到5的整数）。