2,6,6-trimethyl-5,5-bis(trimethylsilyl)-5,6-disilaheptan-2-ol | 263713-64-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 2,6,6-trimethyl-5,5-bis(trimethylsilyl)-5,6-disilaheptan-2-ol
• 英文别名: 2-methyl-4-tris(trimethylsilyl)silylbutan-2-ol
• CAS: 263713-64-0
• 化学式: C₁₄H₃₈OSi₄
• 分子量: 334.797
• InChiKey: ZESXMVXJZJDAMF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.85
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,6,6-trimethyl-5,5-bis(trimethylsilyl)-5,6-disilaheptan-2-ol 、 5-降冰片烯-2-羧酸 在 氯化亚砜 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以72%的产率得到2,6,6-Trimethyl-5,5-bis(trimethylsilyl)-5,6-disilahept-2-yl Bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  Silicon-containing alcohols and polymers having silicon-containing tertiary ester groups made therefrom

  摘要：

  该发明的聚合物的特点是至少具有一个侧链酯基，该酯基具有连接到酯氧原子的三级碳原子，其中三级碳原子的至少一个取代基包含至少一个硅原子。本发明的聚合物组合物可用作光刻的抗蚀材料，特别是作为成像层或作为双层抗蚀方案中的顶层成像层，用于集成电路的制造。本发明的含硅三级醇和酯使得可以制备具有相对较高硅含量的聚合物。

  公开号：

  US06358675B1
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-3-丁烯-2-醇 、 三(三甲基硅基)硅烷 在 1,1'-偶氮(氰基环己烷) 氮气 、 甲苯 、 氧气 作用下， 反应 20.0h， 以afforded the title compound (25.1 g, 74%) as a colorless solid的产率得到2,6,6-trimethyl-5,5-bis(trimethylsilyl)-5,6-disilaheptan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Silicon-containing alcohols and polymers having silicon-containing tertiary ester groups made therefrom

  摘要：

  本发明的聚合物的特点在于具有至少一个悬挂酯基，其具有与酯氧原子相连的三级碳原子，其中三级碳原子的至少一个取代基包含至少一个硅原子。本发明的聚合物组合物可用作光刻的抗蚀材料，特别是用作成像层或双层抗蚀方案中的顶部成像层，在集成电路制造中使用。本发明的含硅三级醇和酯使得可以制备具有相对较高硅含量的聚合物。

  公开号：

  US06358675B1

文献信息

• Silicon-containing alcohols and polymers having silicon-containing tertiary ester groups made therefrom
  申请人：3M Innovative Properties Company

  公开号：US06358675B1

  公开（公告）日：2002-03-19

  The polymers of the invention are characterized by having at least one pendent ester group having a tertiary carbon atom attached to the ester oxygen atom in which at least one substituent of the tertiary carbon atom comprises at least one silicon atom. The polymer compositions of the present invention are useful as resist materials for lithography, in particular as the imaging layer or as the top imaging layer in a bilayer resist scheme for use in the manufacture of integrated circuits. The silicon-containing tertiary alcohols and esters of the present invention enable the preparation of polymers with relatively high silicon content.

  该发明的聚合物的特点是至少具有一个侧链酯基，该酯基具有连接到酯氧原子的三级碳原子，其中三级碳原子的至少一个取代基包含至少一个硅原子。本发明的聚合物组合物可用作光刻的抗蚀材料，特别是作为成像层或作为双层抗蚀方案中的顶层成像层，用于集成电路的制造。本发明的含硅三级醇和酯使得可以制备具有相对较高硅含量的聚合物。