trimethylsilyl 3-((2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)((trimethylsilyl)oxy)phosphoryl)propanoate | 1143570-73-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 四氢化萘
• 英文名称: trimethylsilyl 3-((2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)((trimethylsilyl)oxy)phosphoryl)propanoate
• 英文别名: trimethylsilyl 2,3-dihydro-1H-inden-2-yl[2-(trimethylsiloxycarbonyl)ethyl]phosphinate
• CAS: 1143570-73-3
• 化学式: C₁₈H₃₁O₄PSi₂
• 分子量: 398.586
• InChiKey: QHBHPHSLJXRCGY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.05
• 重原子数：
  25.0
• 可旋转键数：
  7.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.61
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trimethylsilyl 3-((2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)((trimethylsilyl)oxy)phosphoryl)propanoate 在 甲醇 、 sodium methylate 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 以98%的产率得到disodium 2,3-dihydro-1H-inden-2-yl(2-carboxyethyl)phosphinate
  参考文献：
  名称：

  功能化丙酸酯及其类似物的新型有机磷取代衍生物的合成

  摘要：

  三价有机磷酸的三甲基甲硅烷基酯与各种官能化丙烯酸酯及其环状类似物的亲核或自由基加成被提议作为在温和条件下合成新的 2-三甲基甲硅烷氧基羰基取代的烷基亚膦酸酯及其衍生物的便捷方法。此外，这些亚膦酸酯的新官能化衍生物，包括氨基、酰胺基和氨基酸片段以及这些化合物的某些性质，作为官能化丙酸酯及其类似物的新型有机磷取代衍生物的重要前体。© 2008 Wiley Periodicals, Inc. 杂原子化学 19:418–428, 2008; 在线发表于 Wiley InterScience (www.interscience.wiley.com)。DOI 10.1002/hc.20446

  DOI：

  10.1002/hc.20446
• 作为产物：
  描述：

  bis(trimethylsilyl) (indan-2-yl)phosphonite 在 亚磷酸二乙酯 作用下， 以 乙醚 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 trimethylsilyl 3-((2,3-dihydro-1H-inden-2-yl)((trimethylsilyl)oxy)phosphoryl)propanoate
  参考文献：
  名称：

  具有茚满部分的新型官能化羟基和氨基甲基次膦酸盐的合成

  摘要：

  AbstractThe convenient synthesis of new functionalized organophosphorus acids and their derivatives containing indan moieties was developed. The regioselective radical addition of bis(trimethylsiloxy)phosphine to indene proceeds to give rise to 2‐indanylphosphonite as key compound for preparation of above acids with bicyclic substituents. Azobis(isobutyronitrile) (AIBN) in the conditions of its thermolysis was used as effective initiator of the addition reaction. The further treatment of organophosphorus acids trimethylsilyl esters with the methanolic sodium methoxide solution resulted in the water‐soluble sodium salts of the corresponding acids.

  DOI：

  10.1002/hc.21419