phenyl-2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate | 1350652-58-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: phenyl-2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate
• 英文别名: phenyl 2,2-difluoro-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentanoate
• CAS: 1350652-58-2
• 化学式: C₁₅H₁₆F₂O₄
• 分子量: 298.286
• InChiKey: OQQNTGJGTOZSAO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,2-二氟-3-(甲基丙烯酰氧基)戊酸 、 苯酚 在 盐酸 、 4-二甲氨基吡啶 、 N,N'-二环己基碳二亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以58%的产率得到phenyl-2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  提供一种辐射敏感的树脂组合物，可在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面表现出优越的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中引起动态接触角的显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种含氟聚合物，其具有包括以下公式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）一种辐射敏感的酸发生剂。

  公开号：

  US20130122426A1

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, and polymer and compound
  申请人：Osaki Hitoshi

  公开号：US09040221B2

  公开（公告）日：2015-05-26

  A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

  提供了一种辐射敏感的树脂组合物，可以在液浸式光刻过程中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出很大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面能够展现出卓越的排水性能，同时该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中显著降低动态接触角，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且能够进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）含氟聚合物，其具有包括下式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）辐射敏感的酸发生剂。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Asano Yusuke

  公开号：US20120028189A1

  公开（公告）日：2012-02-02

  A radiation-sensitive resin composition includes (A) a fluorine-containing compound that includes a group shown by the following formula (1), and (B) a photoacid generator. wherein R C represents a (p+1)-valent aromatic ring group, Q represents a linking group obtained by removing one hydrogen atom from a monovalent hydrophilic group, R E represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, p is an integer from 1 to 5, provided that a plurality of Q and a plurality of R E may respectively be either the same or different when p is an integer from 2 to 5, and “*” indicates a bonding hand.
• US8580480B2
  申请人：——

  公开号：US8580480B2

  公开（公告）日：2013-11-12
• US9040221B2
  申请人：——

  公开号：US9040221B2

  公开（公告）日：2015-05-26
• US9261780B2
  申请人：——

  公开号：US9261780B2

  公开（公告）日：2016-02-16