4-Methyl-naphthoresorcin (1,3-dihydroxy-4-methyl-naphthalin) | 2089-76-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 4-Methyl-naphthoresorcin (1,3-dihydroxy-4-methyl-naphthalin)
• 英文别名: 1,3-Dihydroxy-4-methyl-naphthalin；2,4-Dihydroxy-1-methyl-naphthalin；4-Methylnaphthalene-1,3-diol
• CAS: 2089-76-1
• 化学式: C₁₁H₁₀O₂
• 分子量: 174.199
• InChiKey: IVHZKPMQDQQREG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.09
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Methyl-naphthoresorcin (1,3-dihydroxy-4-methyl-naphthalin) 在 硝酸 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 生成 1,3-Dihydroxy-4-methyl-2-nitro-naphthalin
  参考文献：
  名称：

  2-羟基-3-硝基-1,4-萘醌的合成及抗过敏活性。

  摘要：

  新型2-羟基-3-硝基-1,4-萘醌的选择被证明是大鼠被动皮肤过敏反应（PCA）的有效抑制剂，并且在C-6和C-7处具有最高的烷基取代效力。最有效的化合物是7c和7e，它们在大鼠PCA测试中以约10微米M / kg的剂量在皮下给药后产生50％的抑制作用，并在口服后显示出活性。相关的4-羟基-3-硝基-2（1H）-萘烯酮对大鼠PCA的影响最大为500 microM / kg。

  DOI：

  10.1021/jm00218a014
• 作为产物：
  描述：

  间萘二酚 在 platinum(IV) oxide 氢气 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 4-Methyl-naphthoresorcin (1,3-dihydroxy-4-methyl-naphthalin)
  参考文献：
  名称：

  Teuber,H.-J.; Steinmetz,G., Chemische Berichte, 1965, vol. 98, p. 666 - 684

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] SENSOR DYES FOR REAL-TIME SENSING OF METAL IONS IN AQUEOUS ENVIRONMENTS<br/>[FR] COLORANTS DE DÉTECTION POUR LA DÉTECTION EN TEMPS RÉEL D'IONS MÉTALLIQUES DANS DES ENVIRONNEMENTS AQUEUX
  申请人：UWM RES FOUND INC

  公开号：WO2017066672A1

  公开（公告）日：2017-04-20

  Provided herein are dyes for detecting and distinguishing metals in a sample, as well as compositions and methods comprising the same.

  本文提供了用于检测和区分样品中金属的染料，以及包含相同染料的组合物和方法。
• COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, SUBSTRATE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3508918A1

  公开（公告）日：2019-07-10

  The invention provides: a composition for forming an organic film, the composition having high filterability and enabling formation of an organic film which has high pattern-curving resistance, and which prevents a high-aspect line pattern particularly finer than 40 nm from line collapse and twisting after dry etching; a method for forming an organic film and a patterning process which use the composition; and a substrate for manufacturing a semiconductor device, including the organic film formed on the substrate. The composition for forming an organic film includes a condensate (A), which is a condensation product of dihydroxynaphthalene shown by the following formula (1) and a condensation agent, or a derivative of the condensate (A). A sulfur content among constituent elements contained in the condensate (A) or the derivative of the condensate (A) is 100 ppm or less in terms of mass.

  本发明提供了：一种用于形成有机薄膜的组合物，该组合物具有高过滤性，能够形成具有高图案抗弯曲性的有机薄膜，并且在干法蚀刻后能够防止特别细于40纳米的高光谱线图案发生线崩溃和扭曲；一种使用该组合物的形成有机薄膜的方法和图案化工艺；以及一种用于制造半导体器件的基板，包括在该基板上形成的有机薄膜。用于形成有机薄膜的组合物包括缩合物（A），它是下式（1）所示的二羟基萘和缩合剂的缩合产物，或缩合物（A）的衍生物。冷凝液（A）或冷凝液（A）的衍生物所含成分元素中的硫含量按质量计算不超过 100 ppm。
• Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US11018015B2

  公开（公告）日：2021-05-25

  The invention provides: a composition for forming an organic film, the composition having high filterability and enabling formation of an organic film which has high pattern-curving resistance, and which prevents a high-aspect line pattern particularly finer than 40 nm from line collapse and twisting after dry etching; a method for forming an organic film and a patterning process which use the composition; and a substrate for manufacturing a semiconductor device, including the organic film formed on the substrate. The composition for forming an organic film includes a condensate (A), which is a condensation product of dihydroxynaphthalene shown by the following formula (1) and a condensation agent, or a derivative of the condensate (A). A sulfur content among constituent elements contained in the condensate (A) or the derivative of the condensate (A) is 100 ppm or less in terms of mass.

  本发明提供了：一种用于形成有机薄膜的组合物，该组合物具有高过滤性，能够形成具有高图案抗弯曲性的有机薄膜，并且在干法蚀刻后能够防止特别细于40纳米的高光谱线图案发生线崩溃和扭曲；一种使用该组合物的形成有机薄膜的方法和图案化工艺；以及一种用于制造半导体器件的基板，包括在该基板上形成的有机薄膜。用于形成有机薄膜的组合物包括缩合物（A），它是下式（1）所示的二羟基萘和缩合剂的缩合产物，或缩合物（A）的衍生物。冷凝液（A）或冷凝液（A）的衍生物所含成分元素中的硫含量按质量计算不超过 100 ppm。
• BUCKLE D. R.; CANTELLO B. C. C.; SMITH H.; SMITH R. J.; SPICER B. A., J. MED. CHEM. <JMCM-AR>, 1977, 20, NO 8, 1059-1064
  作者：BUCKLE D. R.、 CANTELLO B. C. C.、 SMITH H.、 SMITH R. J.、 SPICER B. A.

  DOI：——

  日期：——
• SENSOR DYES FOR REAL-TIME SENSING OF METAL IONS IN AQUEOUS ENVIRONMENTS
  申请人：The UWM Research Foundation, Inc

  公开号：EP3362518B1

  公开（公告）日：2022-04-27