aminobicyclo[2.2.1]hept-5-ene | 803611-98-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: aminobicyclo[2.2.1]hept-5-ene
• 英文别名: aminonorcamphen；Bicyclo[2.2.1]hept-2-en-1-amine
• CAS: 803611-98-5
• 化学式: C₇H₁₁N
• 分子量: 109.171
• InChiKey: AYWZMOHWFNTOCH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  aminobicyclo[2.2.1]hept-5-ene 在 氨 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 乙醇 、 正丁醇 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 9-(bicyclo[2.2.1]hept-2-en-1-yl)-9H-purin-6-amine
  参考文献：
  名称：

  在 N-9 位带有多环取代基的新型嘌呤类柯萨奇病毒抑制剂的合成

  摘要：

  描述了在 N-9 位置带有各种双环和多环取代基的新型嘌呤衍生物库的合成。该系列包括在桥头位置连接的降冰片烷、双环[2.2.2]辛烷和双环[3.2.1]辛烷以及直接或通过连接的双环[3.1.1]庚烷、四氢-1-萘和金刚烷6-氯嘌呤核碱基的线性链。许多制备的衍生物对肠道病毒具有显着的活性。尽管试图将针对小核糖核酸病毒的活性与其磷脂酰肌醇 4-激酶 KIIIβ 抑制活性相关联，但很明显，这种宿主因子的抑制不能解释观察到的抗病毒效力。

  DOI：

  10.1002/ardp.201300431

文献信息

• METHODS FOR ARRANGING AND PACKING NUCLEIC ACIDS FOR UNUSUAL RESISTANCE TO NUCLEASES AND TARGETED DELIVERY FOR GENE THERAPY
  申请人：The Regents of the University of California

  公开号：US20150190525A1

  公开（公告）日：2015-07-09

  There are disclosed compositions and methods to render nucleic acids resistant to nuclease digestion while maintaining sequence selective hybridization competency. The approach relies on utilizing nucleic acids as the polar head group of a nucleic acid-polymer amphiphile in order to assemble well-defined, discrete micellar nanoparticles. Dense packing of nucleic acid in the micelle corona allows for hybridization of complementary oligonucleotides while prohibiting enzymatic degradation.

  本文披露了一种使核酸在维持序列选择性杂交能力的同时抵抗核酸酶消化的组合物和方法。该方法依赖于利用核酸作为核酸-聚合物两性分子的极性头基，以组装明确定义的离散胶束纳米粒子。在胶束包层中核酸的密集包装允许互补寡核苷酸的杂交，同时禁止酶降解。
• Polymeric binders for ink jet inks
  申请人：ROHM AND HAAS COMPANY

  公开号：EP1108759A2

  公开（公告）日：2001-06-20

  An emulsion-polymerized addition copolymer formed from a monomer mixture comprising ethylenically unsaturated monomers including from more than 4 to 15 wt % based on the weight of said mixture of at least one ethylenically unsaturated carboxylic acid functional monomer, and from 0.05 to 5 wt % based on the weight of said mixture of at least one polymerizable surfactant monomer, comprising hydrophobic and hydrophilic functional groups, wherein said hydrophilic functional group comprises a polymerizable group within it, is useful as a binder in an ink jet ink having improved print quality.

  一种乳液聚合加成共聚物，由单体混合物形成，该单体混合物包括乙烯基不饱和单体，其中至少包括一种乙烯基不饱和羧酸官能团单体（基于所述混合物重量）4 至 15 wt %，以及至少一种可聚合表面活性剂单体（基于所述混合物重量）0.05 至 5 wt %（以至少一种可聚合表面活性剂单体的混合物重量为基准）的乙烯基不饱和单体，包括疏水和亲水官能团，其中所述亲水官能团内包含可聚合基团，可用作改善打印质量的喷墨墨水中的粘合剂。
• Photoresists containing sulfonamide component
  申请人：Shipley Company L.L.C.

  公开号：US20040161698A1

  公开（公告）日：2004-08-19

  Photoresist compositions that contain one or more components having sulfonamide and Si substitution. Preferred photoresist compositions of the invention contain an Si-polymer such as a silsesquioxane that has sulfonamide substitution and may be employed in multilayer resist systems. In preferred aspects, the Si-polymer has both sulfonamide substitution as well as moieties that can provide contrast upon exposure to photogenerated acid.

  光刻胶组合物，含有一种或多种具有磺酰胺和硅取代的成分。本发明优选的光刻胶组合物含有一种 Si- 聚合物，如具有磺酰胺取代性的硅倍半氧烷，可用于多层光刻胶体系。在优选方面，Si-聚合物既具有磺酰胺取代基，又具有在暴露于光生酸时可提供对比度的分子。
• Photoresists containing Si-polymers
  申请人：Shipley Company, L.L.C.

  公开号：US20040209187A1

  公开（公告）日：2004-10-21

  In a first aspect, silicon polymers are provided that have controlled ratio of silanol (Si—OH) moieties:Si atoms and/or a controlled amount of alkaline aqueous-solubilizing groups. Si-polymers of the invention are particularly useful as a photoresist resin component. In a further aspect, halogenated sulfonamide and thiol compounds and Si-containing polymers comprising such reacted monomers are provided.

  第一方面，本发明提供的硅聚合物具有可控的硅醇（Si-OH）分子与硅原子的比例和/或可控量的碱性水溶性基团。本发明的硅聚合物尤其可用作光阻树脂成分。另一方面，本发明提供了卤代磺酰胺和硫醇化合物以及包含此类反应单体的含 Si- 聚合物。
• Fluorinated Si-polymers and photoresists comprising same
  申请人：——

  公开号：US20040224255A1

  公开（公告）日：2004-11-11

  Photoimageable compositions are provided that contain Si-polymers that have a specified ratio of fluorine atoms to Si atoms. Preferred photoresists of the invention can exhibit enhanced resistance to plasma etchants.

  本发明提供的可光刻组合物含有具有特定氟原子与硅原子比例的硅聚合物。本发明的优选光致抗蚀剂可表现出更强的抗等离子蚀刻剂性能。