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1-diethylamino-8-(ethylamino)naphthalene | 79687-91-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-diethylamino-8-(ethylamino)naphthalene
英文别名
1-ethylamino-8-diethylaminonapthalene;1-N,1-N,8-N-triethylnaphthalene-1,8-diamine
1-diethylamino-8-(ethylamino)naphthalene化学式
CAS
79687-91-5
化学式
C16H22N2
mdl
——
分子量
242.364
InChiKey
FQZHHYOATIUGTM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    371.0±22.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.051±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.4
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.38
  • 拓扑面积:
    15.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-diethylamino-8-(ethylamino)naphthalene氢氧化钾 作用下, 以 为溶剂, 反应 4.0h, 生成 1,8-bis(diethylamino)naphthalene
    参考文献:
    名称:
    Pozharskii, A. F.; Kurasov, L. A.; Kuz'menko, V. V., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1981, p. 884 - 891
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    1,8-bis(diethylamino)naphthalene氢溴酸 、 potassium iodide 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 反应 1.5h, 以87%的产率得到1-diethylamino-8-(ethylamino)naphthalene
    参考文献:
    名称:
    N,N,N'-三烷基-1,8-二氨基萘:质子化质子海绵的便捷制备方法和第一个X射线信息
    摘要:
    描述了合成N,N,N'-三烷基-1,8-二氨基萘的简单程序。它包括用HBr – KI – DMF系统加热时,可商购的质子海绵[1,8-双(二​​甲基氨基)萘]及其一些衍生物的部分脱甲基(脱烷基)反应的局限性,范围和可能的反应机理。讨论。对于异构体8-二甲基氨基-1-甲基氨基-和1-二甲基氨基-8-甲基氨基-4-硝基萘,已经进行了X射线测量。报道了在萘质子海绵中完全实现反应的第一个例子。
    DOI:
    10.1016/j.tet.2005.02.067
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文献信息

  • Photocrosslinkable compositions, patterned high k thin film dielectrics and related devices
    申请人:E.T.C. S.r.l.
    公开号:EP2960280A1
    公开(公告)日:2015-12-30
    The present teachings relate to a photocrosslinkable composition including a partially fluorinated polymer, a photosensitive dehydrohalogenating agent, and a crosslinker. The photocrosslinkable composition can be used to prepare a patterned thin film having a high dielectric constant, for example, a dielectric constant greater than 10.
    本发明涉及一种光可交联组合物,包括部分氟化聚合物、光敏脱氢卤化剂和交联剂。该光可交联组合物可用于制备具有高介电常数(例如介电常数大于 10)的图案化薄膜。
  • Photopatternable compositions, patterned high k thin film dielectrics and related devices
    申请人:Flexterra, Inc.
    公开号:US10409159B2
    公开(公告)日:2019-09-10
    The present teachings relate to a photopatternable composition including a vinylidene fluoride-based polymer, a photosensitive non-nucleophilic base, and a crosslinking agent. The photopatternable composition can be used to prepare a patterned thin film component for use in an electronic, optical, or optoelectronic device such as an organic thin film transistor. The patterned thin film component can be used as a gate dielectric with a high dielectric constant, for example, a dielectric constant greater than 10.
    本发明涉及一种光图案化组合物,包括一种亚乙烯基氟化物基聚合物、一种光敏非亲核碱和一种交联剂。该光可图案化组合物可用于制备图案化薄膜元件,以用于电子、光学或光电设备,如有机薄膜晶体管。图案化薄膜元件可用作具有高介电常数(例如介电常数大于 10)的栅极电介质。
  • METHOD OF FORMING A PATTERNED THIN FILM COMPONENT AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR
    申请人:Flexterra, Inc.
    公开号:EP3161061B1
    公开(公告)日:2020-11-18
  • PHOTOPATTERNABLE COMPOSITIONS, PATTERNED HIGH K THIN FILM DIELECTRICS AND RELATED DEVICES
    申请人:Flexterra, Inc.
    公开号:US20170192354A1
    公开(公告)日:2017-07-06
    The present teachings relate to a photopatternable composition including a vinylidene fluoride-based polymer, a photosensitive non-nucleophilic base, and a crosslinking agent. The photopatternable composition can be used to prepare a patterned thin film component for use in an electronic, optical, or optoelectronic device such as an organic thin film transistor. The patterned thin film component can be used as a gate dielectric with a high dielectric constant, for example, a dielectric constant greater than 10.
  • [EN] PHOTOPATTERNABLE COMPOSITIONS, PATTERNED HIGH K THIN FILM DIELECTRICS AND RELATED DEVICES<br/>[FR] COMPOSITIONS PHOTOSTRUCTURABLES, DIÉLECTRIQUES EN COUCHE MINCE DE CONSTANTE K ÉLEVÉE À MOTIFS ET DISPOSITIFS S'Y RAPPORTANT
    申请人:POLYERA CORP
    公开号:WO2015200872A1
    公开(公告)日:2015-12-30
    The present teachings relate to a photopatternable composition including a vinylidene fluoride-based polymer, a photosensitive non-nucleophilic base, and a crosslinking agent. The photopatternable composition can be used to prepare a patterned thin film component for use in an electronic, optical, or optoelectronic device such as an organic thin film transistor. The patterned thin film component can be used as a gate dielectric with a high dielectric constant, for example, a dielectric constant greater than 10.
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