3-甲基-2-硝基苯甲腈 | 1885-77-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 3-甲基-2-硝基苯甲腈
• 英文名称: 3-methyl-2-nitrobenzonitrile
• 英文别名: 2-nitro-3-methylbenzonitrile
• CAS: 1885-77-4
• 化学式: C₈H₆N₂O₂
• mdl: MFCD09880086
• 分子量: 162.148
• InChiKey: MIDHYAOVUFWYPU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.125
• 拓扑面积：
  69.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2926909090
• 包装等级：
  III
• 危险类别：
  6.1
• 危险性防范说明：
  P501,P261,P270,P271,P264,P280,P337+P313,P305+P351+P338,P361+P364,P332+P313,P301+P310+P330,P302+P352+P312,P304+P340+P311,P403+P233,P405
• 危险品运输编号：
  3439
• 危险性描述：
  H301+H311+H331,H315,H319

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-甲基-2-硝基苯甲腈 在 ammonium sulfide 作用下， 生成 2-氨基-3-甲基苯甲酰胺
  参考文献：
  名称：

  Juergens, Chemische Berichte, 1907, vol. 40, p. 4413

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.5h， 以45%的产率得到3-甲基-2-硝基苯甲腈
  参考文献：
  名称：

  利用四聚氰基三聚氰胺配合物环戊二烯基氰基和环己二烯基氰基。练习曲和化学曲

  摘要：

  四乙基氰化铵的除了（溶液η 5 -环戊二烯基）（η 6 -芳烃）铁（1+），在乙腈可以通过伏安法进行研究。在硝基苯，酮，砜，偶氮和氮氧基等吸电子基团与芳烃键合的情况下，反应立即发生，并且在相对于SCE的0–1 V范围内观察到由己二烯基物种氧化产生的波。以良好的产率实现了各种己二烯基化合物的制备。为了获得邻位取代的苄腈，对己二烯基配合物的电化学和化学氧化进行了比较。使用N获得最佳结果-溴代琥珀酰亚胺（NBS）通常会发生脱金属。的苄腈化合物的单釜合成可以加入氰离子，然后向NBS（溶液后可达到η 5 -环戊二烯基）（η 6 -arene）铁（1+）的乙腈。[CpFe的量{ η 6 -C 6 H ^ 5 N（O）= NC 6 H ^ 4 CN-2}] +是直接从氧化偶氮双阳离子化合物获得的[CpFe的量）2（PHN（O）NPH）] 2+。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(95)05553-2

文献信息

• A Novel Iron-catalyzed One-pot Synthesis of 3-Amino-1,2,4-triazoles
  作者：Taoufik Rohand、Victor N. Mkpenie、Mohammadine El Haddad、István E. Markó

  DOI：10.1002/jhet.3450

  日期：2019.2

  A novel one‐pot synthesis of 3‐amino‐1,2,4‐triazole developed via iron (III) catalyzed route is reported. The new method is more efficient, simple, and convenient and presents a concise new strategy for the synthesis of 3‐amino‐1,2,4‐triazole derivatives. The iron (III) complex intermediate assisted in the intramolecular bond cyclization owing to its Lewis acidity or oxidizing properties. A series

  据报道，通过铁（III）催化途径开发的一种新型一锅法合成3-氨基1,2,4-三唑。该新方法更加高效，简单和方便，为合成3‐氨基1,2,4‐三唑衍生物提出了一种简洁的新策略。铁（III）配合物中间体由于其路易斯酸度或氧化特性而有助于分子内键的环化。还研究了一系列在对位和/或邻位带有取代的给电子和吸电子基团的芳族腈。取代基的位置影响最终化合物的收率，对位取代的底物收率相对较高。
• Certain 1H-pyrrold[3,4-b]quinolin-1-one-9-amino-2,3-dihydro derivatives
  申请人：ICI Americas Inc.

  公开号：US04975435A1

  公开（公告）日：1990-12-04

  The present invention comprises certain quinoline lactams of formula I; pharmaceutically acceptable salts of the compounds of formula I; pharmaceutical compositions containing a compound of formula I, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, for use in the treatment of anxiety; and processes for the manufacture of the compounds of formula I, as well as intermediates for use in such manufacture.

  本发明涵盖了某些式I的喹啉内酰胺；式I化合物的药学上可接受的盐；含有式I化合物或其药学上可接受的盐的药物组合物，用于治疗焦虑；以及用于制造式I化合物的工艺，以及用于此类制造的中间体。
• [EN] KAT II INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE KAT II
  申请人：PFIZER

  公开号：WO2012073146A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  The present invention relates to compounds 3-amino-1-hydroxy-2- oxo-1,2,3,4-tetrahydroquinoline-7-carbonitrile, 3-amino-1-hydroxy-7-(2- methoxyethoxy)-3,4-dihydroquinolin-2(1H)-one, and 3-amino-1-hydroxy-7-[(1S)-2-methoxy-1-methylethoxy]-3,4-dihydroquinolin-2(1H)-one, including racemic mixtures and resolved enantiomers thereof, to pharmaceutically acceptable salts thereof, and to the treatment of cognitive deficits associated with schizophrenia and other psychiatric, neurodegenerative and/or neurological disorders in mammals, including humans.

  本发明涉及化合物3-氨基-1-羟基-2-氧代-1,2,3,4-四氢喹啉-7-碳腈、3-氨基-1-羟基-7-(2-甲氧基乙氧基)-3,4-二氢喹啉-2(1H)-酮和3-氨基-1-羟基-7-[(1S)-2-甲氧基-1-甲基乙氧基]-3,4-二氢喹啉-2(1H)-酮，包括它们的外消旋混合物和已分离的对映体，以及它们的药物可接受的盐，并且用于治疗哺乳动物，包括人类，与精神分裂症和其他精神、神经退行性和/或神经性疾病相关的认知缺陷。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。