bis(4-hydroxyphenyl)iodonium | 138888-92-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: bis(4-hydroxyphenyl)iodonium
• 英文别名: 4,4'-Dihydroxy-diphenyliodonium；Bis(4-hydroxyphenyl)iodanium
• CAS: 138888-92-3
• 化学式: C₁₂H₁₀IO₂
• 分子量: 313.115
• InChiKey: YHOITYOXMQABRO-UHFFFAOYSA-O

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis(4-hydroxyphenyl)iodonium 在 potassium tert-butylate 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 tris(4-tert-butoxycarbonyloxyphenyl)sulfonium
  参考文献：
  名称：

  三（4-叔丁氧基羰基氧基苯基）sulph盐的光解。机械研究

  摘要：

  用紫外线在乙腈或二甲基亚砜溶液中辐照结构为Ar 3 S + X –（X –：CF 3 SO 3 –或AsF 6 –）的三（4-叔丁氧基羰基氧基苯基））盐。通过离子对色谱（IPC），1 H NMR测量和红外光谱进行的产物分析表明，同时形成了双（4-叔丁氧基羰基氧基苯基）硫化物，Ar 2 S和质子酸（CF 3 SO 3 H或HAsF 6）。 。后者催化了在室温下在无水的情况下碳酸叔丁酯基团。在水的存在下，酸解离，从而形成H 3 O +离子，仅在升高的温度（T > 70°C）时才明显催化分解。因此，在无水条件下形成的光解产物除了（4-HO–C 6 H 4）2 S以外，还基本上由离子的盐混合物组成：Ar 2（4-HO–C 6 H 4）S +，Ar（4-HO–C 6 H 4）2 S +和（4-HO–C 6 H 4）3 S +。除了这些产品，（卜吨OCO 2 -C 6 H ^ 4）2 S和当在水的存在

  DOI：

  10.1039/p29910001803

文献信息

• Resist composition and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10509314B2

  公开（公告）日：2019-12-17

  A resist composition comprising a base polymer and a sulfonium or iodonium salt of sulfonic acid containing a cyclic hydrocarbon-substituted amino group offers dimensional stability on PPD and a satisfactory resolution.

  一种抗蚀剂组合物由基质聚合物和磺酸的锍盐或碘盐组成，磺酸含有环烃取代的氨基，在 PPD 上具有尺寸稳定性和令人满意的分辨率。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Serizawa Ryuichi

  公开号：US20120082936A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  A radiation-sensitive resin composition includes an acid-labile group-containing resin, and a compound shown by the following general formula (i). R 1 represents a hydrogen atom or the like, R 2 represents a single bond or the like, R 3 represents a linear or branched unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or the like, and X + represents an onium cation.
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20220413383A1

  公开（公告）日：2022-12-29

  Disclosed are a salt represented by formula (I), an acid generator, and a resist composition comprising the same: wherein R 1 and R 2 each represent a hydroxy group, *—O—R 10 , *—O-L 10 -CO—O—R 10 ; L 10 represents an alkanediyl group; R 10 represents an acid-labile group; R 4 , R 5 , R 7 and R 8 each represent a halogen atom, a haloalkyl group or a hydrocarbon group; A 1 and A 2 each represent a hydrocarbon group, the hydrocarbon group may have a substituent, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —CO—, —S— or —SO 2 —; m1 represents an integer of 1 to 5, m2 and m8 represent an integer of 0 to 5, m4, m5 and m7 represent an integer of 0 to 4, 1≤m1+m7≤5, 0≤m2+m8≤5; and AI − represents an organic anion.
• US5914219A
  申请人：——

  公开号：US5914219A

  公开（公告）日：1999-06-22
• US8921027B2
  申请人：——

  公开号：US8921027B2

  公开（公告）日：2014-12-30