【課題】良好な形状でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Adは、アダマンタントリイル基を表す。R1は、それぞれ独立に、環状エーテル構造を含む有機基又は水素原子を表す。但し、R1の少なくとも1つは、環状エーテル構造を含む有機基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
旨在提供一种能够制造出具有良好形状的感光胶图案的盐类、酸发生剂以及包含它们的感光胶组合物。所述解决方案为由式(I)表示的盐类、酸发生剂以及包含它们的感光胶组合物。【式(I)中,Q1和Q2分别独立表示
氟原子或含有1至6个碳原子的
全氟烷基。Lb1表示含有1至24个碳原子的二价饱和碳氢基,该饱和碳氢基中的-
CH2-可以被-O-或-CO-取代,该饱和碳氢基中的氢原子可以被
氟原子或羟基取代。Ad表示孔雀石酰基。R1分别独立表示含有环状醚结构的有机基或氢原子。但是,R1中至少有一个表示含有环状醚结构的有机基。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无