Benzolsulfonyl(methansulfonyl)amin | 14561-75-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Benzolsulfonyl(methansulfonyl)amin
• 英文别名: (benzenesulfonyl)(methansulfonyl)amine；N-(methylsulfonyl)benzenesulfonamide；benzenesulfonyl-methanesulfonyl-amine；N-methylsulfonylbenzenesulfonamide
• CAS: 14561-75-2
• 化学式: C₇H₉NO₄S₂
• 分子量: 235.285
• InChiKey: DJUMGKIMDKFAKI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  141-142 °C
• 沸点：
  399.7±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.460±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  97.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-乙基-2-唑啉 、 Benzolsulfonyl(methansulfonyl)amin 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 以78%的产率得到N-(2-(N-(methylsulfonyl)phenylsulfonamido)ethyl)propionamide
  参考文献：
  名称：

  通过 2-恶唑啉与酸性磺酰亚胺亲核试剂的开环磺酰亚胺化

  摘要：

  发现酸性磺酰亚胺亲核试剂包括二苯磺酰亚胺、邻苯磺酰亚胺、二甲磺酰亚胺和 N-（甲基磺酰基）-苯磺酰胺可打开各种烷基-、芳基杂芳基-2-恶唑啉环，以在回流 1,4-二恶烷中提供磺酰亚胺化产物. 富电子 2-恶唑线底物适用于亲核开环反应，而缺电子 2-恶唑啉底物没有发生反应。

  DOI：

  10.3998/ark.5550190.p009.609
• 作为产物：
  描述：

  苯磺酰胺 、 甲基磺酰氯 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 以35%的产率得到Benzolsulfonyl(methansulfonyl)amin
  参考文献：
  名称：

  通过 2-恶唑啉与酸性磺酰亚胺亲核试剂的开环磺酰亚胺化

  摘要：

  发现酸性磺酰亚胺亲核试剂包括二苯磺酰亚胺、邻苯磺酰亚胺、二甲磺酰亚胺和 N-（甲基磺酰基）-苯磺酰胺可打开各种烷基-、芳基杂芳基-2-恶唑啉环，以在回流 1,4-二恶烷中提供磺酰亚胺化产物. 富电子 2-恶唑线底物适用于亲核开环反应，而缺电子 2-恶唑啉底物没有发生反应。

  DOI：

  10.3998/ark.5550190.p009.609

文献信息

• [EN] METALLO-BETA-LACTAMASE INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE MÉTALLO-BÊTA-LACTAMASES
  申请人：MERCK SHARP & DOHME

  公开号：WO2016206101A1

  公开（公告）日：2016-12-29

  The present invention relates to compounds of formula I that are metallo-β-lactamase inhibitors, the synthesis of such compounds, and the use of such compounds for use with β-lactam antibiotics for overcoming resistance.

  本发明涉及一种属于金属β-内酰胺酶抑制剂的I式化合物，以及这种化合物的合成和将其与β-内酰胺类抗生素一起用于克服耐药性的用途。
• COATING COMPOSITION FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20170059991A1

  公开（公告）日：2017-03-02

  Organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions for use with an overcoated photoresist, are provided that comprise that comprise a crosslinker component that comprises a structure of the following Formula (I):

  有机涂层组合物，特别是用于与覆盖光阻的抗反射涂层组合物，其包括包括以下化学式（I）结构的交联剂组分。
• Polysulfonylamine, LXXVI [1] Zwei supramolekulare Isomere im gleichen Kristall: Darstellung und Struktur des monomeren 18-Krone-6-Komplexes (CH₂CH₂O)₆·2 MeN(SO₂Me)(SO₂Ph) / Polysulfonylamines, LXXVI [1] Occurrence of Two Supramolecular Isomers in One Crystal: Synthesis and Structure of the Monomeric 18-Crown-6 Complex (CH₂CH₂O)₆ • 2 MeN(SO₂Me) (SO₂Ph)
  作者：Dagmar Henschel、Oliver Hiemisch、Armand Blaschette、Peter G. Jones

  DOI：10.1515/znb-1996-0916

  日期：1996.9.1

  The title complex, obtained by co-crystallization of its molecular components from methanol, was characterized by low-temperature X-ray diffraction. The crystal structure (triclinic, space group P1̄, Z = 2) consists of two monomeric and crystallographically centrosymmetric formula units A and B which may be classified as supramolecular stereo- and/or linkage isomers. In both units, the receptor rings adopt the frequently observed D_3d pseudosymmetry, and the symmetry-related substrate molecules are situated above and below the polyether rings. The isomerism of the supermolecules arises from markedly different confomations of their substrate components. In B, the methyl groups display a transoid orientation (torsional angle for C - N - S - C : 135.5°) and the N-methyldisulfonylamine is solely attached by three S - C - H ··· O interactions to a set of three alternating crown oxygen atoms. In isomer A, the C -N - S - C_methyl sequence is cisoid (torsional angle: 83.1°) and the substrate is connected to the crown ether by three S - C - H ··· O bonds and an additional N - C - H ··· O interaction. The H ··· O distances and C -H ··· O angles of the seven independent hydrogen bonds lie within the intervals 230-260 pm and 140-180°, respectively. A supermolecule involving MeN (SO₂Ph)₂ and 18-crown-6 could not be isolated, whereas the binary complex (CH₂CH₂O)₆•2 MeN(SO₂F)₂ is readily obtained by co-crystallization of the components. The latter complex showed severe disorder of the N(SO₂F)₂ moieties and its structure could not be refined satisfactorily.

  通过在甲醇中共结晶其分子组分得到的标题配合物，通过低温X射线衍射进行了表征。晶体结构（三斜晶系，空间群P1̄，Z = 2）由两个单体和晶体学中心对称的式单位A和B组成，可归类为超分子立体和/或连接异构体。在两个单元中，受体环采用了常见的D_3d伪对称性，并且对称相关的底物分子位于聚醚环的上方和下方。超分子的异构性来自于其底物组分明显不同的构象。在B中，甲基基团显示出反式定向（C-N-S-C的扭转角：135.5°），N-甲基二磺酰胺仅通过三个S-C-H···O相互作用连接到一组三个交替的冠醚氧原子。在异构体A中，C-N-S-C_methyl序列为顺式（扭转角：83.1°），底物通过三个S-C-H···O键和一个额外的N-C-H···O相互作用连接到冠醚中。七个独立氢键的H···O距离和C-H···O角度分别位于230-260 pm和140-180°的区间内。无法分离包含MeN（SO₂Ph）₂和18-冠-6的超分子，而二元复合物（CH₂CH₂O）₆•2 MeN（SO₂F）₂可以通过组分的共结晶轻松获得。后者复合物的N（SO₂F）₂部分存在严重的无序性，其结构无法得到令人满意的精细。
• MONOMERS, POLYMERS AND LITHOGRAPHIC COMPOSITIONS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20190202955A1

  公开（公告）日：2019-07-04

  New monomer and polymer materials that comprise one or more Te atoms. In one aspect, tellurium-containing monomers and polymers are provided that are useful for Extreme Ultraviolet Lithography.

  提供了一种包含一个或多个碲原子的新单体和聚合物材料。在一个方面，提供了含碲的单体和聚合物，这些材料对于极紫外光刻技术非常有用。
• SALTS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20190163058A1

  公开（公告）日：2019-05-30

  New Te-salt compounds are provided, including photoactive tellurium salt compounds useful for Extreme Ultraviolet Lithography.

  新的Te-盐化合物已经提供，其中包括对极紫外光刻有用的光敏Te-盐化合物。