7-amino-2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazole sulfuric acid salt | 689293-72-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机硫酸及其衍生物
• 英文名称: 7-amino-2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazole sulfuric acid salt
• 英文别名: 7-amino-2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazole hydrosulfate；2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazol-7-amine sulfate；2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazol-7-amine;sulfuric acid
• CAS: 689293-72-9
• 化学式: C₅H₈N₄*H₂O₄S
• 分子量: 222.225
• InChiKey: CYUSVPRYCYBUJZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.76
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  139
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  7-amino-2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazole sulfuric acid salt 在 三乙胺 、 氯甲酸甲酯 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 N-(4,5,6,7-tetrahydropyrazolo[1,5-a]pyrimidin-3-yl)-2-(tritylamino)acetamide
  参考文献：
  名称：

  WO2007/119511

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  7-nitro-2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazole 在 palladium 10% on activated carbon 硫酸 、 氢气 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 96.0h， 生成 7-amino-2,3-dihydro-1H-imidazo[1,2-b]pyrazole sulfuric acid salt
  参考文献：
  名称：

  [EN] CEPHEM COMPOUNDS
  [FR] COMPOSES CEPHEME

  摘要：

  本发明涉及一种具有以下式[I]的化合物：其中R1是较低的烷基、羟基(较低)烷基或卤代(较低)烷基，R2是氢或氨基保护基，或者R1和R2结合在一起形成较低的烷基或较低的烯基；R3是氢或较低的烷基；R4是；R5是羧基或保护羧基；R6是氨基或保护氨基，或其药学上可接受的盐，一种制备上述式[I]化合物的方法，以及包含上述式[I]化合物与药学上可接受的载体混合物的药物组合物。

  公开号：

  WO2004039814A1

文献信息

• Hair dye containing aminopyrazole derivatives as well as pyrazole
  申请人：Wella Aktiengesellschaft

  公开号：US05380340A1

  公开（公告）日：1995-01-10

  The composition for oxidative dyeing of hair contains at least one coupler and 0.010 to 3.0 percent by weight of at least one developer selected from the group consisting of aminopyrazole derivatives of the formula (I): ##STR1## wherein R is selected from the group consisting of hydrogen and alkyl groups having one to four carbon atoms; n=2 or 3; and physiologically tolerated, water-soluble salts thereof. The developer and coupler substances are present in the composition in a total amount of from 0.1 to 5.0 percent. New pyrazole derivative compounds are also part of the invention.

  染发氧化染料的组成物至少包含一种偶联剂和0.010至3.0重量百分比的至少一种选择自氨基吡唑衍生物的开发剂，其化学式为(I)：其中R选择自氢和碳原子数为1至4的烷基基团的群；n=2或3；以及其生理耐受的水溶性盐。开发剂和偶联剂物质在组成物中的总量为0.1至5.0百分比。新的吡唑衍生物化合物也属于该发明的一部分。
• Cephem compounds
  申请人：Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd

  公开号：US20040132994A1

  公开（公告）日：2004-07-08

  The present invention relates to a compound of the formula [I]: 1 wherein R 1 is lower alkyl, hydroxy(lower)alkyl or halo(lower)alkyl, and R 2 is hydrogen or amino protecting group, or R 1 and R 2 are bonded together and form lower alkylene or lower alkenylene; R 3 is hydrogen or lower alkyl; R 4 is 2 R 5 is carboxy or protected carboxy; and R 6 is amino or protected amino, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, a process for preparing a compound of the formula [I], and a pharmaceutical composition comprising a compound of the formula [I] in admixture with a pharmaceutically acceptable carrier.

  本发明涉及一种化合物，其分子式为[I]：1其中R1是低级烷基，羟基（低级）烷基或卤代（低级）烷基，而R2是氢或氨基保护基，或R1和R2相互结合形成低级亚烷基或低级烯基亚烷基；R3是氢或低级烷基；R4是2；R5是羧基或保护羧基；而R6是氨基或保护氨基，或其药学上可接受的盐，一种制备分子式[I]化合物的方法，以及包含分子式[I]化合物与药学上可接受的载体混合的制药组合物。
• Cephem Compounds and Use as Antimicrobial Agents
  申请人：Yamanaka Toshio

  公开号：US20090012054A1

  公开（公告）日：2009-01-08

  The present invention provides a compound of the formula [I]: wherein R1 is lower alkyl, etc. and R2 is hydrogen, etc., or R1 and R2 are bonded together to form lower alkylene; R3 is a group represented by wherein R6 and R7 are independently optionally protected amino, etc.; m and n are independently an integer of 0 to 6; R8 and R9 are independently optionally protected amino, etc., and q and r are independently an integer of 0 to 6, or R8 and R9, together with the adjacent alkylene(s) and the nitrogen atom, form saturated nitrogen-containing heterocycle optionally having substituent(s); R4 is lower alkyl, etc.; and R5 is amino, etc., or a pharmaceutically acceptable salt thereof.

  本发明提供了一种化合物，其化学式为[I]：其中R1是低碳基等，R2是氢等，或者R1和R2结合形成低碳基烯；R3是一个由表示的基团，其中R6和R7分别是可选的保护氨基等；m和n分别是0到6的整数；R8和R9分别是可选的保护氨基等，q和r分别是0到6的整数，或者R8和R9与相邻的烷基和氮原子结合形成饱和的含氮杂环，该杂环可以有取代基；R4是低碳基等；R5是氨基等，或其药学上可接受的盐。