1-(tert-butylimino)-3-methylbutan-2-one | 110383-29-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 1-(tert-butylimino)-3-methylbutan-2-one
• 英文别名: (1E)-1-(tert-Butylimino)-3-methylbutan-2-one；1-tert-butylimino-3-methylbutan-2-one
• CAS: 110383-29-4
• 化学式: C₉H₁₇NO
• 分子量: 155.24
• InChiKey: DAKGOGLPIGXYEN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  208.0±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.86±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  29.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(tert-butylimino)-3-methylbutan-2-one 在 potassium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 反应 25.0h， 生成 bis(1-(tert-butylimino)-2,3-dimethylbutan-2-olate)cobalt(II)
  参考文献：
  名称：

  含有 α-亚氨基醇盐配体的挥发性和热稳定的中晚期过渡金属配合物，一种新型强还原助剂，以及 Ni、Co、Fe 和 Cr 金属膜的热原子层沉积

  摘要：

  用 2 当量的 α-亚氨基醇盐 K(RR'COCNtBu) (R = Me, tBu; R' = iPr, tBu) 处理 MCl2 (M = Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Cr) 得到 M( RR'COCNtBu)2 或 [Mn(RR'COCNtBu)2]2 的产率为 9-75%。这些复合物结合了挥发性和高热稳定性，并具有有用的原子层沉积 (ALD) 前体特性。Ni、Co 和 Mn 配合物之间的溶液反应表明 BH3(NHMe2) 可以将它们全部还原为金属粉末。展示了 Ni、Co、Fe 和 Cr 薄膜的 ALD 生长。Mn 薄膜生长可能是可能的，但薄膜在暴露于空气时会完全氧化。

  DOI：

  10.1021/ja407014w
• 作为产物：
  描述：

  N-tert-butyl-iso-pentalimine 在 selenium(IV) oxide 、 3 A molecular sieve 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 6.0h， 以49%的产率得到1-(tert-butylimino)-3-methylbutan-2-one
  参考文献：
  名称：

  Martin, Hubert; Herrmann, Rudolf, Zeitschrift fur Naturforschung, Teil B: Anorganische Chemie, Organische Chemie, 1986, vol. 41, # 10, p. 1260 - 1264

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] PRECURSORS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION<br/>[FR] PRÉCURSEURS POUR DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE
  申请人：UNIV WAYNE STATE

  公开号：WO2013188377A1

  公开（公告）日：2013-12-19

  Atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD) precursors that are useful for forming metal-containing films are provided. These compounds include triazapentadienyl -imino enolate compounds and α-imino ketone compounds having formulae 1, 2, and 3, respectively. An ALD method using the precursors is also provided.

  提供了用于形成含金属薄膜的原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）前体。这些化合物包括具有分别为1、2和3的公式的三氮杂戊二烯基-亚胺烯醇化合物和α-亚胺酮化合物。还提供了使用这些前体的ALD方法。
• Synthesis And Characterization Of First Row Transition Metal Complexes Containing a-Imino Alkoxides As Precursors For Deposition Of Metal Films
  申请人：WAYNE STATE UNIVERSITY

  公开号：US20140227444A1

  公开（公告）日：2014-08-14

  A compound that is useful for forming a metal by reaction with a reducing agent is described by formula (I): wherein M is a metal selected from Groups 2 through 12 of the Periodic Table; and R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently H or C 1 -C 8 alkyl.

  一种用于通过与还原剂反应形成金属的化合物，其化学式（I）如下：其中，M是周期表2至12组中选择的金属；R1、R2、R3和R4各自独立地为H或C1-C8烷基。
• Volatile and Thermally Stable Mid to Late Transition Metal Complexes Containing α-Imino Alkoxide Ligands, a New Strongly Reducing Coreagent, and Thermal Atomic Layer Deposition of Ni, Co, Fe, and Cr Metal Films
  作者：Lakmal C. Kalutarage、Philip D. Martin、Mary Jane Heeg、Charles H. Winter

  DOI：10.1021/ja407014w

  日期：2013.8.28

  Treatment of MCl2 (M = Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Cr) with 2 equiv of α-imino alkoxide salts K(RR'COCNtBu) (R = Me, tBu; R' = iPr, tBu) afforded M(RR'COCNtBu)2 or [Mn(RR'COCNtBu)2]2 in 9-75% yields. These complexes combine volatility and high thermal stability and have useful atomic layer deposition (ALD) precursor properties. Solution reactions between Ni, Co, and Mn complexes showed that BH3(NHMe2) can

  用 2 当量的 α-亚氨基醇盐 K(RR'COCNtBu) (R = Me, tBu; R' = iPr, tBu) 处理 MCl2 (M = Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Cr) 得到 M( RR'COCNtBu)2 或 [Mn(RR'COCNtBu)2]2 的产率为 9-75%。这些复合物结合了挥发性和高热稳定性，并具有有用的原子层沉积 (ALD) 前体特性。Ni、Co 和 Mn 配合物之间的溶液反应表明 BH3(NHMe2) 可以将它们全部还原为金属粉末。展示了 Ni、Co、Fe 和 Cr 薄膜的 ALD 生长。Mn 薄膜生长可能是可能的，但薄膜在暴露于空气时会完全氧化。
• Martin, Hubert; Herrmann, Rudolf, Zeitschrift fur Naturforschung, Teil B: Anorganische Chemie, Organische Chemie, 1986, vol. 41, # 10, p. 1260 - 1264
  作者：Martin, Hubert、Herrmann, Rudolf

  DOI：——

  日期：——