(chloromethyl)dimethylphenoxysilane | 61484-68-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (chloromethyl)dimethylphenoxysilane
• 英文别名: chloromethyldimethylphenoxysilane；dimethylchloromethylphenoxysilane；Dimethyl-(phenoxy)-chlormethylsilan；(Chloromethyl)(dimethyl)phenoxysilane；chloromethyl-dimethyl-phenoxysilane
• CAS: 61484-68-2
• 化学式: C₉H₁₃ClOSi
• 分子量: 200.74
• InChiKey: NQUGDNDBKIFSTA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  198.3±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.037±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.05
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (chloromethyl)dimethylphenoxysilane 在 potassium fluoride 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 24.0h， 以85%的产率得到fluoro-dimethyl-(phenoxymethyl)silane
  参考文献：
  名称：

  有机硅烷的中继取代反应中的五配位硅中间体：对硅及其相邻碳的连续亲核攻击

  摘要：

  已显示，ClCH 2 R 2 SiCl类型的氯甲基甲硅烷基氯与酚或胺（PhEH，具有EO或NMe）一起在硅上受到动力学控制的亲核攻击，从而产生PhESiR 2 CH类型的产物2 Cl。随后的产物用乙腈中的KF处理会导致亲核试剂从硅转移到碳，并形成FSiR 2 CH 2 EPh。或者，与PhEH和KF同时处理ClCH 2 R 2 SiCl会直接产生相同的热力学控制产物FSiR 2 CH 2EPh。将亲核攻击指向硅或其相邻碳的可能性在合成取代的有机硅烷中非常重要。这些所谓的中继亲核取代的机理被认为涉及五配位硅中间体。最初的亲核攻击是在硅上发生，随后亲核剂从五配位硅转移到相邻碳原子的概念也显示适用于α，β-环氧烷基硅烷的异常反应。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(88)87105-5
• 作为产物：
  描述：

  氯甲基二甲基氯硅烷 、 苯酚 以 neat (no solvent) 为溶剂， 反应 24.0h， 以89%的产率得到(chloromethyl)dimethylphenoxysilane
  参考文献：
  名称：

  有机硅烷的中继取代反应中的五配位硅中间体：对硅及其相邻碳的连续亲核攻击

  摘要：

  已显示，ClCH 2 R 2 SiCl类型的氯甲基甲硅烷基氯与酚或胺（PhEH，具有EO或NMe）一起在硅上受到动力学控制的亲核攻击，从而产生PhESiR 2 CH类型的产物2 Cl。随后的产物用乙腈中的KF处理会导致亲核试剂从硅转移到碳，并形成FSiR 2 CH 2 EPh。或者，与PhEH和KF同时处理ClCH 2 R 2 SiCl会直接产生相同的热力学控制产物FSiR 2 CH 2EPh。将亲核攻击指向硅或其相邻碳的可能性在合成取代的有机硅烷中非常重要。这些所谓的中继亲核取代的机理被认为涉及五配位硅中间体。最初的亲核攻击是在硅上发生，随后亲核剂从五配位硅转移到相邻碳原子的概念也显示适用于α，β-环氧烷基硅烷的异常反应。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(88)87105-5

文献信息

• Artamkina, O. B.; Kramarova, E. P.; Shipov, A. G., Russian Journal of General Chemistry, 1993, vol. 63, # 10.2, p. 1590 - 1597
  作者：Artamkina, O. B.、Kramarova, E. P.、Shipov, A. G.、Baukov, Yu. I.、Macharashvili, A. A.、et al.

  DOI：——

  日期：——
• 1H NMR study of some substituted acyclic silaethanes, 2-silapropanes and 2-methyl-2-silapropanes and their rotameric populations around the SiC bond
  作者：Robert Carleer、Marc J. O. Anteunis

  DOI：10.1002/mrc.1270130406

  日期：1980.4

  AbstractThree series of substituted silaalkanes, (i) SiH3CH2X, (ii) MeSiH2CH2X and (III) Me2SiHCH2X, have been prepared (X=Cl, Br, I, NMe2, OMe, SMe), and the shifts and coupling constants extracted from their1H NMR spectra. Coefficients averaged over three rotameric states can be obtained from the first series which are used for the correction of coupling constants resulting from the presence of the electronegative substituents X. With the aid of the Karplus‐Conroy angular dependence of the interproton coupling constants in silaethane† fragments, corrected for electronegative substitution, approximate rotameric populations in series ii and iii were obtained. Except for X=NMe2, there is always a preference for asynclinalX/CH3relationship, even for sandwiched situations (series III).
• Voronkov,M.G. et al., Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1976, vol. 41, p. 2718 - 2723
  作者：Voronkov,M.G. et al.

  DOI：——

  日期：——
• The modification of reactivity at silicon centre by a remote phosphorus group
  作者：Józef Kowalski、Julian Chojnowski

  DOI：10.1016/0022-328x(88)83146-2

  日期：1988.12
• KOWALSKI, JOZEF;CHOJNOWSKI, JULIAN, J. ORGANOMET. CHEM., 356,(1988) N, C. 285-295
  作者：KOWALSKI, JOZEF、CHOJNOWSKI, JULIAN

  DOI：——

  日期：——