1-(2-methoxyethoxy)naphthalene | 152016-00-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-(2-methoxyethoxy)naphthalene
• CAS: 152016-00-7
• 化学式: C₁₃H₁₄O₂
• mdl: MFCD21367703
• 分子量: 202.253
• InChiKey: PJURAVBGOADPLJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  329.0±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.081±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.23
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  硫代环己酮 、 Eaton's reagent 、 1-(2-methoxyethoxy)naphthalene 在 溶剂黄146 作用下， 生成 4-(2-methoxyethoxy)naphthalene-1-tetrahydrothiopyranium methanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种抗蚀组合物，包括具有公式（1）作为PAG的磺酸盐、基础聚合物和有机溶剂。在光刻工艺中加工时，该组合物具有光透过率、抑制酸扩散效果和优异的光刻性能因素，例如DOF、LWR和MEF。还提供了一种从该组合物形成抗蚀图案的光刻工艺。

  公开号：

  US20200249571A1
• 作为产物：
  描述：

  2-氯乙基甲基醚 、 萘酚 在 sodium iodide 、 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 37.0h， 以77%的产率得到1-(2-methoxyethoxy)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明涉及以高能量射线为光源的光刻技术中的分辨率，特别是在图案形状的矩形性方面表现优异，并且赋予较小粗糙度的良好图案，进一步提供了用于难以出现缺陷的光刻材料的硫酸铵盐以及含有该硫酸铵盐的光刻材料和利用该光刻材料进行图案形成的方法。【解决手段】如下所示的硫酸铵盐的一般式（1a）。 （在该式中，R和R0分别独立地表示氢原子或被杂原子取代，即使被杂原子取代也可以，杂原子可以是直链、支链或环状的1~30碳原子的脂肪、支链或环状的烃基）。

  公开号：

  KR101695054B1
• 作为试剂：
  描述：

  萘酚 、 2-氯乙基甲基醚 、 sodium hydroxide 、 碘化钠 在 sodium hydroxide 、 水 、 1-(2-methoxyethoxy)naphthalene 作用下， 以 乙醇 、 甲苯 、 水 为溶剂， 80.0~110.0 ℃ 、1.73 kPa 条件下， 反应 8.0h， 以yielding 45 g of oily matter的产率得到1-(2-methoxyethoxy)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  POLYMER, MAKING METHOD, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种含有烷基磺酸铵阳离子的聚合物，其烷基磺酸铵阳离子与聚合物主链上的其他部分不形成共价键，可以通过在温和条件下将含有铵或金属阳离子的磺酸根聚合物与烷基磺酸盐反应而容易制备。由该聚合物构成的抗蚀剂组合物对抑制酸扩散有效，因为磺酸盐与聚合物主链相结合。当通过ArF光刻工艺进行处理时，该聚合物在曝光波长处的吸收较三芳基磺酸盐形式的PAGs低，从而提高了分辨率、掩模保真度和LWR。

  公开号：

  US20130224659A1

文献信息

• [EN] ORGANIC COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSES ORGANIQUES
  申请人：SPEEDEL EXPERIMENTA AG

  公开号：WO2005090304A1

  公开（公告）日：2005-09-29

  The invention relates to novel amino alcohols of the general formula (I) where X, R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are each as defined in detail in the description, to a process for their preparation and to the use of these compounds as medicines, in particular as renin inhibitors.

  这项发明涉及一般式(I)的新型氨基醇，其中X、R1、R2、R3、R4、R5和R6的定义详细描述在说明书中，以及它们的制备方法和将这些化合物用作药物，特别是作为肾素抑制剂。
• NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SAGEHASHI Masayoshi

  公开号：US20120052441A1

  公开（公告）日：2012-03-01

  An aralkylcarbamate of imidazole base is effective as the quencher. In a chemically amplified positive resist composition comprising the carbamate, deprotection reaction of carbamate takes place by reacting with the acid generated upon exposure to high-energy radiation, whereby the composition changes its basicity before and after exposure, resulting in a pattern profile with advantages including high resolution, rectangular shape, and minimized dark-bright difference.

  咪唑基团的芳烷基碳酸酯作为猝灭剂是有效的。在包含该碳酸酯的化学放大正性光刻胶组合物中，碳酸酯的去保护反应是通过与在暴露于高能辐射时产生的酸反应来实现的，通过这种方式，组合物在曝光前后改变其碱性，从而得到具有高分辨率、矩形形状和最小化暗亮差异等优点的图案轮廓。
• Diaminoalcohol derivatives for the treatment of Alzheimer, malaria, HIV
  申请人：Speedel Experimenta AG

  公开号：EP1764099A2

  公开（公告）日：2007-03-21

  Use of compounds of the general formula (I) wherein R1, R2, R3, R4, R5, R6 and X have the definitions elucidated in more detail in the description, as beta-secretase, cathepsin D, plasmepsin II and/or HIV protease inhibitors.

  使用一般式(I)中的化合物，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和X的定义在描述中有更详细的阐述，作为β-分泌酶、猫hepsin D、plasmepsin II和/或HIV蛋白酶抑制剂。
• 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 이를 이용한 레지스트 필름, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법과 전자 디바이스, 및 화합물
  申请人：FUJIFILM CORPORATION 후지필름 가부시키가이샤(520060414739)

  公开号：KR20150038385A

  公开（公告）日：2015-04-08

  하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물. [상기 일반식(1)에 있어서, R은 다환식 방향족기 또는 다환식 복소환식 방향족기를 나타내고, R는 (n+2)가의 포화 탄화수소기를 나타내고, R은 (m+2)가의 포화 탄화수소기를 나타내고, R 및 R는 각각 독립적으로 치환기를 나타내고, Q는 헤테로 원자를 함유하는 연결기를 나타내고, m 및 n은 각각 독립적으로 0~12의 정수를 나타내고, n이 2 이상인 경우, R는 같아도 좋고 달라도 좋고, R가 서로 연결되어 R와 함께 비방향족환을 형성하여도 좋고, m이 2 이상인 경우, R는 같아도 좋고 달라도 좋고, R가 서로 연결되어 R과 함께 비방향족환을 형성하여도 좋고, 또한 X는 비구핵성 음이온을 나타낸다.]

  这是一种含有化合物的感光性和放射性树脂组合物，其特点是包含通过通式（1）表示的化合物。 [在通式（1）中，R表示多环芳香族或多环复杂芳香族，R表示（n+2）个饱和碳氢基，R表示（m+2）个饱和碳氢基，R和R分别独立表示取代基，Q表示含杂原子的连接基，m和n分别独立表示0~12的整数，当n≥2时，R可以相同也可以不同，并且R可以与彼此连接以形成非取向芳环，当m≥2时，R可以相同也可以不同，并且R可以与彼此连接以形成非取向芳环，X表示非核性阴离子。]
• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHSAWA Youichi

  公开号：US20120045724A1

  公开（公告）日：2012-02-23

  A sulfonium salt of a naphthylsulfonium cation having a hydrophilic phenolic hydroxyl group or ethylene glycol chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark-bright difference.

  提供了一种具有亲水性酚羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，带有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。