1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentyl 5-norbornene-2-carboxylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧唑烯
• 英文名称: 1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentyl 5-norbornene-2-carboxylate
• 英文别名: [1-(Oxolan-2-yl)cyclopentyl] bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
• 化学式: C₁₇H₂₄O₃
• 分子量: 276.376
• InChiKey: QTIJMDFUGZRTOO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentyl acrylate 、 环戊二烯 以 甲苯 为溶剂， 反应 10.0h， 以96%的产率得到1-(2-tetrahydrofuranyl)cyclopentyl 5-norbornene-2-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1

文献信息

• Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP1403295A2

  公开（公告）日：2004-03-31

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A1 is a polymerizable functional group having a double bond, A2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R1 and R2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R1 and R2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  具有式（1）的新型酯化合物可聚合成聚合物，式（1）中 A1 是具有双键的可聚合官能团，A2 是呋喃二基、四氢呋喃二基或氧降冰片二基，R1 和 R2 各为一价烃基，或 R1 和 R2 可键合在一起与碳原子形成脂族烃环，R3 是氢或可包含杂原子的一价烃基。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有更高的灵敏度、分辨率和抗蚀刻性，并适合使用电子束或深紫外线进行微图案化。
• Polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20050260521A1

  公开（公告）日：2005-11-24

  A polymer comprising recurring units containing silicon and recurring units having a substituent group of formula (1) is novel wherein A 1 is a divalent group selected from furandiyl, tetrahydrofurandiyl and oxanorbornanediyl, R 1 and R 2 are selected from monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon groups, or R 1 and R 2 taken together may form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R 3 is hydrogen or a monovalent C 1 -C 10 hydrocarbon group which may contain a hetero atom. The polymer is useful as a base resin to formulate a resist composition which is sensitive to high-energy radiation, and has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm as well as satisfactory oxygen plasma etching resistance.

  一种由含硅的递归单元和具有式（1）取代基团的递归单元组成的新型聚合物，其中 A 1 是选自呋喃二基、四氢呋喃二基和氧杂降冰片二基的二价基团，R 1 和 R 2 选自一价 C 1 -C 10 烃基，或 R 1 和 R 2 可与碳原子形成一个脂族烃环，而 R 3 是氢或一价 C 1 -C 10 烃基，其中可能含有一个杂原子。这种聚合物可用作基础树脂，用于配制对高能辐射敏感的抗蚀剂组合物，在波长小于 300 纳米时具有优异的灵敏度和分辨率，以及令人满意的抗氧等离子刻蚀性。
• US7132215B2
  申请人：——

  公开号：US7132215B2

  公开（公告）日：2006-11-07
• US7135269B2
  申请人：——

  公开号：US7135269B2

  公开（公告）日：2006-11-14
• Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040068124A1

  公开（公告）日：2004-04-08

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A 1 is a polymerizable functional group having a double bond, A 2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R 1 and R 2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R 1 and R 2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R 3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays. 1

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。