3-氯-2-甲酰基苯甲酸 | 169310-05-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 3-氯-2-甲酰基苯甲酸
• 英文名称: 3-chloro-2-formylbenzoic acid
• 英文别名: 3-Chlor-2-formyl-benzoesaeure
• CAS: 169310-05-8
• 化学式: C₈H₅ClO₃
• mdl: MFCD11053065
• 分子量: 184.579
• InChiKey: OJIYUFAIWHJJNL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  340.3±27.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.469±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  54.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2918300090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-氯-2-甲酰基苯甲酸 以63%的产率得到4-chloro-3-hydroxy-3H-isobenzofuran-1-one
  参考文献：
  名称：

  ortho-Metalation of Unprotected 3-Bromo and 3-Chlorobenzoic Acids with Hindered Lithium Dialkylamides

  摘要：

  Upon treatment of 3-chloro/bromobenzoic acids with hindered lithium dialkylamides (LDA or LTMP) at -50 degreesC, lithium 3-chloroibromo-2-lithiobenzoates are generated. These dianions can be trapped as such to afford after electrophilic quenching a variety of simple 2-substituted-3-chlorolbromobenzoic acids. The 3-bromo-2-lithiobenzoate is less stable than the corresponding 3-chloro derivative and partly eliminates lithium bromide, thus setting free lithium 2,3- and 3,4-dehydrobenzoates that can be intercepted in situ with the hindered base.

  DOI：

  10.1021/jo026514t
• 作为产物：
  描述：

  1-氨基四氢化萘 生成 3-氯-2-甲酰基苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  Favini,G.; Simonetta,M., Gazzetta Chimica Italiana, 1960, vol. 90, p. 369 - 381

  摘要：

  DOI：

文献信息

• AZA-PYRIDONE COMPOUNDS AND USES THEREOF
  申请人：Alios BioPharma, Inc.

  公开号：US20150072982A1

  公开（公告）日：2015-03-12

  Disclosed herein are aza-pyridone compounds, pharmaceutical compositions that include one or more aza-pyridone compounds, and methods of synthesizing the same. Also disclosed herein are methods of ameliorating and/or treating a disease and/or a condition, including an orthomyxovirus infection, with an aza-pyridone compounds. Examples of an orthomyxovirus viral infection include an influenza infection.

  本文揭示了氮杂吡啶酮化合物，包括一种或多种氮杂吡啶酮化合物的药物组合物，以及合成这些化合物的方法。本文还揭示了使用氮杂吡啶酮化合物改善和/或治疗疾病和/或病况的方法，包括流感病毒感染在内的正黏液病毒感染。
• COMPOUNDS AND COMPOSITIONS AND USES THEREOF
  申请人：Sunovion Pharmaceuticals Inc.

  公开号：US20180030064A1

  公开（公告）日：2018-02-01

  Disclosed are compounds of formula (I): and pharmaceutical compositions containing such compounds. Methods of treating neurological or psychiatric disease and disorders in a subject in need are also disclosed.

  揭示了化合物的结构式(I)，以及含有这些化合物的药物组合物。还披露了治疗需要的受试者神经系统或精神疾病和障碍的方法。
• [EN] FUSED INDOLE COMPOUNDS AND METHODS OF USING SAME<br/>[FR] COMPOSÉS INDOLE FUSIONNÉS ET LEURS MÉTHODES D'UTILISATION
  申请人：OBSCHESTVO S OGRANICHENNOY OTVETSTVENNOST YU PANACELA LABS

  公开号：WO2015050472A1

  公开（公告）日：2015-04-09

  The invention relates to fused indole compounds of formula (I) that can be used for treating microbial infections, in particular, fungal infections, and selectively kill cancer cells.

  这项发明涉及公式（I）的融合吲哚化合物，可用于治疗微生物感染，特别是真菌感染，并选择性地杀灭癌细胞。
• [EN] CARBAZOLE COMPOUNDS AND METHODS OF USING SAME<br/>[FR] COMPOSÉS CARBAZOLE ET LEURS MÉTHODES D'UTILISATION
  申请人：OBSCHESTVO S OGRANICHENNOY OTVETSTVENNOST YU PANACELA LABS

  公开号：WO2015020553A1

  公开（公告）日：2015-02-12

  The present invention provides carbazole compounds of the formula (I), which can be used for treating microbial, protozoan, viral infections and cancer. 

  本发明提供了化学式（I）的咔唑化合物，可用于治疗微生物、原生动物、病毒感染和癌症。
• CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US20120282546A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明涉及一种具有高溶解度、高灵敏度、能够形成良好形状的抗蚀图案，且很少引起抗蚀图案崩塌的环状化合物；一种制备该环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体揭示了一种具有特定结构的环状化合物，制备该环状化合物的方法，含有该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。