1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-Decamethyl-pentasilan | 7514-96-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-Decamethyl-pentasilan
• 英文别名: 1H,5H-Decamethyl-pentasilan；1,5-Dihydro-decamethyl-pentasilan；1,5-dihydrodecamethylpentasilane；Bis[dimethylsilyl(dimethyl)silyl]-dimethylsilane；bis[dimethylsilyl(dimethyl)silyl]-dimethylsilane
• CAS: 7514-96-7
• 化学式: C₁₀H₃₂Si₅
• 分子量: 292.792
• InChiKey: VNZLGUGNMRBQQP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-Decamethyl-pentasilan 在 N-氯代丁二酰亚胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以93%的产率得到1,5-Dichlordecamethylpentasilan
  参考文献：
  名称：

  十二甲基环六硅烷NH 2衍生物的合成与反应性

  摘要：

  氯过甲基环六硅烷Si 6 Me 12- n Cl n（1 ; n = 1），1,3-Cl 2 Si 6 Me 10和1,4-Cl 2 Si 6 Me 10（分别为2和3 ; n = 2）和分别具有NH 3或NaNH 2的1,3,5-Cl 3 Si 6 Me 9（4 ; n = 3），得到相应的氨基衍生物Si 6 Me12- Ñ（NH 2）Ñ（5 - 8），这是令人惊讶的朝向在纯态自缩合稳定。在NH的痕迹的存在4氯，工作作为酸催化剂，5 - 8慢慢分解用NH的损失3，得到仍含有完整cyclohexasilanyl部分聚硅氮烷。在1，4-二氨基十甲基甲基环己硅烷（7）的情况下，分子内缩合产物9与一些聚合材料一起形成。X射线结构分析9，它是第一个在结构上表征的7-氮杂六硅基or烷硼烷，在船型中具有环烷硅烷环的降冰片烷样结构。氨基二十碳六环硅烷（5）容易被n- BuLi质子化，得到预期的氨基酰胺锂LiHNSi

  DOI：

  10.1021/om9010017
• 作为产物：
  描述：

  1,5-diphenyldecamethylpentasilane 在 三氟甲磺酸 、 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 正戊烷 、 乙醚 为溶剂， 反应 72.0h， 以33%的产率得到1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-Decamethyl-pentasilan
  参考文献：
  名称：

  氢桥接的低聚硅烷基甲硅烷基单和低聚硅烷基甲硅烷基双阳离子

  摘要：

  一个分子中存在多个Si-H 官能团可用于在低温下生成基于低聚硅烷的单阳离子和双阳离子，这些单阳离子和双阳离子通过分子内 3c2e Si-H-Si 桥键稳定。对于低聚硅烷基单阳离子，在低温下通过 NMR 光谱监测快速的分子内 Si-H 基团交换。对于相应的词典，没有观察到这种动态过程。根据获得的 NMR 数据，两个阳离子 Si-H-Si 桥都被三硅烷基骨架电子隔离。

  DOI：

  10.1002/chem.202104318

文献信息

• Mercury-sensitized photolysis of Me2SiH2 The disproportionation reactions of the Me2SiH radical
  作者：C. Kerst、P. Potzinger

  DOI：10.1039/a605762d

  日期：——

  Mercury-sensitized photolysis of Me 2 SiH 2 yields in the primary step an Me 2 HSi radical and an H atom with a quantum yield of one. The Me 2 HSi radicals undergo a combination reaction [k(2)] as well as two kinds of disproportionation reactions leading to dimethylsilylene [k(3)] and 1-methylsilaethene [k(4)]. The following branching ratios have been determined: k(3)/[k(2)+k(3)+k(4)]=0.64 ±0.10 and k(4)/[k(2)+k(3)+k(4)]0.007. For Me 3 Si radicals the branching ratio for disproportionation was also determined and a value of 0.063 was obtained.

  Me 2 SiH 2 的汞敏化光解第一步产生一个 Me 2 HSi 自由基和一个 H 原子，量子产率为 1。Me 2 HSi 自由基会发生一个结合反应[k(2)]以及两种歧化反应，最终生成二甲基硅烷基[k(3)]和 1-甲基硅烷基[k(4)]。测定的支化率如下：k(3)/[k(2)+k(3)+k(4)]=0.64 ±0.10，k(4)/[k(2)+k(3)+k(4)]0.007。对于 Me 3 Si 自由基，还测定了歧化支化率，结果为 0.063。
• �ber ?,?-�bergangsmetallsubstituierte Oligosilane
  作者：E. Hengge、M. Eibl、B. Stadelmann

  DOI：10.1007/bf00819520

  日期：1993.5

  Methyloligosilanes with n = 3, 4, 5 and 6 with dicarbonyl-cyclopentadienyl-iron- and tricarbonyl-triphenylphosphane-cobalt-groups in terminal positions were synthesized for the first time and characterized by NMR, IR, and MS. The NMR spectra were discussed in detail.