2-Hydroxy-zimtsaeure-cyclohexylamid | 92652-03-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Hydroxy-zimtsaeure-cyclohexylamid
• 英文别名: N-cyclohexyl-3-(2-hydroxyphenyl)prop-2-enamide
• CAS: 92652-03-4
• 化学式: C₁₅H₁₉NO₂
• 分子量: 245.321
• InChiKey: BXLJEWHVJIGCFE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.85
• 重原子数：
  18.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  49.33
• 氢给体数：
  2.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Hydroxy-zimtsaeure-cyclohexylamid 以 甲醇 为溶剂， 生成 香豆素 、 环己胺
  参考文献：
  名称：

  由反式-香豆酸衍生的光碱产生剂，用于不产生气体的阴离子UV固化系统

  摘要：

  聚（甲基丙烯酸甘油酯）和/或聚[3-（甲基丙烯酰氧基）丙基三甲氧基硅烷]的阴离子紫外线固化体系是使用衍生自反式-邻-香豆酸的新型光碱产生剂（PBG ）获得的。这些PBG通过紫外线辐射分解成胺和香豆素，而不会产生导致固化膜破裂和气泡的气体。

  DOI：

  10.1002/pola.27552

文献信息

• Curable composition including siloxane oligomer and inorganic fine particles
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10125267B2

  公开（公告）日：2018-11-13

  A material having a low refractive index that exhibits sufficiently low refractive index without deteriorating the strength of cured film produced therefrom, that can be cured by an active energy ray that is applicable for a resin base material that is not desired to be exposed to heat. Curable composition including: siloxane oligomer (a) containing a radically polymerizable double bond obtained through hydrolysis and condensation of alkoxysilanes containing at least an alkoxysilane A of Formula [1] and alkoxysilane B of Formula [2] in an amount of 100 parts by mass; inorganic fine particles (b) in amount of 10 parts by mass to 1,000 parts by mass; polymerization initiator (c) generating a radical upon active energy ray irradiation in an amount of 0.1 parts by mass to 25 parts by mass R1aSi(OR2)4-a  [1] R3bSi(OR4)4-b  [2] a cured film produced from the composition, and a laminate including a low refractive index layer produced from the composition.

  一种具有低折射率的材料，该材料具有足够低的折射率，且不会降低由其制成的固化膜的强度，可通过活性能量射线固化，适用于不希望受热的树脂基材料。可固化组合物，包括：硅氧烷低聚物 (a)，其中含有通过水解和缩合至少含有式 [1] 烷氧基硅烷 A 和式 [2] 烷氧基硅烷 B 的烷氧基硅烷而获得的可辐射聚合双键，其用量为 100 份（按质量计）；无机微粒 (b)，其用量为 10 份（按质量计）至 1 000 份（按质量计）；聚合引发剂 (c)，其用量为 0.1 份（按质量计）至 25 份（按质量计）。 R1aSi(OR2)4-a [1] R3bSi(OR4)4-b [2] 由该组合物制成的固化薄膜，以及包括由该组合物制成的低折射率层的层压板。
• CURABLE COMPOSITION COMPRISING SILOXANE OLIGOMER AND INORGANIC MICROPARTICLES
  申请人：Nissan Chemical Corporation

  公开号：EP2987809B1

  公开（公告）日：2019-03-13
• CURABLE COMPOSITION INCLUDING SILOXANE OLIGOMER AND INORGANIC FINE PARTICLES
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20160108250A1

  公开（公告）日：2016-04-21

  There is provided a material having a low refractive index that exhibits a sufficiently low refractive index without deteriorating the strength of the cured film produced therefrom, and that can be cured by an active energy ray that is applicable for a resin base material that is not desired to be exposed to heat. A curable composition comprising: a siloxane oligomer (a) containing a radically polymerizable double bond obtained through hydrolysis and condensation of alkoxysilanes containing at least an alkoxysilane A of Formula [1] and an alkoxysilane B of Formula [2] in an amount of 100 parts by mass; inorganic fine particles (b) in an amount of 10 parts by mass to 1,000 parts by mass; and a polymerization initiator (c) generating a radical upon active energy ray irradiation in an amount of 0.1 parts by mass to 25 parts by mas R 1 a Si(OR 2 ) 4-a [1] R 3 b Si(OR 4 ) 4-b [2] a cured film produced from the composition, and a laminate comprising a low refractive index layer produced from the composition.
• [EN] COMPOSITION FOR MOISTUREPROOF SEALING MATERIAL<br/>[FR] COMPOSITION POUR UN MATÉRIAU D'ÉTANCHÉITÉ RÉSISTANT À L'HUMIDITÉ<br/>[JA] 防湿シール材用組成物
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORP

  公开号：WO2020036234A1

  公开（公告）日：2020-02-20

  【課題】　光硬化性に優れ、さらに防湿性、延伸性に優れる硬化物が得られる防湿シール材用組成物を提供すること。　（ａ）式［１］で表される化合物及び式［２］で表される化合物からなる群から選択される少なくとも一種のイソシアヌル酸系エポキシ化合物、（ｂ）イソシアヌル酸骨格を有さない多官能エポキシ化合物、（ｃ）多官能オキセタン化合物、及び（ｄ）活性エネルギー線により酸又は塩基を発生する重合開始剤を含む、防湿シール材用組成物。 【化１】 （式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｌ１は、炭素原子数２～７のアルキレン基を表す。ここで、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、各Ｌ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。） 【化２】 （式中、Ｒ２は、水素原子又はメチル基を表し、Ｌ２は、炭素原子数１～５のアルキレン基を表し、Ａは、（ｎ＋１）価のエーテル結合を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を表し、ｎは、２～５の整数を表す。ここで、各Ｒ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、各Ｌ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、各Ａは互いに同一であっても異なっていてもよく、各ｎは互いに同一であっても異なっていてもよい。）
• Photobase generators derived from <i>trans-o</i> -coumaric acid for anionic UV curing systems without gas generation
  作者：Koji Arimitsu、Yuri Takemori、Atsushi Nakajima、Ayaka Oguri、Masahiro Furutani、Takahiro Gunji、Yoshimoto Abe

  DOI：10.1002/pola.27552

  日期：2015.5.15

  Anionic UV curing systems of poly(glycerol methacrylate) and/or poly[3‐(methacryloyloxy)propyltrimethoxysilane] are obtained using novel photobase generators (PBGs) derived from trans‐o‐coumaric acid. These PBGs decompose into amines and coumarins by UV irradiation without generation of gases that cause cracks and bubbles in cured films.

  聚（甲基丙烯酸甘油酯）和/或聚[3-（甲基丙烯酰氧基）丙基三甲氧基硅烷]的阴离子紫外线固化体系是使用衍生自反式-邻-香豆酸的新型光碱产生剂（PBG ）获得的。这些PBG通过紫外线辐射分解成胺和香豆素，而不会产生导致固化膜破裂和气泡的气体。