7-chloro-2-methylimidazo[2,1-a]isoquinoline | 102200-01-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: 7-chloro-2-methylimidazo[2,1-a]isoquinoline
• CAS: 102200-01-1
• 化学式: C₁₂H₉ClN₂
• 分子量: 216.67
• InChiKey: AWOLMIKIFGJHTJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.31±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  17.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  7-chloro-2-methylimidazo[2,1-a]isoquinoline 在 三氯氧磷 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 7-chloro-3-formyl-2methylimidazo[2,1-a]isoquinoline
  参考文献：
  名称：

  Imidazoisoquinoline compounds useful as anti-ulcerative agents

  摘要：

  一种化合物的化学式如下：##STR1##其中R.sup.1为较低的烷基，R.sup.3为氢、卤素或芳基(较低)烷氧基，R为较低的烷酰基、亚硝基、氨基、羧基、酯化羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、卤甲酰基、氨甲亚甲基氨基（可能被氰基或较低的烷基取代）、亚甲基亚氨基（可能被氰基或较低的烷基取代）或一个化学式组：--A--R.sup.2，其中A为较低的烷基烯和R.sup.2为二（较低）烷基氨基、氰基、较低烷氧基、含氮杂环基团（可能具有适当的取代基）、较低炔氧基、较低烯氧基、较低硫烷基、氨基（较低）烷硫基、较低烷基亚硫基、较低烷基磺酰基、羧基、酯化羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、羟基、较低烷酰氧基、杂环氨基（较低）烷硫基具有两个氧基团、氢或一个化学式组：##STR2##其中R.sup.4、R.sup.5和R.sup.6分别为较低烷基，X为酸残基，以及其药学上可接受的盐。这些化合物可用作抗溃疡剂。

  公开号：

  US04686227A1
• 作为产物：
  描述：

  5-chloro-1-aminoisoquinoline 、 一氯丙酮 在 碳酸氢钠 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 7-chloro-2-methylimidazo[2,1-a]isoquinoline
  参考文献：
  名称：

  Imidazoisoquinoline compounds useful as anti-ulcerative agents

  摘要：

  一种化合物的化学式如下：##STR1##其中R.sup.1为较低的烷基，R.sup.3为氢、卤素或芳基(较低)烷氧基，R为较低的烷酰基、亚硝基、氨基、羧基、酯化羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、卤甲酰基、氨甲亚甲基氨基（可能被氰基或较低的烷基取代）、亚甲基亚氨基（可能被氰基或较低的烷基取代）或一个化学式组：--A--R.sup.2，其中A为较低的烷基烯和R.sup.2为二（较低）烷基氨基、氰基、较低烷氧基、含氮杂环基团（可能具有适当的取代基）、较低炔氧基、较低烯氧基、较低硫烷基、氨基（较低）烷硫基、较低烷基亚硫基、较低烷基磺酰基、羧基、酯化羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、羟基、较低烷酰氧基、杂环氨基（较低）烷硫基具有两个氧基团、氢或一个化学式组：##STR2##其中R.sup.4、R.sup.5和R.sup.6分别为较低烷基，X为酸残基，以及其药学上可接受的盐。这些化合物可用作抗溃疡剂。

  公开号：

  US04686227A1

文献信息

• Imidazoisoquinoline compounds and processes for preparation thereof
  申请人：FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.

  公开号：EP0165545A2

  公开（公告）日：1985-12-27

  Imadazoisoquinoline compounds of the formula: wherein R' is lower alkyl, R3 is hydrogen, halogen or ar(lower)alkoxy, and R is lower alkanoyl, nitroso, amino, carboxy, protected carboxy, carbamoyl, hydroxycarbamoyl, haloformyl, aminomethyleneamino which may be substituted with cyano or lower alkyl, iminomethylamino which may be substituted with cyano or lower alkyl, or a group of the formula : -A-R2 in which A is lower alkylene and R2 defines certain substituents, pharmaceutical salts thereof and pharmaceutical compositions containing them as an active ingredient. The invention also relates to intermediates of formula

  式中的咪唑异喹啉化合物： 式中 R' 是低级烷基 R3 是氢、卤素或 ar（低级）烷氧基，以及 R 是低级烷酰基、亚硝基、氨基、羧基、受保护的羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、卤代甲酰基、可被氰基或低级烷基取代的亚氨基甲基、可被氰基或低级烷基取代的亚氨基甲基、或式中的基团：-A-R2，其中 A 为低级亚烷基，且 R2 定义某些取代基的基团、其药用盐和含有它们作为活性成分的药物组合物。本发明还涉及式
• UEHDA, IKUO;SIOGAVA, JOITI;KATO, SANEHYUKI;ONISI, NOBUKIE;AKABA, ATSUSI
  作者：UEHDA, IKUO、SIOGAVA, JOITI、KATO, SANEHYUKI、ONISI, NOBUKIE、AKABA, ATSUSI

  DOI：——

  日期：——
• US4686227A
  申请人：——

  公开号：US4686227A

  公开（公告）日：1987-08-11
• US4738967A
  申请人：——

  公开号：US4738967A

  公开（公告）日：1988-04-19
• Imidazoisoquinoline compounds useful as anti-ulcerative agents
  申请人：Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：US04686227A1

  公开（公告）日：1987-08-11

  A compound of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 is lower alkyl, R.sup.3 is hydrogen, halogen or ar(lower)alkoxy, and R is lower alkanoyl, nitroso, amino, carboxy, esterified carboxy, carbamoyl, hydroxycarbamoyl, haloformyl, aminomethyleneamino which may be substituted with cyano or lower alkyl, iminomethylamino which may be substituted with cyano or lower alkyl, or a group of the formula: --A--R.sup.2 in which A is lower alkylene and R.sup.2 is di(lower)alkylamino, cyano, lower alkoxy, N-containing heterocyclic group which may have suitable substituent(s), lower alkynyloxy, lower alkenyloxy, lower alkylthio, amino(lower)alkylthio, lower alkylsulfinyl, lower alkylsulfonyl, carboxy, esterified carboxy, carbamoyl, hydroxycarbamoyl, hydroxy, lower alkanoyloxy, heterocyclicamino (lower)alkylthio having two oxo groups, hydrogen or a group of the formula: ##STR2## in which R.sup.4, R.sup.5 and R.sup.6 are each lower alkyl and X is an acid residue, and pharmaceutically acceptable salts thereof. The compounds are useful as anti ulcer agents.

  一种化合物的化学式如下：##STR1##其中R.sup.1为较低的烷基，R.sup.3为氢、卤素或芳基(较低)烷氧基，R为较低的烷酰基、亚硝基、氨基、羧基、酯化羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、卤甲酰基、氨甲亚甲基氨基（可能被氰基或较低的烷基取代）、亚甲基亚氨基（可能被氰基或较低的烷基取代）或一个化学式组：--A--R.sup.2，其中A为较低的烷基烯和R.sup.2为二（较低）烷基氨基、氰基、较低烷氧基、含氮杂环基团（可能具有适当的取代基）、较低炔氧基、较低烯氧基、较低硫烷基、氨基（较低）烷硫基、较低烷基亚硫基、较低烷基磺酰基、羧基、酯化羧基、氨基甲酰基、羟基氨基甲酰基、羟基、较低烷酰氧基、杂环氨基（较低）烷硫基具有两个氧基团、氢或一个化学式组：##STR2##其中R.sup.4、R.sup.5和R.sup.6分别为较低烷基，X为酸残基，以及其药学上可接受的盐。这些化合物可用作抗溃疡剂。