N-[(2-methyl-acryloylamino)-methyl]-phthalimide | 120414-06-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: N-[(2-methyl-acryloylamino)-methyl]-phthalimide
• 英文别名: N-[(1,3-dioxoisoindol-2-yl)methyl]-2-methylprop-2-enamide
• CAS: 120414-06-4
• 化学式: C₁₃H₁₂N₂O₃
• 分子量: 244.25
• InChiKey: NYRAYOZRONGADY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.15
• 拓扑面积：
  66.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-羟甲基邻苯二甲酰亚胺 、 甲基丙烯腈 在 硫酸 作用下， 以83.6%的产率得到N-[(2-methyl-acryloylamino)-methyl]-phthalimide
  参考文献：
  名称：

  Addition ofN-(Hydroxymethyl)phthalimide to Methacrylates by Carbon–Carbon Bond Formation

  摘要：

  N-(羟甲基)苯二酰亚胺在硫酸中有效地与甲基丙烯酸酯的碳－碳键发生加成反应，导致新碳－碳键的形成。

  DOI：

  10.1246/bcsj.61.3755

文献信息

• Benzophenonderivate und deren Herstellung
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0346734A2

  公开（公告）日：1989-12-20

  Diese Erfindung betrifft UV-vernetzbare Massen auf Basis von (Meth)acryl­ester-Copolymerisaten die spezielle modifizierte ungesättigte Benzophenon­derivate einpolymerisiert enthalten und deren Verwendung als Schmelzhaft­kleber, zum Beschichten flächiger mineralischer Substrate und als Lacke.

  本发明涉及以（甲基）丙烯酸酯共聚物为基础的紫外线可交联组合物，其中聚合有特殊改性的不饱和二苯甲酮衍生物，并将其用作热熔压敏胶、平面矿物基材涂层和油漆。
• Mit ultravioletter Strahlung vernetzbare Zusammensetzung zur Herstellung von Haftklebebeschichtungen
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0339522A2

  公开（公告）日：1989-11-02

  Die vorliegende Erfindung betrifft eine mit ultravioletter Strahlung vernetzbare Zusammensetzung zur Herstellung von Überzügen, insbesondere von Haftklebebeschichtungen, enthaltend A) 80 bis 99,99 Gew.% mindestens eines Copolymerisats, das 1 bis 30 Gew.% α,β-monoolefinisch ungesättigter Monomerer mit alicyclischen Resten oder mit einem Fünf- oder Sechsring-Heterocyclus mit mindestens einem Sauerstoff- oder Schwefelatom einpolymerisiert enthält und B) 0,01 bis 20 Gew.% einer photosensitiven Verbindung.

  本发明涉及一种用于生产涂料，特别是压敏胶涂料的紫外线辐射可交联组合物，包括 A) 至少一种共聚物（重量百分比为 80-99.99%），该共聚物含有 1-30%（重量 百分比）的α，β-单烯烃不饱和单体，这些单体具有脂环基或五元环或六元环杂环， 并与至少一个氧原子或硫原子聚合，以及 B) 0.01%至 20%（按重量计）的光敏化合物。
• Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitengruppen und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0602377A1

  公开（公告）日：1994-06-22

  Die Erfindung betrifft Monomere der Formeln R¹-SO₂-N(CO-OR²)-R³-O-CO-CR⁴=CH₂ und R¹-N(CO-OR²)-SO₂-R³-O-CO-CR⁴=CH₂, worin R¹ für einen (C₁-C₂₀)Alkyl-, (C₃-C₁₀)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₄)Aryl- oder (C₇-C₂₀)Aralkylrest, wobei in den Alkyl enthaltenden Resten einzelne Methylengruppen durch Heteroatome ersetzt sein können, R² für einen (C₃-C₁₁)Alkyl-, (C₃-C₁₁)Alkenyl- oder (C₇-C₁₁)Aralkylrest, R³ für einen unsubstituierten oder substituierten (C₁-C₆)Alkyl-, (C₃-C₆)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₄)Aryl- oder (C₇-C₂₀)Aralkylrest und R⁴ für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht. Sie betrifft ferner Polymere mit mindestens 5 mol-% an Einheiten mit Seitengruppen der Formel(n) -R³-N(CO-OR²)-SO₂-R¹ (I) und/oder -R³-SO₂-N(CO-OR²)-R¹ (II), sowie ein strahlungsempfindliches Gemisch, das a) eine unter der Einwirkung aktinischer Strahlung Säure bildende Verbindung und b) eine säurespaltbare Verbindung, deren Spaltprodukte in einem wäßrig-alkalischen Entwickler eine höhere Löslichkeit zeigen als die Ausgangsverbindung enthält, worin die säurespaltbare Verbindung ein Polymer der genannten Art ist, sowie ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht. Das erfindungsgemäße Gemisch eignet sich insbesondere für die Herstellung von Offsetdruckplatten und Photoresists.

  本发明涉及式 R¹-SO₂-N(CO-OR²)-R³-O-CO-CR⁴=CH₂ 和 R¹-N(CO-OR²)-SO₂-R³-O-CO-CR⁴=CH₂ 的单体，其中 R¹ 代表 (C₁-C₂₀)烷基-、(C₃-C₁₀)环烷基、(C₆-C₁₄)芳基或 (C₇-C₂₀)芳烷基，其中含烷基自由基中的单个亚甲基可被杂原子取代、R² 代表(C₃-C₁₁)烷基、(C₃-C₁₁)烯基或(C₇-C₁₁)芳烷基，R³ 代表未取代或取代的(C₁-C₆)烷基、(C₃-C₆)环烷基、(C₆-C₁₄)芳基或 (C₇-C₂₀)芳烷基，而 R⁴ 是氢原子或甲基。本发明还涉及含有至少 5 摩尔单位的聚合物，其侧基为式(s)-R³-N(CO-OR²)-SO₂-R¹ (I) 和/或 -R³-SO₂-N(CO-OR²)-R¹ (II)，以及含有以下成分的辐射敏感混合物 a) 在光辐射影响下形成酸的化合物和 b) 一种可酸解的化合物，其裂解产物在碱性水溶液显影剂中的溶解度高于起始化合物 其中可酸解的化合物是上述类型的聚合物，记录材料包括支撑层和辐射敏感层。本发明的混合物特别适用于胶版印刷板和光刻胶的生产。
• Polymere und damit hergestelltes lichtempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0731113A2

  公开（公告）日：1996-09-11

  Es wird ein Polymer mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I beschrieben, worin R1,R2 und R3unabhängig voneinander Wasserstoffatome oder Alkylgruppen sind, XCO oder SO2 ist und Y und Zunabhängig voneinander Alkyl-, Alkenyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder (un)gesättigte heterocyclische Reste bedeuten, wobei Y und Z miteinander verknüpft und Bestandteile eines fünf- oder sechsgliedrigen heterocyclischen Rings sein können. Das Polymer ist als Bindemittel für Aufzeichnungsmaterialien auf Basis von 1,2-Chinondiaziden geeignet, die insbesondere zur Herstellung von Flachdruckplatten eingesetzt werden. Diese Materialien zeichnen sich durch hohe Druckauflagen und Resistenz gegen Auswaschmittel auf Basis organischer Lösemittel aus.

  具有通式 I 循环单元的聚合物 其中 R1、R2 和 R3 各自为氢原子或烷基、 X 是 CO 或 SO2，以及 Y 和 Z 各自为烷基、烯基、环烷基、芳基或（非）饱和杂环基，其中 Y 和 Z 可以彼此相连并成为五元或六元杂环的组成部分。 这种聚合物适用于以 1,2-醌重氮化物为基础的记录材料的粘合剂，这种材料尤其适用于平面印刷版的生产。这些材料的特点是印数高，耐有机溶剂冲洗。
• Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
  申请人：Agfa-Gevaert AG

  公开号：EP0933682A2

  公开（公告）日：1999-08-04

  Die Erfindung betrifft Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid, ein positiv oder negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das a) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und b) mindestens eine strahlungsempfindliche Verbindung enthält, wobei das Bindemittel ein Polymer mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid der Formel (I) umfaßt. Die Erfindung betrifft ferner ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht, wobei die Schicht aus dem genannten Gemisch besteht. Das Aufreichnungsmaterial ist besonders geeignet zur Herstellung von chemikalienbeständigen Reliefaufzeichnungen. Die aus dem Aufreichnungsmaterial hergestellten Flachdruckplatten lassen eine hohe Druckauflage zu und sind resistent gegen Verarbeitungschemikalien.

  本发明涉及具有 N-取代马来酰亚胺单元的聚合物，一种正作或负作辐射敏感混合物，它包含 a) 不溶于水且可溶于碱性水溶液的聚合物粘合剂和 b) 至少一种辐射敏感化合物，粘合剂包括具有式 (I) N-取代马来酰亚胺单元的聚合物。 .本发明还涉及一种记录材料，它包括一个支撑层和一个辐射敏感层，其中辐射敏感层由上述混合物组成。该涂层材料特别适用于生产耐化学腐蚀的浮雕记录材料。用该涂层材料制作的平面印刷版可实现较高的印刷量，并且耐化学加工。