TCN-(O)(CF3)2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧杂环己烷
• 英文名称: TCN-(O)(CF3)2
• 英文别名: 4,4-Bis(trifluoromethyl)-3-oxatricyclo[4.2.1.02,5]non-7-ene
• 化学式: C₁₀H₈F₆O
• 分子量: 258.163
• InChiKey: OVDHCJQFZLZULF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  六氟丙酮 、 四环庚烷 以 乙醚 为溶剂， 反应 14.0h， 以90.1%的产率得到TCN-(O)(CF3)2
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated monomers, fluorinated polymers having polycyclic groups with fused 4-membered heterocyclic rings, useful as photoresists, and processes for microlithography

  摘要：

  本发明提供了一种新型的含氟共聚物，其包括至少一种含氟烯烃，至少一种具有融合的4-成员杂环环的多环乙烯不饱和单体，以及可选的其他组分。这些共聚物对于光刻成分特别是用于半导体器件生产中成像的光刻成分（正作用和/或负作用）非常有用。这些共聚物在具有高紫外透明度的光刻成分中特别有用（特别是在短波长，例如157纳米处），这些光刻成分可用作光刻胶的基础树脂，并且潜在地在许多其他应用中也很有用。

  公开号：

  US20060167284A1

文献信息

• US7326796B2
  申请人：——

  公开号：US7326796B2

  公开（公告）日：2008-02-05
• Fluorinated monomers, fluorinated polymers having polycyclic groups with fused 4-membered heterocyclic rings, useful as photoresists, and processes for microlithography
  申请人：Feiring E. Andrew

  公开号：US20060167284A1

  公开（公告）日：2006-07-27

  The present invention provides novel fluorine-containing copolymers which comprise at least one fluorinated olefin, at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer with a fused 4-membered heterocyclic ring and, optionally, other components. The copolymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The copolymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.

  本发明提供了一种新型的含氟共聚物，其包括至少一种含氟烯烃，至少一种具有融合的4-成员杂环环的多环乙烯不饱和单体，以及可选的其他组分。这些共聚物对于光刻成分特别是用于半导体器件生产中成像的光刻成分（正作用和/或负作用）非常有用。这些共聚物在具有高紫外透明度的光刻成分中特别有用（特别是在短波长，例如157纳米处），这些光刻成分可用作光刻胶的基础树脂，并且潜在地在许多其他应用中也很有用。