2-甲基萘-1,5-二醇 | 79786-99-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 2-甲基萘-1,5-二醇
• 英文名称: 1,5-Dihydroxy-2-methylnaphthalin
• 英文别名: 2-Methyl-1,5-naphthalindiol；2-Methylnaphthalene-1,5-diol
• CAS: 79786-99-5
• 化学式: C₁₁H₁₀O₂
• 分子量: 174.199
• InChiKey: DUZDUHSCGBRXJU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.09
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

上下游信息

• 上游原料

  中文名称	英文名称	CAS号	化学式	分子量
  5-甲氧基-2-甲基萘-1-醇	1-Hydroxy-5-methoxy-2-methylnaphthalin	79795-25-8	C12H12O2	188.226
  1,5-二羟基萘	1,5-dihydronaphthalene	83-56-7	C10H8O2	160.172
  钠3-羟基-7-甲氧基-2-萘甲酸酯	1-Hydroxy-5-methoxynaphthalin-2-carbonsaeure	79786-98-4	C12H10O4	218.209
  ——	2-Morpholinomethyl-1,5-naphthalindiol	115031-12-4	C15H17NO3	259.305

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基萘-1,5-二醇 在 potassium dihydrogenphosphate 、 potassium nitrososulfonate 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 2.0h， 以15%的产率得到5-羟基-6-甲基-1,4-萘醌
  参考文献：
  名称：

  1,4-萘醌类化合物的研究，第3部分。白花丹素及其同系物的合理合成

  摘要：

  2-烷基-1-羟基-5-甲氧基萘衍生物5和7是白花香素(11)及其乙基同系物12的位点特异性合成的合适起始组分。12的合成代表了位点特异性的一般方法白花素同系物的制备。

  DOI：

  10.1002/ardp.19813141010
• 作为产物：
  描述：

  1,5-二羟基萘 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 13.0h， 生成 2-甲基萘-1,5-二醇
  参考文献：
  名称：

  Moehrle, Hans; Folttmann, Hubertus, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1987, vol. 42, # 9, p. 1181 - 1186

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Eine neue Plumbagin-Synthese
  作者：Hans Möhrle、Hubertus Folttmann

  DOI：10.1002/ardp.19883210312

  日期：——

  Ausgehend von 1,5‐Naphthalindiol (1) wird über die Mono‐Mannichbase 2 durch gezielte Acetylierung das 5‐Acetoxy‐Derivat 4 gewonnen, das durch Hydrogenolyse mit Pd–C die entsprechende Methylverbindung 7 ergibt. Die folgende Oxidation mit Fremy's Salz und anschließende Hydrolyse generiert das Plumbagin (10) in einer Gesamtausbeute von 33%.

  以1,5-萘二醇(1)为原料，单-曼尼希碱2通过定向乙酰化得到5-乙酰氧基衍生物4，与Pd-C氢解得到相应的甲基化合物7。随后用 Fremy's 盐氧化并随后水解，以 33% 的总产率生成白花丹素 (10)。
• COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, SUBSTRATE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3508918A1

  公开（公告）日：2019-07-10

  The invention provides: a composition for forming an organic film, the composition having high filterability and enabling formation of an organic film which has high pattern-curving resistance, and which prevents a high-aspect line pattern particularly finer than 40 nm from line collapse and twisting after dry etching; a method for forming an organic film and a patterning process which use the composition; and a substrate for manufacturing a semiconductor device, including the organic film formed on the substrate. The composition for forming an organic film includes a condensate (A), which is a condensation product of dihydroxynaphthalene shown by the following formula (1) and a condensation agent, or a derivative of the condensate (A). A sulfur content among constituent elements contained in the condensate (A) or the derivative of the condensate (A) is 100 ppm or less in terms of mass.

  本发明提供了：一种用于形成有机薄膜的组合物，该组合物具有高过滤性，能够形成具有高图案抗弯曲性的有机薄膜，并且在干法蚀刻后能够防止特别细于40纳米的高光谱线图案发生线崩溃和扭曲；一种使用该组合物的形成有机薄膜的方法和图案化工艺；以及一种用于制造半导体器件的基板，包括在该基板上形成的有机薄膜。用于形成有机薄膜的组合物包括缩合物（A），它是下式（1）所示的二羟基萘和缩合剂的缩合产物，或缩合物（A）的衍生物。冷凝液（A）或冷凝液（A）的衍生物所含成分元素中的硫含量按质量计算不超过 100 ppm。
• Composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor device, method for forming organic film, and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US11018015B2

  公开（公告）日：2021-05-25

  The invention provides: a composition for forming an organic film, the composition having high filterability and enabling formation of an organic film which has high pattern-curving resistance, and which prevents a high-aspect line pattern particularly finer than 40 nm from line collapse and twisting after dry etching; a method for forming an organic film and a patterning process which use the composition; and a substrate for manufacturing a semiconductor device, including the organic film formed on the substrate. The composition for forming an organic film includes a condensate (A), which is a condensation product of dihydroxynaphthalene shown by the following formula (1) and a condensation agent, or a derivative of the condensate (A). A sulfur content among constituent elements contained in the condensate (A) or the derivative of the condensate (A) is 100 ppm or less in terms of mass.

  本发明提供了：一种用于形成有机薄膜的组合物，该组合物具有高过滤性，能够形成具有高图案抗弯曲性的有机薄膜，并且在干法蚀刻后能够防止特别细于40纳米的高光谱线图案发生线崩溃和扭曲；一种使用该组合物的形成有机薄膜的方法和图案化工艺；以及一种用于制造半导体器件的基板，包括在该基板上形成的有机薄膜。用于形成有机薄膜的组合物包括缩合物（A），它是下式（1）所示的二羟基萘和缩合剂的缩合产物，或缩合物（A）的衍生物。冷凝液（A）或冷凝液（A）的衍生物所含成分元素中的硫含量按质量计算不超过 100 ppm。
• MOHRLE, HANS;FOLTTMANN, HUBERTUS, Z. NATURFORSCH. B, 42,(1987) N 9, C. 1181-1186
  作者：MOHRLE, HANS、FOLTTMANN, HUBERTUS

  DOI：——

  日期：——
• COMPOUND CONTAINING PHENOLIC HYDROXYL GROUP, PHENOLIC RESIN, CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, SEMICONDUCTOR SEALING MATERIAL, AND PRINTED CIRCUIT BOARD
  申请人：DIC CORPORATION

  公开号：US20160122269A1

  公开（公告）日：2016-05-05

  There are provided a compound containing a phenolic hydroxyl group, which exhibits excellent heat resistance and excellent flame retardancy in terms of a cured product thereof, a phenolic resin including the same, a curable composition and a cured product thereof, a semiconductor sealing material, and a printed circuit board. The compound containing a phenolic hydroxyl group has a molecular structure represented by the following General Formula (I): wherein X is a structural site represented by the following Structural Formula (x1) or (x2); wherein, in Formula (x1) or (x2), k is an integer of 1 to 3, m is 1 or 2, Ar is a structural site represented by the following Structural Formula (Ar1), and in a case where when k or m is 2 or greater, a plurality of Ar's may be the same as or different from each other; wherein r is 1 or 2.