2-<4-(phenylthio)phenyl>ethanol | 102293-53-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: 2-<4-(phenylthio)phenyl>ethanol
• 英文别名: 2-(4-Phenylsulfanylphenyl)ethanol
• CAS: 102293-53-8
• 化学式: C₁₄H₁₄OS
• 分子量: 230.331
• InChiKey: VJZDKZIWKIPLOV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  45.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-<4-(phenylthio)phenyl>ethanol 在 吡啶 、 N-氯代丁二酰亚胺 、 四氯化锡 作用下， 以 四氯化碳 、 乙醇 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 7-Phenylsulfanyl-isothiochroman-1-carboxylic acid ethyl ester
  参考文献：
  名称：

  Ishibashi, Hiroyuki; Okada, Motofumi; Iida, Kyoko, Journal of Heterocyclic Chemistry, 1985, vol. 22, p. 1527 - 1529

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  ethyl <4-(phenylthio)phenyl>acetate 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以79%的产率得到2-<4-(phenylthio)phenyl>ethanol
  参考文献：
  名称：

  Ishibashi, Hiroyuki; Okada, Motofumi; Iida, Kyoko, Journal of Heterocyclic Chemistry, 1985, vol. 22, p. 1527 - 1529

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] NEW 3-ARYL PROPIONIC ACID DERIVATIVES AND ANALOGS<br/>[FR] NOUVEAUX DERIVES D'ACIDE 3-ARYL PROPIONIQUE ET ANALOGUES
  申请人：ASTRAZENECA AB

  公开号：WO1999062871A1

  公开（公告）日：1999-12-09

  (EN) Novel 3-aryl proprionic acid derivatives and analogs, having general formula (I) and stereo- and optical isomers and racemates thereof as well as pharmaceutically acceptable salts, solvates and crystalline forms thereof, process for their manufacture, pharmaceutical preparations containing them and the use of the compounds in clinical conditions associated with insulin resistance.(FR) L'invention concerne de nouveaux dérivés d'acide 3-aryl-propionique et leurs analogues, ayant la formule générale (I). L'invention concerne également leurs stéréo-isomères, leurs isomères optiques, leurs racémates ainsi que leurs sels pharmaceutiquement acceptables, leurs solvates et leurs formes cristallines. L'invention concerne enfin leur procédé de production, les préparations pharmaceutiques les contenant et l'utilisation de ces composés dans des états cliniques associés une insulinorésistance.

  (中) 新型3-芳基丙酸衍生物及其类似物，具有通式（I）和其立体和光学异构体以及它们的盐，溶剂化合物和晶体形式，其制造方法，包含它们的制药制剂以及在与胰岛素抵抗有关的临床情况下使用这些化合物的用途。
• New 3-aryl propionic acid derivatives and analogs
  申请人：——

  公开号：US20040229949A1

  公开（公告）日：2004-11-18

  Novel 3-aryl propionic acid derivatives and analogs, process and intermediate for their manufacture, pharmaceutical preparations containing them and the use of the compounds in clinical conditions associated with insulin resistance.

  小说3-芳基丙酸衍生物和类似物，其制造过程和中间体，含有它们的制药制剂以及在与胰岛素抵抗相关的临床病症中使用这些化合物的用途。
• 3-aryl propionic acid derivatives and analogs
  申请人：AstraZeneca AB

  公开号：US06630600B1

  公开（公告）日：2003-10-07

  Novel 3-aryl propionic acid derivatives and analogs, process and intermediate for their manufacture, pharmaceutical preparations containing them and the use of the compounds in clinical conditions associated with insulin resistance.

  小说3-芳基丙酸衍生物和类似物，其制造过程和中间体，含有它们的制药制剂以及在与胰岛素抵抗相关的临床情况中使用化合物的用途。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150132688A1

  公开（公告）日：2015-05-14

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having (a) a repeating unit represented by the specific formula; a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using a developer to form a pattern; a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method; and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中包括（P）具有（a）由特定公式表示的重复单元的树脂；使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成的抗蚀膜；包括（i）使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成膜的步骤，（ii）曝光膜的步骤，以及（iii）使用显影剂显影曝光的膜以形成图案的图案形成方法；一种制造电子设备的方法，包括图案形成方法；以及通过电子设备的制造方法制造的电子设备。
• Exploration on Metal-Catalytic Conversion of Sulfinyl Sulfones
  作者：Yilong Li、Lulu Liu、Dingjian Shan、Fangcan Liang、Shuo Wang、Le Yu、Ji-Quan Liu、Qingling Wang、Xinxin Shao、Dianhu Zhu

  DOI：10.1021/acscatal.3c03663

  日期：2023.10.20

  nickel-catalytic conversion of in situ-generated redox-active sulfinyl sulfones for reductive coupling with a wide variety of organic halides by the dual-role nickel catalyst and dual-role reductant Zn. Mechanistic studies disclose that the key design of such a reaction is the employment of redox-active sulfinyl sulfones, enabling the in situ generation of electrophilic sulfur reagents through zinc-induced

  亚磺酰砜在过渡金属催化合成化学中的应用很少被研究。在这里，我们报告了原位生成的氧化还原活性亚磺酰基砜的镍催化转化的设计和利用，通过双作用镍催化剂和双作用还原剂锌与多种有机卤化物进行还原偶联。机理研究表明，这种反应的关键设计是使用具有氧化还原活性的亚磺酰基砜，通过镍催化剂促进的锌诱导还原，能够原位生成亲电子硫试剂。该策略表现出对多种有机卤化物和官能团的良好耐受性。此外，该方法还扩展到间位取代的功能性二芳基硫醚，从而能够修饰复杂的生物活性分子和合成含硫醚的药物。