Bis[4-(2-methylbutan-2-yl)phenyl]iodanium acetate | 359434-73-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Bis[4-(2-methylbutan-2-yl)phenyl]iodanium acetate
• 英文别名: bis[4-(2-methylbutan-2-yl)phenyl]iodanium;acetate
• CAS: 359434-73-4
• 化学式: C24H33IO2
• 分子量: 480.4
• InChiKey: QPNFQGHSTJSIBV-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.95
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.46
• 拓扑面积：
  40.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  Di(4-t-amylphenyl)iodonium sulfate 、 Tetraammonium acetate 在 二氯甲烷 、 aqueous solution 、 四甲基氢氧化铵 、 Sodium sulfate-III 作用下， 以 水 为溶剂， 以to obtain di(4-tert-amylphenyl)iodonium acetate (e-1)的产率得到Bis[4-(2-methylbutan-2-yl)phenyl]iodanium acetate
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition

  摘要：

  一种正向型光刻胶组合物，包括（a）一种树脂，通过酸的作用分解以增加在碱性显影液中的溶解度，其中包含一个由规范中定义的公式（X）表示的基团，重量平均分子量不超过5,000，并且含有不超过40％的可分解酸基团，基于可分解酸基团和未受保护的碱溶性基团的总数；以及（b）一种在光致辐射或辐射照射下产生酸的化合物。

  公开号：

  US08080362B2

文献信息

• Negative-working resist composition for electron beams or X-rays
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020192592A1

  公开（公告）日：2002-12-19

  A negative-working resist composition for electron beams or X-rays comprising (A) a compound generating a sulfonic acid by the irradiation of electron beams or x-rays, (B) a resin which is insoluble in water and soluble in an alkali aqueous solution, (C) a crosslinking agent crosslinking with the resin (B) by the action of an acid, and (D) a compound generating a carboxylic acid having a specific structure by the irradiation of electron beams or x-rays.

  一种用于电子束或X射线的负型光刻胶组合物，包括（A）通过电子束或X射线辐射产生磺酸的化合物，（B）在水中不溶而在碱性水溶液中可溶的树脂，（C）通过酸作用与树脂（B）交联的交联剂，以及（D）通过电子束或X射线辐射产生具有特定结构的羧酸的化合物。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION
  申请人：Shirakawa Koji

  公开号：US20080096130A1

  公开（公告）日：2008-04-24

  A positive resist composition comprising (a) a resin that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, contains a structural unit having a group represented by formula (X) defined in the specification, has a weight average molecular weight of not more than 5,000, and contains an acid decomposable group in an amount of not more than 40% based on the sum total of a number of the acid decomposable group and a number of an alkali-soluble group not protected with the acid decomposable group, and (b) a compound that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

  一种正性光刻胶组合物，包括（a）一种树脂，该树脂通过酸的作用分解以增加其在碱性显影液中的溶解度，其中包含一个由式（X）定义的基团，其重均分子量不超过5,000，且酸分解基团的含量不超过酸分解基团数量和未受酸分解基团保护的碱溶性基团数量之和的40％；以及（b）一种化合物，在光致射线或辐射的照射下生成酸。
• Negative-working resist composition for electron beams or x-rays
  申请人：Yasunami Shoichiro

  公开号：US06887647B2

  公开（公告）日：2005-05-03

  A negative-working resist composition for electron beams or X-rays comprising (A) a compound generating a sulfonic acid by the irradiation of electron beams or x-rays, (B) a resin which is insoluble in water and soluble in an alkali aqueous solution, (C) a crosslinking agent crosslinking with the resin (B) by the action of an acid, and (D) a compound generating a carboxylic acid having a specific structure by the irradiation of electron beams or x-rays.

  一种用于电子束或X射线的负性光刻胶组合物，包括（A）一种通过电子束或X射线辐照产生磺酸的化合物，（B）一种在水中不溶而在碱性水溶液中可溶的树脂，（C）一种通过酸的作用与树脂（B）交联的交联剂，以及（D）一种通过电子束或X射线辐照产生具有特定结构的羧酸的化合物。
• NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP1656590A2

  公开（公告）日：2006-05-17
• US6887647B2
  申请人：——

  公开号：US6887647B2

  公开（公告）日：2005-05-03