4'-propoxy-biphenyl-4-carboxylic acid ethyl ester | 131610-59-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4'-propoxy-biphenyl-4-carboxylic acid ethyl ester
• 英文别名: 4'-Propoxy-biphenyl-4-carbonsaeure-aethylester；Ethyl 4-(4-n-propyloxyphenyl)benzoate；ethyl-4-(4-n-propoxyphenyl) benzoate；ethyl 4-(4-propoxyphenyl)benzoate
• CAS: 131610-59-8
• 化学式: C₁₈H₂₀O₃
• 分子量: 284.355
• InChiKey: ZJQFHVBZVBSWLO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.28
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-羟基-4-联苯基羧酸乙酯 生成 4-丙氧基-4’-二苯甲酸 、 4'-propoxy-biphenyl-4-carboxylic acid ethyl ester
  参考文献：
  名称：

  Optically active compound and photosensitive resin composition

  摘要：

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。

  公开号：

  US20030211421A1

文献信息

• Alkenyl ether derivative and liquid crystal composition containing the
  申请人：Chisso Corporation

  公开号：US05180519A1

  公开（公告）日：1993-01-19

  An alkenyl ether derivative having a low viscosity, a good compatibility with other liquid crystalline compounds and being capable of use in preparing a liquid crystal display element having a high response rate are provided, which derivative is expressed by the formula R.sub.1 --CH.sub.2 --O--(CH.sub.2)n--A.sub.1 --A.sub.2 A.sub.3 --R.sub.2[1] wherein R.sub.1 is a 2-7C alkenyl group having a double bond at its terminal or a double bond of a trans configuration at a position other than its terminal, R.sub.2 is 1-10C alkyl group or alkoxy group, A.sub.1 and A.sub.2 each independently are a 1,4-phenylene or a trans-1,4-cyclohexylene, A.sub.3 represents a 1,4-phenylene, a trans-1,4-cyclohexylene or a single bond and n is 1 or 2.

  提供具有低粘度、与其他液晶化合物具有良好相容性并可用于制备具有高响应速率的液晶显示元件的烯基醚衍生物，该衍生物由以下式表示：R.sub.1 --CH.sub.2 --O--(CH.sub.2)n--A.sub.1 --A.sub.2 A.sub.3 --R.sub.2[1] 其中R.sub.1是具有2-7C碳数的烯基基团，在其末端具有双键或在非末端位置具有反式构型的双键，R.sub.2是1-10C碳数的烷基基团或烷氧基，A.sub.1和A.sub.2各自独立地是1,4-苯基或反-1,4-环己基，A.sub.3代表1,4-苯基、反-1,4-环己基或单键，n为1或2。
• Alkenyl ether derivatives and liquid crystal composition containing the same
  申请人：Chisso Corporation

  公开号：EP0388150A1

  公开（公告）日：1990-09-19

  Alkenyl ether derivatives having a low viscosity, a good compatibility with other liquid crystalline compounds and suitable for use in the preparation of liquid crystal display elements, have the formula: R₁-CH₂-O-(CH₂)n-A₁-A₂-A₃-R₂      (1) in which R₁ represents a C₂-C₇ alkenyl group having a double bond at its terminal position or a double bond having a trans configuration at a position other than the terminal position; R₂ represents a C₁-C₁₀ alkyl or C₁-C₁₀ alkoxy group; A₁ and A₂ are the same or are different and each represents a 1,4-phenylene or trans-1,4-cyclohexylene group, or a single bond; and n is 1 or 2.

  烯基醚衍生物粘度低，与其他液晶化合物的相容性好，适用于制备液晶显示元件，其化学式为 R₁-CH₂-O-(CH₂)n-A₁-A₂-A₃-R₂ (1) 其中 R₁ 代表在末端位置具有双键的 C₂-C₇ 烯基，或在末端位置以外的位置具有反式构型的双键；R₂ 代表 C₁-C₁₀烷基或 C₁-C₁₀烷氧基； A₁ 和 A₂ 相同或不同，且各自代表 1,4-亚苯基或反式-1,4-环己烯基团或单键；且 n 为 1 或 2。
• OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Kansai Research Institute, Inc.

  公开号：EP1375463A1

  公开（公告）日：2004-01-02

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  光活性化合物与光敏剂结合使用，光敏剂由下式（1）表示： A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元，包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团；J 代表连接基团；X-Pro 代表亲水基团，该亲水基团受保护基团 Pro 的保护，该保护基团可通过光照去除；m 代表 0 或 1；n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂（特别是光酸发生器）一起进行光照射而去除，也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度，因此在抗蚀剂应用中，光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
• US5180519A
  申请人：——

  公开号：US5180519A

  公开（公告）日：1993-01-19
• US7534547B2
  申请人：——

  公开号：US7534547B2

  公开（公告）日：2009-05-19