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Boc-2-aminobenzene-1,4-dicarboxylic acid | 1135615-41-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Boc-2-aminobenzene-1,4-dicarboxylic acid
英文别名
2-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]terephthalic acid
Boc-2-aminobenzene-1,4-dicarboxylic acid化学式
CAS
1135615-41-6
化学式
C13H15NO6
mdl
——
分子量
281.265
InChiKey
DREUUSIJRIKGPQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    417.2±40.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.382±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.1
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.31
  • 拓扑面积:
    113
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    6

安全信息

  • 危险等级:
    IRRITANT

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    Boc-2-aminobenzene-1,4-dicarboxylic acid 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 以70%的产率得到(4-methyl-3-(methylamino)phenyl)methanol
    参考文献:
    名称:
    新型N(9)甲基化AHMA类似物的合成与抗肿瘤活性†
    摘要:
    描述了一种新型抗肿瘤N(9)-甲基-3-(9-amino啶基氨基)-5-羟甲基苯胺(AHMA)衍生物的合成方法。氨基苯甲酸的Boc保护,然后LiAlH 4还原,得到了新颖的甲基氨基苄醇反应物。他们与9-氯ac啶提供N(9)-甲基化的AHMA衍生物用于生物筛选。针对七种癌细胞系的初步抗增殖试验确定了具有低μMIC 50值的化合物。
    DOI:
    10.1039/c2nj40567a
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    新型N(9)甲基化AHMA类似物的合成与抗肿瘤活性†
    摘要:
    描述了一种新型抗肿瘤N(9)-甲基-3-(9-amino啶基氨基)-5-羟甲基苯胺(AHMA)衍生物的合成方法。氨基苯甲酸的Boc保护,然后LiAlH 4还原,得到了新颖的甲基氨基苄醇反应物。他们与9-氯ac啶提供N(9)-甲基化的AHMA衍生物用于生物筛选。针对七种癌细胞系的初步抗增殖试验确定了具有低μMIC 50值的化合物。
    DOI:
    10.1039/c2nj40567a
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文献信息

  • ACETYLENE COMPOUND, SALT THEREOF, CONDENSATE THEREOF, AND COMPOSITION THEREOF
    申请人:Fujifilm Corporation
    公开号:EP2202220A1
    公开(公告)日:2010-06-30
    [Problem to be Solved] To provide an acetylene compound having a structure in which a unit having an amino group and a unit having an ethynyl group are bonded via a linking group, the acetylene compound being introducable to a polymer having thermal resistance. [Means for Solving the Problem] An acetylene compound represented by the following Formula (1) and a salt thereof: wherein in Formula (1), X represents a single bond or a divalent linking group; A represents a hydrocarbon group, a heteroaromatic ring or a heteroalicyclic compound; B represents a hydrocarbon group, a heteroaromatic ring, a heteroalicyclic compound or a single bond; R1 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a heteroaromatic ring, a heteroalicyclic compound or a silyl group; R4 represents a hydrogen atom or a group that can be a substituent of an amino group; and m, n and a each independently represent an integer of 1 or greater.
    解决的问题是提供一种乙炔化合物,其结构中含有通过连接基团连接的具有基团和乙炔基团的单元,该乙炔化合物可引入到具有热阻抗的聚合物中。解决问题的方法是通过以下式(1)表示的乙炔化合物及其盐:其中在式(1)中,X代表单键或二价连接基团;A代表烃基团、杂环芳香环或杂环脂环化合物;B代表烃基团、杂环芳香环、杂环脂环化合物或单键;R1代表氢原子、烃基团、杂环芳香环、杂环脂环化合物或基团;R4代表氢原子或可作为基团的取代基团;m、n和a分别独立表示大于或等于1的整数。
  • COMPOSITION FOR FORMING HIGHLY ADHESIVE RESIST UNDERLAYER FILM
    申请人:NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD
    公开号:US20150031206A1
    公开(公告)日:2015-01-29
    A composition for forming a resist underlayer film for lithography, including a polymer having a repeating structural unit of Formula (1): R 1 is a hydrogen atom or a methyl group and Q 1 is a group of Formula (2) or Formula (3): (wherein R 2 , R 3 , R 5 , and R 6 are independently a hydrogen atom or a linear or branched hydrocarbon group having a carbon atom number of 1 to 4, R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, R 7 is a linear or branched hydrocarbon group having a carbon atom number of 1 to 6, a C 1-4 alkoxy group, a C 1-4 alkylthio group, a halogen atom, a cyano group, or a nitro group, w 1 is an integer of 0 to 3, w 2 is an integer of 0 to 2, and x is an integer of 0 to 3), and v 1 and v 2 are independently 0 or 1; and an organic solvent.
    一种用于光刻的阻抗下层膜的组合物,包括具有重复结构单元公式(1)的聚合物:其中R1是氢原子或甲基基团,Q1是公式(2)或公式(3)的基团:(其中R2、R3、R5和R6分别是具有1至4个碳原子的线性或支链烃基或氢原子,R4是氢原子或甲基基团,R7是具有1至6个碳原子的线性或支链烃基、C1-4烷氧基、C1-4烷基、卤素原子、基或硝基,w1为0至3的整数,w2为0至2的整数,x为0至3的整数),以及有机溶剂。
  • US9195137B2
    申请人:——
    公开号:US9195137B2
    公开(公告)日:2015-11-24
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