(F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthesevon F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner
Photochemistry of low-temperature matrixes containing carbonyl sulfide: reactions of sulfur atoms with the phosphorus trihalides phosphorus trifluoride (PF3) and phosphorus trichloride (PCl3) and the hydrocarbons methane, ethene, and ethyne
作者:Michael Hawkins、Matthew J. Almond、Anthony J. Downs