申请人:CIBA-GEIGY AG
公开号:EP0134752A1
公开(公告)日:1985-03-20
Beschichtetes Material aus einem Träger auf dem eine strahlungsempfindliche aus einem Homo- oder Copolymer mit mindestens 5 Mol.-%, bezogen auf das Polymer, Struktureinheiten der Formel 1
worin R ein zweiwertiger aliphatischer Rest, der durch Heteroatome, aromatische, heterocyclische oder cycloaliphatische Gruppen unterbrochen sein kann, ein cycloaliphatischer, heterocyclischer oder araliphatischer Rest, ein aromatischer Rest, bei dem zwei Arylkerne über eine aliphatische Gruppe verknüpft sind, oder ein durch mindestens eine Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Alkoxyalkylgruppe, Alkylthiogruppe, Alkylthioalkylgruppe, Hydroxyalkylgruppe, Hydroxyalkoxygruppe, Hydroxyalkylthiogruppe, Aralkylgruppe oder zwei benachbarte C-Atome des aromatischen Restes durch eine Alkylengruppe substituierter aromatischer Rest ist, R' unabhängig die gleiche Bedeutung wie R hat und q für 0 oder 1 steht, wobei R als aromatischer Rest nicht durch Alkylen und nicht durch die zuvor genannten Reste substituiert ist, wenn q = 0 ist, aufgebracht ist. Die Schicht kann direkt durch Strahlungseinwirkung vernetzt werden. Das Material eignet sich z.B zur Herstellung von Schutzfilmen und von Reliefabbildungen.
一种涂层材料,包括一种支撑物,在该支撑物上有一种辐射敏感的均聚物或共聚物,该均聚物或共聚物含有至少 5 摩尔%的式 1 结构单元(以聚合物为基数)。
烷硫基、羟基烷基、羟基烷氧基、羟基烷硫基、芳基或被亚烷基取代的芳香基的两个相邻 C 原子,R'独立地具有与 R 相同的含义,q 为 0 或 1,其中作为芳香基的 R 在 q = 0 时未被亚烷基取代,也未被前面提到的基取代。该层可通过辐射直接交联。这种材料适用于制作保护膜和浮雕图像等。