三苯基锍四氟硼酸盐 | 437-13-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 三苯基锍四氟硼酸盐
• 英文名称: Triphenylsulfonium Tetrafluoroborate
• 英文别名: triphenylsulfanium;tetrafluoroborate
• CAS: 437-13-8
• 化学式: C18H15BF4S
• 分子量: 350.2
• InChiKey: RTWMEMGVYYTCOZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  194 °C
• 溶解度：
  溶于甲醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.08
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 危险等级：
  8
• 海关编码：
  2930909090
• 危险品运输编号：
  UN 1759

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  镁 、 溴苯 、 、 、 二苯基亚砜 、 氟硼酸 在 二氯甲烷 、 水 、 Sodium sulfate-III 、 diethyl ether ; compound with chloroform 作用下， 以 乙醚 、 苯 为溶剂， 反应 62.0h， 以to give 28 g of triphenylsulfonium tetrafluoroborate as white crystals的产率得到三苯基锍四氟硼酸盐
  参考文献：
  名称：

  Pattern formation method

  摘要：

  一种抗性材料，包括(a)三元聚合物，(b)光酸发生剂和(c)溶剂，具有高光敏度、耐热性、粘附性、分辨率等特点，适用于形成矩形图案。

  公开号：

  US05558976A1

文献信息

• Pattern formation method
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, LTD.

  公开号：US05558976A1

  公开（公告）日：1996-09-24

  A resist material comprising (a) a terpolymer, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent has high light sensitivity, heat resistance, adhesiveness, resolution, etc., and is suitable for forming a pattern of rectangular shape.

  一种抗性材料，包括(a)三元聚合物，(b)光酸发生剂和(c)溶剂，具有高光敏度、耐热性、粘附性、分辨率等特点，适用于形成矩形图案。
• Resist material
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05558971A1

  公开（公告）日：1996-09-24

  A resist material comprising (a) a terpolymer, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent has high light sensitivity, heat resistance, adhesiveness, resolution, etc., and is suitable for forming a pattern of rectangular shape.

  一种抗阻材料包括（a）三元聚合物，（b）光酸发生剂和（c）溶剂，具有高光敏度，耐热性，粘附性，分辨率等特点，适用于形成矩形形状的图案。