作者:Sujan S. Dua、Colin Eaborn、Duncan A.R. Harper、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、David R.M. Walton
DOI:10.1016/s0022-328x(00)87861-4
日期:1979.9
Treatment of (Me3Si)3CLi (“trisyl”lithium, TsiLi) with appropriate silicon halides has given a range of compounds of the type (Me3Si)3CSiRR′X; e.g., TsiSiCl3, TsiSiMeCl2, TsiSiMe2X (X = Cl, OMe), TsiSiPh2X (X = F, Cl, OMe), and TsiSiPhMeH. The trisyl group causes very large steric hindrance to nucleophilic displacements at the silicon to which it is attached, so that (unless one or more hydride ligands
用适当的卤化硅处理(Me 3 Si)3 CLi(“三基”锂,TsiLi)产生了一系列类型为(Me 3 Si)3 CSiRR'X的化合物。例如,TsiSiCl 3,TsiSiMeCl 2,TsiSiMe 2 X(X = Cl,OMe),TsiSiPh 2 X(X = F,Cl,OMe)和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻,因此(除非存在一个或多个氢化物配体)在硅上不会发生大多数常见的位移。但是,LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物,并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍,因此,例如,TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH(OMe)。