dimethyl[tris(trimethylsilyl)methyl]silane | 28830-24-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: dimethyl[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
• 英文别名: tris(trimethylsilylmethyl)dimethylsilane；dimethylsilan；[Tris(trimethylsilyl)methyl]dimethylsilan；[(Dimethylsilyl)methanetriyl]tris(trimethylsilane)；[dimethylsilyl-bis(trimethylsilyl)methyl]-trimethylsilane
• CAS: 28830-24-2
• 化学式: C₁₂H₃₄Si₄
• 分子量: 290.744
• InChiKey: SMMATPPZUNEWKH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  312 °C
• 沸点：
  261.4±35.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.85
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dimethyl[tris(trimethylsilyl)methyl]silane 在 一氯化碘 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 生成 {[Iodo(dimethyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane)
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4
• 作为产物：
  描述：

  Chlordimethylsilyl-tris(trimethylsislyl)methan 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 生成 dimethyl[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4

文献信息

• Anchimeric assistance by γ-substituents Z, Z=MeO, PhO, MeS or PhS, in reactions of the bromides (Me3Si)2(ZMe2Si)CSiMe2Br with AgBF4
  作者：Colin Eaborn、Anna Kowalewska、J David Smith、Wlodziemierz A Stańczyk

  DOI：10.1016/s0022-328x(01)01169-x

  日期：2001.12

  products by 19F-NMR spectroscopy, have led to the following approximate relative reactivities of the bromides and so to the relative abilities of the γ-Z groups to provide anchimeric assistance to the leaving of Br− in this reaction: Me, 1; Ph, 40; PhO, 3400; PhS, 5000; MeS, 7000; MeO, 54 000. In methanolysis in CH2Cl2, (Me3Si)2(MeOMe2Si)CSiMe2Cl has been found to be roughly 120 times as reactive as

  制备了Z = PhO或MeS的新型有机硅溴化物（Me 3 Si）2（ZMe 2 Si）CSiMe 2 Br，并获得了先前报道的Z = H，F，Br，Me，Ph， MeO或PhS。通过19 F-NMR光谱法确定氟化物产物的比率，对成对的溴化物之间因Et 2 O中AgBF 4缺乏而产生的竞争导致了以下近似的溴化物相对反应性，因此也带来了相对能力该γ-Z组，以提供BR的邻位留下的援助-在这个反应中：我1；40岁；博士，3400; PhS，5000；MeS，7000；MeO，54000 。在CH 2 Cl 2的甲醇分解反应中，发现（Me 3 Si）2（MeOMe 2 Si）CSiMe 2 Cl的反应活性约为（Me 3 Si）2（PhOMe 2 Si）CSiMe的120倍。2 Cl。结果与先前可用信息的结合表明，在化合物（Me 3 Si）2（ZMe 2 Si）CSiMe 2 X：OCOMe中，Si-
• Reactions at highly sterically hindered organosilicon centres. Chemistry of (Me3Si)3 CSiPhHI, (Me3Si)3CSiPh(OMe)I, and related species
  作者：Zakariah H. Aiube、Colin Eaborn

  DOI：10.1016/0022-328x(91)86400-k

  日期：1991.12

  (Me3Si)2C(SiPhHMe)(SiMe2F). The reactions of the iodide TsiSiPh(OMe)I with AgY give the unrearranged products TsiSiPh(OMe)Y, except that reaction with AgO2CMe in MeCO2H seems also to give some (Me3Si)2C[SiPh(OMe)Me](SiMe2O2CMe). Treatment of the hydrides TsiSiPhHX (X = OMe, OH, or F) with one molar proportion of ICl in CCl4 gives the iodides TsiSiPhXI, and these react with a further molar proportion of

  碘化物TsiSiPhHI（Tsi =（Me 3 Si）3 C）已显示与一定范围的银（I）盐AgY反应，得到相应的TsiSiPhHY物种。与AgOCN的反应取决于条件，可以是单独的异氰酸酯，也可以是其与正氰酸酯的混合物。出乎意料的是，尽管与Et 2 O中的AgBF 4反应仅生成TsiSiPhHF，但在CH 2 Cl 2中的相同反应却得到了其与重排的（Me 3 Si）2 C（SiPhHMe）（SiMe 2 F）的混合物。碘化物TsiSiPh（OMe）I与AgY的反应产生未重排的产物TsiSiPh（OMe）Y，除了与AgO 2的反应MeCO 2 H中的CMe似乎也能提供一些（Me 3 Si）2 C [SiPh（OMe）Me]（SiMe 2 O 2 CMe）。用一摩尔比例的ICl在CCl 4中处理氢化物TsiSiPhHX（X = OMe，OH或F）得到碘化物TsiSiPhXI，它们与另一摩尔比例的
• Reactions of some sterically-hindered organosilicon hydrides and iodides with halogens
  作者：Colin Eaborn、Abdulrahman I. Mansour

  DOI：10.1016/0022-328x(83)80129-6

  日期：1983.10

  The reaction of TsiSiMe2H (I) (Tsi = (Me3Si)3C) with I2 or with a molar equivalent of ICl gives the iodide TsiSiMe2I (II) in hydroxylic media (MeOH, CH3CO2H, CF3CO2H) as it does in CCl4. The reaction with I2 is very fast in CF3CO2H, but in MeOH is only about as fast as in CCl4. The iodide II reacts with ICl in MeOH to give a mixture of TsiSiMe2OMe (III) and TsiSiMe2Cl (IV), but the reaction is markedly

  TsiSiMe 2 H（I）（Tsi =（Me 3 Si）3 C）与I 2或与摩尔当量的ICl反应生成碘化物TsiSiMe 2 I（II）在羟基介质（MeOH，CH 3 CO 2 H ，CF 3 CO 2 H），就像在CCl 4中一样。在CF 3 CO 2 H中与I 2的反应非常快，但在MeOH中的反应仅与在CCl 4中的反应差不多。碘化物II与ICl在MeOH中反应生成TsiSiMe 2 OMe（III）和TsiSiMe 2 Cl（IV）的混合物，但该反应明显慢于CCl4（其中形成IV）。氢化物I也与INO 3在MeOH中反应生成II，后者与INO 3反应生成III。TsiSiPh 2 H（V）和TsiSiPh 2 I（VI）与ICl在MeOH中的反应明显慢于I和II。即使在MeOH中加入一当量的ICl，V也会得到VI和（重排）甲醇盐（Me 3 Si）2 C（SiPh 2 Me）（SiMe
• Reaction of the (Dichloromethyl)oligosilanes R(Me3Si)2Si−CHCl2 (R = Me, Ph, Me3Si) with Organolithium Reagents and the Synthesis of Novel Kinetically Stabilized Silenes
  作者：Kathleen Schmohl、Helmut Reinke、Hartmut Oehme

  DOI：10.1002/1099-0682(200102)2001:2<481::aid-ejic481>3.0.co;2-6

  日期：2001.2

  silanols, by the addition of methanol to give methoxysilanes and by formal [2+2] cycloadditions with benzaldehyde to afford stable 1,2-oxasiletanes. 1-Methyl-1-(2,4,6-triisopropylphenyl)-2,2-bis(trimethylsilyl)silene (8a), produced as intermediate from 1a and 2,4,6-triisopropylphenyllithium (1:2), proved to be unstable in the presence of excess aryllithium compound. Thus, only the addition product Me(2

  二氯甲基低聚硅烷 R1(Me3Si)2Si-CHCl2 (1a,b) (1a: R1 = Me; 1b: R1 = Ph)，分别用氯仿和叔叔钾处理甲基双（三甲基甲硅烷基）硅烷或苯基双（三甲基甲硅烷基）硅烷制备-丁醇盐，用有机锂试剂 R2Li (R2 = Me, Ph) 处理，生成中间体有机锂衍生物 R1R22Si-CLi(SiMe3)2 (10)。在水性后处理期间水解 10 得到 [双（三甲基甲硅烷基）甲基] 硅烷 R1R22Si-CH(SiMe3)2 (2)；用氯三甲基硅烷淬灭反应混合物得到[三(三甲基甲硅烷基)甲基]硅烷 R1R22Si-C(SiMe3)3 (11)。讨论 10 的形成是通过一系列显着的异构化过程进行的，这些过程涉及瞬态 silene R1R2Si=C(SiMe3)2 (7)，在有效过量的 R2Li 存在下，它立即被捕获，得到 10。通过使用空间拥挤的有机锂衍生物，可以防止
• El-Durini, Nabil M. K.; Jackson, Richard A., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1983, p. 1275 - 1278
  作者：El-Durini, Nabil M. K.、Jackson, Richard A.

  DOI：——

  日期：——