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triphenylsulfonium pentacyanocyclopentadienide

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
triphenylsulfonium pentacyanocyclopentadienide
英文别名
(2,3,4,5-Tetracyanocyclopenta-2,4-dien-1-ylidene)methylideneazanide;triphenylsulfanium;(2,3,4,5-tetracyanocyclopenta-2,4-dien-1-ylidene)methylideneazanide;triphenylsulfanium
triphenylsulfonium pentacyanocyclopentadienide化学式
CAS
——
化学式
C10N5*C18H15S
mdl
——
分子量
453.527
InChiKey
HDERDGFTGMDEOX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.64
  • 重原子数:
    34
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    97.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    IONIC, ORGANIC PHOTOACID GENERATORS FOR DUV, MUV AND OPTICAL LITHOGRAPHY BASED ON PERACEPTOR-SUBSTITUTED AROMATIC ANIONS
    摘要:
    一种光酸产生化合物P+A−,包含一个天线基团P+,该天线基团P+包含一个在光作用下能产生质子的阳离子,以及一个A−基团,该A−基团包含一个弱配位的全受体取代的芳香阴离子,该芳香阴离子不含氟或半金属元素如硼。在一个实施例中,此类阴离子包含以下化合物4、5、6和7,其中E包含一个吸电子基团,移除一个质子产生芳香性。P+包含一个铵盐阳离子,该铵盐阳离子在光子作用下分解成质子和其他组分。P+可以包含一个有机硫族铵盐阳离子或一个卤铵盐阳离子,其中在另一个实施例中,硫族铵盐阳离子可以包含一个氧铵盐、硫铵盐、硒铵盐、碲铵盐或铵盐阳离子,而卤铵盐阳离子可以包含一个碘铵盐、氯铵盐或溴铵盐阳离子。一种新型化合物包含TPS CN5。一种光刻配方包含光酸产生剂与光刻组合物如光刻聚合物的组合。当该配方位于基底上时,它暴露于光学光刻辐射或ArF(193 nm)或KrF(248 nm)辐射,并进行显影。一个产品包含通过本发明方法制造的制品。
    公开号:
    US20090176173A1
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文献信息

  • US7655379B2
    申请人:——
    公开号:US7655379B2
    公开(公告)日:2010-02-02
  • IONIC, ORGANIC PHOTOACID GENERATORS FOR DUV, MUV AND OPTICAL LITHOGRAPHY BASED ON PERACEPTOR-SUBSTITUTED AROMATIC ANIONS
    申请人:Glodde Martin
    公开号:US20090176173A1
    公开(公告)日:2009-07-09
    A photoacid generator compound P + A − , comprises an antenna group P + comprising a cation that generates protons upon interaction with light, and A − comprising a weakly coordinating peracceptor-substituted aromatic anion that does not contain fluorine or semi-metallic elements such as boron. In one embodiment, such anions comprise the following compounds 4, 5, 6 and 7, wherein E comprises an electron-withdrawing group and the removal of one proton generates aromaticity. P + comprises an onium cation that decomposes into a proton and other components upon interaction with photons. P + may comprise an organic chalcogen onium cation or a halonium cation, wherein the chalcogen onium cation in another embodiment may comprises an oxonium, sulfonium, selenium, tellurium, or onium cation, and the halonium cation may comprise an iodonium, chlorine or bromine onium cation. A novel compound comprises TPS CN5. A photolithographic formulation comprises the photoacid generator in combination with a photolithographic composition such as a photolithographic polymer. The formulation, when on a substrate, is exposed to optical lithographic radiation or ArF (193 nm) or KrF (248 nm) radiation, and developed. A product comprises an article of manufacture made by the method of the invention.
    一种光酸产生化合物P+A−,包含一个天线基团P+,该天线基团P+包含一个在光作用下能产生质子的阳离子,以及一个A−基团,该A−基团包含一个弱配位的全受体取代的芳香阴离子,该芳香阴离子不含氟或半金属元素如硼。在一个实施例中,此类阴离子包含以下化合物4、5、6和7,其中E包含一个吸电子基团,移除一个质子产生芳香性。P+包含一个铵盐阳离子,该铵盐阳离子在光子作用下分解成质子和其他组分。P+可以包含一个有机硫族铵盐阳离子或一个卤铵盐阳离子,其中在另一个实施例中,硫族铵盐阳离子可以包含一个氧铵盐、硫铵盐、硒铵盐、碲铵盐或铵盐阳离子,而卤铵盐阳离子可以包含一个碘铵盐、氯铵盐或溴铵盐阳离子。一种新型化合物包含TPS CN5。一种光刻配方包含光酸产生剂与光刻组合物如光刻聚合物的组合。当该配方位于基底上时,它暴露于光学光刻辐射或ArF(193 nm)或KrF(248 nm)辐射,并进行显影。一个产品包含通过本发明方法制造的制品。
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