8-chlorooctyl vinyl ether

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 有机氯化物
• 英文名称: 8-chlorooctyl vinyl ether
• 英文别名: 1-chloro-8-ethenoxyoctane
• 化学式: C₁₀H₁₉ClO
• 分子量: 190.713
• InChiKey: JHEBBEQGBZDHDA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-hydroxyphenyl diphenylsulfonium nonafluoro-n-butanesulfonate 、 8-chlorooctyl vinyl ether 在 四甲基乙二胺 、 potassium carbonate 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 4-vinyloxyoctoxyphenyldiphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Sulfonium salts

  摘要：

  本发明提供了一种可用作光酸发生剂的磺鎓盐，该磺鎓盐不会引起与具有酸解离基团的光阻聚合物的相容性差的问题。该磺鎓盐由式（1）表示：其中，R1表示线性或支链的C2至C9的双价碳氢基团；R2至R5中的每一个表示氢原子或线性或支链的C1至C3碳氢基团；R6和R7中的每一个表示有机基团；R6和R7可以连接在一起形成双价有机基团；X-表示阴离子。

  公开号：

  US20070219368A1
• 作为产物：
  描述：

  乙酸乙烯酯 、 8-氯-1-辛醇 在 bis(1,5-cyclooctadiene)diiridium(I) dichloride sodium carbonate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 8-chlorooctyl vinyl ether
  参考文献：
  名称：

  Sulfonium salts

  摘要：

  本发明提供了一种可用作光酸发生剂的磺鎓盐，该磺鎓盐不会引起与具有酸解离基团的光阻聚合物的相容性差的问题。该磺鎓盐由式（1）表示：其中，R1表示线性或支链的C2至C9的双价碳氢基团；R2至R5中的每一个表示氢原子或线性或支链的C1至C3碳氢基团；R6和R7中的每一个表示有机基团；R6和R7可以连接在一起形成双价有机基团；X-表示阴离子。

  公开号：

  US20070219368A1

文献信息

• Photosensitive resin, and photosensitive composition
  申请人：Hyogo Prefecture

  公开号：US07858287B2

  公开（公告）日：2010-12-28

  A photosensitive resin realizes formation of a pattern having a good shape, without introducing poor compatibility between an acid generator and a photoresist primary-component polymer having an acid-dissociable group, and a photosensitive composition containing the photosensitive resin. The photosensitive resin includes a repeating unit represented by formula (1): (wherein R1 represents a C2-C9 linear or branched divalent hydrocarbon group; each of R2 to R5 represents a hydrogen atom or a C1-C3 linear or branched hydrocarbon group; each of R6 and R7 represents an organic group, wherein R6 and R7 may together form a divalent organic group; and X−represents an anion); at least one of a repeating unit represented by formula (2): (wherein R8 represents a C2-C9 linear or branched hydrocarbon group) and a repeating unit represented by formula (3): a repeating unit represented by formula (4): optionally, a repeating unit represented by formula (5).

  一种光敏树脂实现了形成良好形状的图案，不会引入酸发生剂和具有酸可解离基团的光刻主要组分聚合物之间的不良相容性，以及含有该光敏树脂的光敏组合物。该光敏树脂包括由式（1）表示的重复单元：（其中R1表示C2-C9线性或支链双价碳氢基团；R2至R5中的每一个表示氢原子或C1-C3线性或支链碳氢基团；R6和R7中的每一个表示有机基团，其中R6和R7可以共同形成双价有机基团；X-表示阴离子）；由式（2）表示的重复单元中的至少一个：（其中R8表示C2-C9线性或支链碳氢基团）；由式（3）表示的重复单元；由式（4）表示的重复单元；可选地，由式（5）表示的重复单元。
• PHOTOSENSITIVE RESIN, AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Watanabe Takeo

  公开号：US20090142697A1

  公开（公告）日：2009-06-04

  To provide a photosensitive resin which realizes formation of a pattern having a good shape, without involving a problem in terms of poor compatibility between an acid generator and a photoresist primary-component polymer having an acid dissociable group, and a photosensitive composition containing the photosensitive resin. The photosensitive resin includes a repeating unit represented by formula (1): (wherein R 1 represents a C2-C9 linear or branched divalent hydrocarbon group; each of R 2 to R 5 represents a hydrogen atom or a C1-C3 linear or branched hydrocarbon group; each of R 6 and R 7 represents an organic group, wherein R 6 and R 7 may together form a divalent organic group; and X − represents an anion); at least one of a repeating unit represented by formula (2): (wherein R 8 represents a C2-C9 linear or branched hydrocarbon group) and a repeating unit represented by formula (3): a repeating unit represented by formula (4): optionally, a repeating unit represented by formula (5).

  提供一种光敏树脂，实现形成具有良好形状的图案，而不涉及酸发生剂和具有酸可解离基团的光刻原料主要组分聚合物之间相容性差的问题，并且包含该光敏树脂的光敏组合物。该光敏树脂包括由式（1）表示的重复单元：（其中R1表示C2-C9线性或支链二价碳氢基团；R2至R5中的每一个表示氢原子或C1-C3线性或支链碳氢基团；R6和R7中的每一个表示有机基团，其中R6和R7可以共同形成二价有机基团；X-表示阴离子）；由式（2）表示的重复单元中的至少一个：（其中R8表示C2-C9线性或支链碳氢基团）和由式（3）表示的重复单元；由式（4）表示的重复单元；可选地，由式（5）表示的重复单元。
• Block copolyester plastifiers and halogen-containing polymer compositions containing them
  申请人：MONSANTO COMPANY

  公开号：EP0038392A1

  公开（公告）日：1981-10-28

  Block copolyesters and block copolyesterurethanes containing, in ordered or random distribution, about 15 to 50 percent of amorphous blocks and about 85 to 50 percent of crystalline or semi-crystalline blocks are highly compatible and substantially non-fugitive when blended with halogen-containing polymers, for instance PVC.

  嵌段共聚聚酯和嵌段共聚酯聚氨酯含有有序或无序分布的约 15%至 50%的无定形嵌段和约 85%至 50%的结晶或半结晶嵌段，在与含卤聚合物（如 PVC）混合时，具有很高的相容性，且基本无挥发性。
• US4210730A
  申请人：——

  公开号：US4210730A

  公开（公告）日：1980-07-01
• US4212957A
  申请人：——

  公开号：US4212957A

  公开（公告）日：1980-07-15