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5-(furan-2-yl)penta-2,4-diene

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
5-(furan-2-yl)penta-2,4-diene
英文别名
1-(2-furyl)-1,3-pentadiene;Furylpentadien;2-penta-1,3-dienylfuran
5-(furan-2-yl)penta-2,4-diene化学式
CAS
——
化学式
C9H10O
mdl
——
分子量
134.178
InChiKey
OHFRSNPTWCSGBK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.7
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.11
  • 拓扑面积:
    13.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    丙二酸环(亚)异丙酯5-(furan-2-yl)penta-2,4-diene吡啶 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 18.67h, 以91%的产率得到5-[5-(Furan-2-yl)penta-2,4-dienylidene]-2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione
    参考文献:
    名称:
    一种含有多烯结构的给体-受体斯坦豪斯加合物及其制备方法
    摘要:
    本发明公开了一种含有多烯结构的给体‑受体斯坦豪斯加合物及其制备方法,属于给体‑受体斯坦豪斯加合物技术领域,本发明以廉价易得的烯醛类化合物为底物,成本低,整个合成路线以有机碱作为催化剂,提高了目标化合物的产率,且具有高效率和低毒性的特点。实现了将给体‑受体斯坦豪斯加合物的三烯共轭结构拓展成为四烯与五烯结构,极大程度上丰富了给体‑受体斯坦豪斯加合物的结构范围,有效的调控了其光敏感性质,并使其可以被应用于更多的领域,兼具科学与实用价值。
    公开号:
    CN112812093A
  • 作为产物:
    描述:
    2-呋喃丙烯醛乙醛 在 sodium hydroxide 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 反应 3.5h, 以98%的产率得到5-(furan-2-yl)penta-2,4-diene
    参考文献:
    名称:
    一种含有多烯结构的给体-受体斯坦豪斯加合物及其制备方法
    摘要:
    本发明公开了一种含有多烯结构的给体‑受体斯坦豪斯加合物及其制备方法,属于给体‑受体斯坦豪斯加合物技术领域,本发明以廉价易得的烯醛类化合物为底物,成本低,整个合成路线以有机碱作为催化剂,提高了目标化合物的产率,且具有高效率和低毒性的特点。实现了将给体‑受体斯坦豪斯加合物的三烯共轭结构拓展成为四烯与五烯结构,极大程度上丰富了给体‑受体斯坦豪斯加合物的结构范围,有效的调控了其光敏感性质,并使其可以被应用于更多的领域,兼具科学与实用价值。
    公开号:
    CN112812093A
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文献信息

  • Nickel/Brønsted acid dual-catalyzed regio- and enantioselective hydrophosphinylation of 1,3-dienes: access to chiral allylic phosphine oxides
    作者:Jiao Long、Yuqiang Li、Weining Zhao、Guoyin Yin
    DOI:10.1039/d1sc05651d
    日期:——
    While chiral allylic organophosphorus compounds are widely utilized in asymmetric catalysis and for accessing bioactive molecules, their synthetic methods are still very limited. We report the development of asymmetric nickel/Brønsted acid dual-catalyzed hydrophosphinylation of 1,3-dienes with phosphine oxides. This reaction is characterized by an inexpensive chiral catalyst, broad substrate scope
    虽然手性烯丙基有机磷化合物广泛应用于不对称催化和获取生物活性分子,但其合成方法仍然非常有限。我们报道了不对称镍/布朗斯台德酸双催化 1,3-二烯与氧化膦氢膦酰化反应的进展。该反应的特点是廉价的手性催化剂、广泛的底物范围以及高区域和对映选择性。这项研究允许以高度经济和有效的方式构建手性烯丙基氧化膦。初步机理研究表明,1,3-二烯插入手性 Ni-H 物种是一个高度区域选择性的过程,手性 C-P 键的形成是一个不可逆的步骤。
  • Palladium-Catalyzed Enantioselective Hydrohydrazonation of 1,3-Dienes
    作者:Shaozi Sun、Qinglong Zhang、Weiwei Zi
    DOI:10.1021/acs.orglett.3c02729
    日期:2023.12.1
    We presented a method for synthesizing allylic chiral hydrazones from 1,4-disubstituted 1,3-dienes and hydrazones through a (R)-DTBM-Segphos-Pd(0)-catalyzed hydrohydrazonation reaction. This transformation has a wide range of substrates and good functional group tolerance. The desired products were obtained in medium to high yield and good regio- and enantioselectivity. Synthetic transformation of
    我们提出了一种通过 ( R )-DTBM-Segphos-Pd(0) 催化的氢腙反应从 1,4-二取代 1,3-二烯和腙合成烯丙基手性腙的方法。该转化具有广泛的底物范围和良好的官能团耐受性。以中等至高产率和良好的区域选择性和对映选择性获得了所需产物。证明了产物合成转化为各种含氮手性化合物。
  • Silicon compound, ultraviolet absorbent, method for manufacturing multilayer wiring device and multilayer wiring device
    申请人:Fujitsu Limited
    公开号:EP2028215A1
    公开(公告)日:2009-02-25
    A layer of a porous insulating film precursor is formed on or over a substrate, a layer of a specific silicon compound is then formed, this silicon compound layer is precured as necessary, and the porous insulating film precursor is exposed to UV through the silicon compound layer or precured layer.
    在基底上或基底上形成一层多孔绝缘膜前体,然后形成一层特定的硅化合物层,根据需要对硅化合物层进行预处理,多孔绝缘膜前体通过硅化合物层或预处理层暴露在紫外线下。
  • SILICON COMPOUND, ULTRAVIOLET ABSORBENT, METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER WIRING DEVICE AND MULTILAYER WIRING DEVICE
    申请人:Fujitsu Limited
    公开号:EP2028215B1
    公开(公告)日:2018-08-01
  • Material for forming exposure light-blocking film, multilayer interconnection structure and manufacturing method thereof, and semiconductor device
    申请人:Ozaki Shirou
    公开号:US20070190461A1
    公开(公告)日:2007-08-16
    To provide a material for forming an exposure light-blocking film which includes at least one of a silicon compound expressed by the following structural formula (1) and a silicon compound expressed by the following structural formula (2), wherein at least one of R 1 and R 2 is replaced by a substitutent capable of absorbing exposure light. (where R 1 and R 2 may be the same or different, and each represents any one of a hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, cycloalkyl group and aryl group which are optionally substituted, and n is an integer of 2 or greater) (where R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different, at least one of R 1 , R 2 and R 3 represents a hydrogen atom and the others represent any one of an alkyl group, alkenyl group, cycloalkyl group and aryl group which are optionally substituted, and n is an integer of 2 or greater)
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