oxabicyclo[2.2.1]-hept-5-ene-2-(5-hydroxypentoxy)methanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧唑烯
• 英文名称: oxabicyclo[2.2.1]-hept-5-ene-2-(5-hydroxypentoxy)methanol
• 英文别名: 5-[Hydroxy(7-oxabicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)methoxy]pentan-1-ol
• 化学式: C₁₂H₂₀O₄
• 分子量: 228.288
• InChiKey: LOXNOHROYUKYAE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  58.9
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,5-戊二醇 、 7-氧杂-二环[2.2.1]庚-5-烯-2-甲醛 在 硫酸 作用下， 反应 12.0h， 以83%的产率得到oxabicyclo[2.2.1]-hept-5-ene-2-(5-hydroxypentoxy)methanol
  参考文献：
  名称：

  Photoresist monomers and preparation thereof

  摘要：

  本发明涉及用于制备可用于采用深紫外光源的光刻工艺中的光刻聚合物树脂的单体，以及其制备方法。优选单体由以下化学式1表示： <化学式1> 其中，X代表CH2、CH2CH2或氧； R1代表氢、C1-C5烷基或R′OH； R2代表氢、—OH、C1-C5烷氧基或—OR′—OH； R′代表：  并且， m为1-5的整数，n为1或2，p为0或1。

  公开号：

  US06359153B1

文献信息

• Photoresist monomers and preparation thereof
  申请人：Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.

  公开号：US06359153B1

  公开（公告）日：2002-03-19

  The present invention relates to monomers for preparing photoresist polymer resins which can be used in a photolithography process employing a deep ultraviolet light source, and the preparation of the same. Preferred monomers are represented by following Chemical Formula 1: wherein, X represents CH2, CH2CH2, or oxygen; R1 represents hydrogen, C1-C5 alkyl, or R′OH; R2 represents hydrogen; —OH, C1-C5 alkoxy, or —OR′—OH; R′ represents:  and, m is an integer from 1-5, n is 1 or 2 and p is 0 or 1.

  本发明涉及用于制备可用于采用深紫外光源的光刻工艺中的光刻聚合物树脂的单体，以及其制备方法。优选单体由以下化学式1表示： <化学式1> 其中，X代表CH2、CH2CH2或氧； R1代表氢、C1-C5烷基或R′OH； R2代表氢、—OH、C1-C5烷氧基或—OR′—OH； R′代表：  并且， m为1-5的整数，n为1或2，p为0或1。