N,N-dibenzyltrimethylmethanesulfinamide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N,N-dibenzyltrimethylmethanesulfinamide
• 英文别名: N,N-dibenzyl-2-methylpropane-2-sulfinamide
• 化学式: C₁₈H₂₃NOS
• 分子量: 301.453
• InChiKey: PHULDBUOIMQMJG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  39.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N-dibenzyltrimethylmethanesulfinamide 在 水 、 氢溴酸 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 生成 2-methylpropane-2-sulfinic acid
  参考文献：
  名称：

  某些 N,N-二苄基链烷亚磺酰胺在 50% 乙腈-水中的酸催化水解

  摘要：

  摘要 研究了一些 N,N-二苄基链烷亚磺酰胺 (RSONH(CH2Ph)2; 1, R = Me; 2, R = iPr; 3, R = tBu; 4, R = 1-金刚烷基) 50% ( v:v) 氢溴酸和盐酸的乙腈-水溶液，主要在 44.8 °C，使用紫外 (UV) 分光光度法确定伪一级速率常数。发现这些化合物通过同时发生的双分子中性、酸催化和酸依赖性亲核（卤离子）催化途径水解。后一种反应在 HBr 溶液中占主导地位，但在 HCl 溶液中，酸催化途径占主导地位。结果表明空间和电子效应在这些反应中都很重要。在系列 1→4 中似乎没有机械转换。图形概要

  DOI：

  10.1080/10426507.2012.704105
• 作为产物：
  描述：

  叔丁基亚磺酰氯 、 二苄胺 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.33h， 以98%的产率得到N,N-dibenzyltrimethylmethanesulfinamide
  参考文献：
  名称：

  某些 N,N-二苄基链烷亚磺酰胺在 50% 乙腈-水中的酸催化水解

  摘要：

  摘要 研究了一些 N,N-二苄基链烷亚磺酰胺 (RSONH(CH2Ph)2; 1, R = Me; 2, R = iPr; 3, R = tBu; 4, R = 1-金刚烷基) 50% ( v:v) 氢溴酸和盐酸的乙腈-水溶液，主要在 44.8 °C，使用紫外 (UV) 分光光度法确定伪一级速率常数。发现这些化合物通过同时发生的双分子中性、酸催化和酸依赖性亲核（卤离子）催化途径水解。后一种反应在 HBr 溶液中占主导地位，但在 HCl 溶液中，酸催化途径占主导地位。结果表明空间和电子效应在这些反应中都很重要。在系列 1→4 中似乎没有机械转换。图形概要

  DOI：

  10.1080/10426507.2012.704105

文献信息

• <i>tert</i>-Butylsulfonyl (Bus), a New Protecting Group for Amines
  作者：Pu Sun、Steven M. Weinreb、Maoyu Shang

  DOI：10.1021/jo971455i

  日期：1997.11.1
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20140295332A1

  公开（公告）日：2014-10-02

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.
• US9188862B2
  申请人：——

  公开号：US9188862B2

  公开（公告）日：2015-11-17
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES, ET FILM SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, CHACUN DE CEUX-CI UTILISANT LADITE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2013100158A1

  公开（公告）日：2013-07-04

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.