亚硝基苯基脲 | 6268-32-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 亚硝基苯基脲
• 英文名称: N-phenyl-N-nitrosourea
• 英文别名: N-nitrosophenylurea；N-nitroso-N-phenyl-urea；N-Nitroso-N-phenyl-harnstoff；N-Nitroso-N-phenylharnstoff；Urea, N-nitroso-N-phenyl-；1-nitroso-1-phenylurea
• CAS: 6268-32-2
• 化学式: C₇H₇N₃O₂
• mdl: MFCD01675839
• 分子量: 165.151
• InChiKey: ZJIKTJCGLLUNIJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  292.97°C (rough estimate)
• 密度：
  1.3539 (rough estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  75.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  亚硝基苯基脲 在 苯肼 作用下， 生成 1-苯基氨基脲
  参考文献：
  名称：

  Willstaetter; Stoll, Chemische Berichte, 1909, vol. 42, p. 4876

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  苯基脲 在 硫酸 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 亚硝基苯基脲
  参考文献：
  名称：

  N-苯基-N-亚硝基脲的烷基化电位

  摘要：

  烷基化剂被认为是典型的致癌物。由于烷基亚硝基脲的分解无需任何代谢活化即可产生烷基重氮离子，因此它们提供了理想的一系列化合物，可用来检验化学结构变化对烷基化电位的影响。由于其不稳定性，N-苯基-N-亚硝基脲很容易水解为苯重氮离子。由于与其他亚硝基脲相比，N-苯基-N-亚硝基脲表现出特殊的行为，因此在此研究了其烷基化潜力。亲核试剂4-（p-硝基苄基）吡啶（NBP）（一种烷基化剂的捕集器）用作烷基化底物。得出以下结论：（i）苯基亚硝基脲与其他亚硝基脲引起的NBP烷基化反应机理不同；（ii）NBP- N-苯基-N-亚硝基脲加合物的形成速度比最有效的致癌亚硝基脲之一的N-甲基-N-亚硝基脲慢了约20,000倍；（iii）发现亚硝基脲的烷基化潜力与其致瘤性之间存在相关性。版权所有©2008 John Wiley＆Sons，Ltd.

  DOI：

  10.1002/poc.1456

文献信息

• Image-formation material and infrared absorber
  申请人：——

  公开号：US20020015911A1

  公开（公告）日：2002-02-07

  A heat mode-applicable image-formation material having high sensitivity and excellent image-forming property, and a novel infrared absorber which can be suitably used in this material. The present invention relates to a substrate carrying thereon an image-formation layer which contains an infrared absorption agent. The agent has at least one surface orientation group in the molecule, and solubility of the image-formation layer in an alkaline aqueous solution is changed by action of radiation in the near-infrared range. Preferable as the infrared absorbing agent is an infrared absorber comprising, in a molecule thereof, a fluorine-containing substituent which have at least 5 fluorine atoms, or a polymethine chain of at least 5 carbon atoms and an alkyl group of at least 8 carbon atoms, said alkyl group being connected to the polymethine chain via any of nitrogen, oxygen and sulfur.

  一种适用于热模式的高灵敏度和优异成像性能的图像形成材料，以及一种新型红外吸收剂，可适当地用于该材料中。本发明涉及一种携带有图像形成层的基板，该层含有红外吸收剂。该剂分子中至少有一个表面取向基团，并且通过近红外范围的辐射作用，可以改变碱性水溶液中图像形成层的溶解度。作为红外吸收剂，最好选用含有至少5个氟原子的含氟取代基或至少5个碳原子的聚甲烷链和至少8个碳原子的烷基，所述烷基通过氮、氧和硫中的任何一种与聚甲烷链连接。
• Image-forming material and planographic printing original plate using same
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP1129861A1

  公开（公告）日：2001-09-05

  An image-forming material which has high sensitivity and is excellent in image-forming performance and which does not produce smudges on an optical system of an exposing apparatus, and a planographic printing original plate which uses this image-forming material and can produce images by an infrared laser for a direct plate-making process. These can be achieved by an image-forming material containing an infrared absorber having in the same molecule thereof two or more chromophoric groups which can absorb infrared radiation and are each bonded by a covalent bond.

  一种灵敏度高、成像性能优异、不会在曝光装置的光学系统上产生污点的成像材料，以及一种使用这种成像材料并能通过红外线激光直接制版工艺产生图像的平面印刷原版。 这些都可以通过含有红外线吸收剂的图像形成材料来实现，红外线吸收剂的同一分子中含有两个或两个以上的发色基团，这些发色基团可以吸收红外线辐射，并且每个发色基团都通过共价键结合在一起。
• Lower layer resist composition for silicon-containing two-layer resist
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20030059552A1

  公开（公告）日：2003-03-27

  To provide a lower layer resist composition for a silicon-containing two-layer resist, which is excellent in the dry etching resistance and film thickness uniformity. A lower layer resist composition for a silicon-containing two-layer resist, comprising (a) a phenol-based polymer, (b) a compound capable of generating a sulfonic acid at a temperature of 100° C. or more, (c) a phenol-based acid crosslinking agent having two or more benzene rings and capable of crosslinking with the polymer under the action of an acid, and (d) a solvent.

  提供一种用于含硅双层抗蚀剂的下层抗蚀剂组合物，它具有优异的耐干蚀刻性和薄膜厚度均匀性。 一种用于含硅双层抗蚀剂的下层抗蚀剂组合物，包括：(a) 苯酚基聚合物；(b) 能在 100 摄氏度或更高温度下生成磺酸的化合物；(c) 具有两个或两个以上苯环并能在酸的作用下与聚合物交联的苯酚基酸交联剂；(d) 溶剂。
• Resin composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20040014831A1

  公开（公告）日：2004-01-22

  The present invention relates to a resin composition comprising: an alkali-soluble resin (A); an infrared absorbing agent (B); and a thiol compound (C), wherein a solubility thereof in an alkaline aqueous solution is changed by exposure with a infrared laser ray, and a positive or negative-type image recording layer containing the resin composition.

  本发明涉及一种树脂组合物，其中包括：碱溶性树脂（A）、红外线吸收剂（B）和硫醇化合物（C），通过红外线激光照射可改变其在碱性水溶液中的溶解度，以及含有该树脂组合物的正像或负像记录层。
• Conformational preferences in alkylnitrosoureas
  作者：John K. Snyder、Leon M. Stock

  DOI：10.1021/jo01293a023

  日期：1980.2