5-acetylthio-7-oxanorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 呋喃类
• 英文名称: 5-acetylthio-7-oxanorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride
• 英文别名: S-(3,5-dioxo-4,10-dioxatricyclo[5.2.1.02,6]decan-8-yl) ethanethioate
• 化学式: C₁₀H₁₀O₅S
• 分子量: 242.252
• InChiKey: MBAIWIMGWYGETK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  95
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-acetylthio-7-oxanorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride 在 水 、 sodium hydroxide 作用下， 反应 2.0h， 生成 thio-7-oxanorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride
  参考文献：
  名称：

  CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND MERCAPTO COMPOUND

  摘要：

  一种化学增感型正型光敏树脂组合物，能够抑制“足部”现象的发生，即底部（靠近支撑表面的一侧）的宽度变窄，小于顶部（靠近抗蚀层表面的一侧）的宽度，同时在使用该光敏树脂组合物在基板的金属表面上形成用作电镀物品模板的抗蚀图案时，能够减少残留物的产生。该光敏树脂组合物中包含一种具有特定结构的巯基化合物，其中包括一个酸发生剂，该酸发生剂在暴露于辐射活性光线或辐射时产生酸，以及一种树脂，在酸的作用下其在碱性溶液中的溶解度增加。

  公开号：

  US20190121233A1
• 作为产物：
  描述：

  4,10-二氧杂三环[5.2.1.0(2,6)]癸-8-烯-3,5-二酮 、 硫代乙酸 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 3.5h， 以22.11 g的产率得到5-acetylthio-7-oxanorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride
  参考文献：
  名称：

  CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND COMPOUND

  摘要：

  一种化学增感光敏组合物，形成一个截面形状为矩形的抗蚀图案，具有宽广的焦深度余量；一种具有由该组合物制成的感光层的感光干膜；使用该组合物制造图案抗蚀膜的方法；使用该组合物制造带有模板的基板的方法；使用带有模板的基板制造电镀物品的方法；以及一种新型化合物。酸扩散抑制剂与包括在暴露于辐射活性光线或辐射时生成酸的酸发生剂的组合物中混合，具有特定的结构。

  公开号：

  US20200209739A1

文献信息

• CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20200209739A1

  公开（公告）日：2020-07-02

  A chemically amplified photosensitive composition which forms a resist pattern whose cross-sectional shape is rectangular, and which has a wide depth of focus margin; a photosensitive dry film having a photosensitive layer made from the composition; a method of manufacturing a patterned-resist film using the composition; a method of manufacturing a substrate with a template using the composition; a method of manufacturing a plated article using the substrate with a template; and a novel compound. An acid diffusion suppressing agent having a specific structure is blended into the composition including an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation.

  一种化学增感光敏组合物，形成一个截面形状为矩形的抗蚀图案，具有宽广的焦深度余量；一种具有由该组合物制成的感光层的感光干膜；使用该组合物制造图案抗蚀膜的方法；使用该组合物制造带有模板的基板的方法；使用带有模板的基板制造电镀物品的方法；以及一种新型化合物。酸扩散抑制剂与包括在暴露于辐射活性光线或辐射时生成酸的酸发生剂的组合物中混合，具有特定的结构。
• Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US11022880B2

  公开（公告）日：2021-06-01

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition capable of suppressing the occurrence of “footing” in which the width of the bottom (the side proximal to the surface of a support) becomes narrower than that of the top (the side proximal to the surface of a resist layer) in the nonresist portion; and the generation of development residue when a resist pattern serving as a template for a plated article is formed on a metal surface of a substrate using the photosensitive resin composition. A mercapto compound having a specific structure is included in the photosensitive resin composition, and includes an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation, and a resin whose solubility in alkali increases under the action of acid.

  一种化学放大正型感光树脂组合物，能够抑制非抗蚀部分出现底部（靠近支撑物表面的一面）宽度比顶部（靠近抗蚀层表面的一面）宽度窄的 "起脚 "现象；以及当使用该感光树脂组合物在基底的金属表面上形成作为电镀物品模板的抗蚀图案时产生显影残留物。感光树脂组合物中含有一种具有特定结构的巯基化合物，它包括一种在受到照射的活性射线或辐射时产生酸的酸发生器，以及一种在酸的作用下其碱溶解度增加的树脂。
• Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US11131927B2

  公开（公告）日：2021-09-28

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition which is highly sensitive and in which it is easy to form a resist pattern whose cross-sectional shape is rectangular, a photosensitive dry film which includes a photosensitive resin layer formed from the composition, a method of manufacturing the photosensitive dry film, a method of manufacturing a patterned resist film using the composition, a method of manufacturing a substrate with a template using the composition and a method of manufacturing a plated article using the substrate with the template. A Lewis acid compound is included in the composition that also includes an acid generator which generates an acid by application of an active ray or radiation, and a resin whose solubility in alkali is increased by action of an acid.

  一种化学放大的正型光敏树脂组合物，它具有高灵敏度，并且易于形成横截面形状为矩形的抗蚀剂图案；一种光敏干膜，它包括由该组合物形成的光敏树脂层；一种制造光敏干膜的方法；一种使用该组合物制造图案抗蚀膜的方法；一种使用该组合物制造带有模板的基片的方法；以及一种使用带有模板的基片制造电镀物品的方法。组合物中包含一种路易斯酸化合物，该组合物还包括一种酸发生器（通过应用活性射线或辐射产生一种酸）和一种树脂（通过酸的作用增加其在碱中的溶解度）。
• TW2020/14409
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• TW2019/36611
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——