十八胺聚氧乙烯(2)醚 | 26635-92-7

• 物质功能分类: 催化剂及助剂 - 聚合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 中文名称: 十八胺聚氧乙烯(2)醚
• 中文别名: 乙氧基化十八胺；硬脂基二乙醇胺；十八胺聚氧乙烯醚；硬脂胺聚氧乙烯醚(3EO-30EO)；N,N-双[聚(氧乙烯)基]硬脂胺；α,α’-[(十八烷基亚氨基)二-2,1-乙二基]双(ω-羟基)-聚(氧-1,2-乙二基)；C18脂肪胺聚氧乙烯醚
• 英文名称: 2-[2-[2-(2-Hydroxyethoxy)ethyl-octadecylamino]ethoxy]ethanol
• CAS: 26635-92-7
• 化学式: C₂₆H₅₅NO₄
• 分子量: 445.7
• InChiKey: IEXQFYPEUSYMHN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.4
• 重原子数：
  31
• 可旋转键数：
  27
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  62.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 危险等级：
  8
• 包装等级：
  III

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 、 十八烷基三甲基氯化铵 、 十八胺聚氧乙烯(2)醚 、 硬脂酸丁酯 、 十二酸丁酯 、 芥酸 在 十二烷基三甲基氯化铵 作用下， 生成 油酸
  参考文献：
  名称：

  Magnetic recording medium

  摘要：

  本发明涉及一种至少具有两个磁性层的磁记录介质，包括依次在非磁性支撑体上形成的第一和第二磁性层，其中第二磁性层的矫顽力（Hc）为5×10^4到1.5×10^5 A/m，第二磁性层的剩磁通量密度（Br）与矫顽力（Hc）的比值（Br/Hc）为2.0×10^-6 H/m或更高，第二磁性层的表面粗糙度（Ra）中心线平均值为磁性粒子长轴的平均长度的1/10或更低，第二磁性层中磁性粒子长轴的平均长度为0.25微米或更低，以及第一磁性层的矫顽力（Hc'）为2×10^4到1×10^5 A/m，第二磁性层的SFD为0.6或更低。

  公开号：

  US05098773A1
• 作为产物：
  描述：

  十八胺 、 2-氯乙氧基乙醇 生成 十八胺聚氧乙烯(2)醚
  参考文献：
  名称：

  WEDLER C.; HAAGE K.; HERBST M.; TISCHER H.; KNOPE E., ABH. AKAD. WISS. DDR. ABT. MATH., NATURWISS., TECHN.,(1986) N 1N, 589-594

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Magnetic recording medium having multiple magnetic layers with specified
  申请人：Fuji Photo Film Co., Ltd.

  公开号：US05244736A1

  公开（公告）日：1993-09-14

  A magnetic recording medium comprising a non-magnetic support having thereon a multi-layer magnetic layer structure comprising ferromagnetic fine powder and a binder, wherein said multi-layer magnetic layer structure is formed by coating a first composition containing the ferromagnetic fine powder and a polyisocyanate compound on the non-magnetic support to form a first magnetic layer and coating a second composition containing ferromagnetic fine powder and an epoxy compound having at least one epoxy group or a coupling agent on said first magnetic layer to form a second magnetic layer, wherein coating of said second magnetic layer is conducted simultaneously with or after coating said first magnetic layer while said first magnetic layer is still in a wet state, by a simultaneous or successive multiple layered coating method.

  一种磁记录介质，包括一个非磁性支撑物，上面有一个多层磁性层结构，包括铁磁细粉和粘合剂，其中所述的多层磁性层结构是通过在非磁性支撑物上涂覆含有铁磁细粉和多异氰酸酯化合物的第一组成物，形成第一磁性层，并在所述第一磁性层上涂覆含有铁磁细粉和至少一个环氧基或偶联剂的第二组成物，形成第二磁性层而形成的，其中在第一磁性层仍处于湿润状态时，通过同时或连续多层涂覆方法进行所述第二磁性层的涂覆，或在涂覆所述第一磁性层之后进行涂覆。
• Chemical Mechanical Polishing Composition Containing Polysilicon Polish Finisher
  申请人：Park Hyu-Bum

  公开号：US20110124195A1

  公开（公告）日：2011-05-26

  Provided are a chemical mechanical polishing (CMP) composition used for polishing a semiconductor device which contains polysilicon film and insulator, and a chemical mechanical polishing method thereof. The CMP composition is especially useful in a isolation CMP process for semiconductor devices. Provided is a highly selective CMP composition containing a polysilicon polish finisher which can selectively polish semiconductor insulators since it uses a polysilicon film as a polish finishing film.
• [EN] CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION CONTAINING POLYSILICON POLISH FINISHER<br/>[FR] COMPOSITION DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE CONTENANT UN FINISSEUR DE POLISSAGE À BASE DE POLYSILICIUM
  申请人：TECHNO SEMICHEM CO LTD

  公开号：WO2010011080A2

  公开（公告）日：2010-01-28

  본 발명은 폴리실리콘막 및 절연막을 함유하는 반도체 소자 연마 시에 사용되는 화학 기계적 연마(chemical mechanical polishing;CMP) 조성물과 상기 조성물을 이용한 화학 기계적 연마 방법에 관한 것이다. CMP 조성물은, 특히, 반도체 소자의 하부 분리(isolation) CMP 공정에 유용한 것이며, 폴리실리콘 연마정지제를 함유하여 폴리실리콘 막을 연마정지 막으로 사용하여 절연막을 선택적으로 연마할 수 있는 고선택성 CMP 조성물에 관한 것이다.