摘要:
基于以下式子的选择性除草剂:##STR1##
其中:R.sup.1,R.sup.2和R.sup.3为H,较低的烷基,烷氧基或烷氧基烷基;R.sup.4是羧基基团,可选地为盐或酯的形式,或氰基,氰基烷基或烷氧基烷基基团;R.sup.5和R.sup.6为H,较低的烷基或氰基,或共同形成C.sub.2到C.sub.5的烷基二元基;R.sup.7是卤素,较低的烷基,较低的烷氧基,较低的烯基,烯氧基,硝基,氰基或氨基,烷二氧基;n = 0至5;以及##STR2##是含有2或3个不饱和单元的含氮杂环。