双(2,3,4-三羟基苯基)甲酮 | 75440-84-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 双(2,3,4-三羟基苯基)甲酮
• 英文名称: exifone
• 英文别名: 2,3,4,2',3',4'-hexahydroxy-benzophenone；2,3,4,2',3',4'-Hexahydroxy-benzophenon；Bis(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone
• CAS: 75440-84-5
• 化学式: C₁₃H₁₀O₇
• 分子量: 278.218
• InChiKey: WFVRYQQSGLPHGF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  244–245°C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  138
• 氢给体数：
  6
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  双(2,3,4-三羟基苯基)甲酮 在 sodium acetate 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 0.25h， 以94%的产率得到3,4,5,6-tetrahydroxy-9H-xanthen-9-one
  参考文献：
  名称：

  Microwave-Assisted Efficient and Green Synthesis of Hydroxyxanthone in Water

  摘要：

  An efficient and green procedure has been developed for the synthesis of hydroxyxanthones from substituted 2,2'-dihydroxybenzophenone precursors via microwave-assisted base-catalyzed cyclization in water. This method provides excellent yields of products in a short time, making it a useful strategy for the synthesis of structurally diverse hydroxyxanthones.

  DOI：

  10.1080/00397911.2011.573170
• 作为产物：
  描述：

  2,3,4-三羟基苯甲酸 、 邻苯三酚 生成 双(2,3,4-三羟基苯基)甲酮
  参考文献：
  名称：

  DE50451

  摘要：

  公开号：

文献信息

• COMPOSITION CONTAINING VINYL-GROUP-CONTAINING COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20160046552A1

  公开（公告）日：2016-02-18

  A composition containing a novel vinyl-group-containing compound. This composition contains a vinyl-group-containing compound represented by general formula (1). In the formula: W 1 and W 2 represent a group represented by general formula (2) (where a ring (Z) is an aromatic hydrocarbon ring, X is a single bond or —S—, R 1 is a single bond or a C1-4 alkylene group, R 2 is a specific substituent group such as a monovalent hydrocarbon, and m is an integer equal to 0 or higher), a group represented by general formula (4) (where the ring (Z), X, R 1 , R 2 , and m are as previously stated), a hydroxyl group, or a (meth)acryloyloxy group; rings (Y 1 , Y 2 ) are aromatic hydrocarbon rings; R represents a single bond or a specific divalent group; R 3a and R 3b represent a cyano group, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group; and n1 and n2 are integers of 0-4.

  这个组合物包含一种含有新颖乙烯基团的化合物。该组合物包含一个由通式（1）表示的含有乙烯基团的化合物。在该式中：W1和W2代表由通式（2）表示的一个基团（其中环（Z）是芳香烃环，X是一个单键或—S—，R1是一个单键或C1-4烷基基团，R2是特定的取代基团，如一价碳氢化合物，m是大于或等于0的整数），一个由通式（4）表示的基团（其中环（Z）、X、R1、R2和m如前述），一个羟基，或一个（甲基）丙烯酰氧基团；环（Y1、Y2）是芳香烃环；R代表一个单键或一个特定的二价基团；R3a和R3b代表氰基、卤素原子或一价碳氢基团；n1和n2是0-4的整数。
• Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0369219A1

  公开（公告）日：1990-05-23

  Die Erfindung betrifft neue strahlungsempfindliche Verbindungen, die Ester oder Amide einer 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäure der allgemeinen Formel darstellen, worin R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine Alkyl-, Alkylether- oder Alkylthioethergruppe, deren Kohlenstoffketten durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein können, eine Acylamino-, Carbonsäureester-, Sulfonsäureester- oder Sulfonamidgruppe bedeuten, wobei R1 und R2 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind. Die Verbindungen werden als strahlungsempfindliche Komponente in strahlungsempfindlichen Gemischen verwendet, mit denen entsprechende Aufzeichnungsmaterialien hergestellt werden können. Die Verbindungen haben eine nach längeren Wellenlängen gerichtete Absorption in Anpassung an den Emissionsbereich handelsüblicher Strahlungsquellen. Sie gestatten auch in sicherer und praktischer Weise die Durchführung von negativ arbeitenden Bildumkehrprozessen.

  本发明涉及新型辐射敏感化合物，它们是通式为 1,2-萘醌-(2)-二叠氮-4-磺酸的酯或酰胺。 其中 R1和R2相同或不同，并且是氢、烷基、烷基醚或烷基硫醚基团（其碳链可被醚氧原子打断）、酰氨基、羧酸酯、磺酸酯或磺酰胺基团，其中 R1 和 R2 不同时为氢。 这些化合物可用作辐射敏感混合物中的辐射敏感成分，用它们可以生产出相应的记录材料。这些化合物的吸收波长较长，与市售辐射源的发射范围相适应。它们还能以安全实用的方式实现负像反转过程。
• Radiation-sensitive positive resist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0461654A2

  公开（公告）日：1991-12-18

  A positive resist composition comprising a radiation-sensitive component, an alkali-soluble resin and a phenol compound of the formula: wherein R is a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, R' is an alkyl group or an alkoxy group, and n is a number of 0 to 3, which has well balanced good properties such as sensitivity, resolution, heat resistance and adhesiveness.

  一种阳离子抗蚀剂组合物，由辐射敏感成分、碱溶性树脂和式中的苯酚化合物组成： 其中 R 是氢原子、低级烷基或苯基，R'是烷基或烷氧基，n 是 0 至 3 的数字，它具有良好的平衡特性，如敏感性、分辨率、耐热性和粘合性。
• A process of making naphthoquinone diazide esters using lactone solvents
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0488686A1

  公开（公告）日：1992-06-03

  A method of preparing a photosensitizer condensate comprising: condensing a phenolic compound with a diazo sulfonyl chloride, wherein from about 50 to 100 mole percent of the diazo moiety is 2,1,4-diazo and from 0 to about 50 mole percent of the diazo moiety is 2,1,5 diazo; the phenolic compound having, on average, from about 60 mole percent to about 100 mole percent of its hydroxy groups esterified by the diazo sulfonyl chloride; wherein the condensing is conducted in a lactone solvent in the presence of an acid scavenger; and then subsequently isolating the photosensitizer condensate.

  一种制备光敏剂缩合物的方法，包括将酚类化合物与重氮磺酰氯缩合，其中重氮基中约 50 至 100 摩尔%为 2,1,4-重氮，重氮基中 0 至约 50 摩尔%为 2,1,5-重氮；酚类化合物平均约 60 摩尔%至约 100 摩尔%的羟基被重氮磺酰氯酯化；其中，缩合在内酯溶剂中在酸清除剂存在下进行；然后分离光敏剂缩合物。
• Strahlungsempfindlicher Ester und Verfahren zu dessen Herstellung
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0508269A1

  公开（公告）日：1992-10-14

  Die Erfindung betrifft einen strahlungsempfindlichen Ester aus einer Verbindung mit 2 bis 6 aromatischen Hydroxygruppen, einer kernsubstituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonsäure (Diazoverbindung D₁) und einer nicht weiter substituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4- bzw. -5-sulfonsäure (Diazoverbindung D₂) und/oder einer nicht strahlungsempfindlichen organischen Säure (Verbindung D₀), wobei das molare Verhältnis von D₁:(D₂ und/oder D₀) zwischen 0,1:1 und 39:1 liegt.

  本发明涉及一种具有 2 至 6 个芳香族羟基、核取代的邻萘醌-2-叠氮-4-磺酸 （重氮化合物 D₁）和未取代的邻萘醌-2-叠氮-4-或-5-磺酸（重氮化 合物 D₂ ）和/或非辐射敏感性有机酸（化合物 D₀）的辐射敏感性酯。-5-磺酸（重氮化合物 D₂）和/或非辐射敏感性有机酸（化合物 D₀），其中 D₁:(D₂ 和/或 D₀)的摩尔比介于 0.1:1 和 39:1 之间。