2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonate sodium salt

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonate sodium salt
• 英文别名: sodium 2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonate；sodium 1,3,5-tricyclohexylbenzenesulfonate；Sodium;2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonate
• 化学式: C₂₄H₃₅O₃S*Na
• 分子量: 426.596
• InChiKey: GVKZJTXRJQIJRM-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.74
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三苯基溴化锍 、 2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonate sodium salt 以 甲醇 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 C₁₈H₁₅S⁽¹⁺⁾*C₂₄H₃₅O₃S^(1-)
  参考文献：
  名称：

  [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION
  [FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE LA COMPOSITION

  摘要：

  一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，包括下面的通式(I)中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团之外的取代基的芳香环；n为大于等于1的整数；A代表从单键、烷基基团、-O-、-S-、-C(=O)-、-S(=O)-、-S(=O)2-和OS(=O)2-中选取的任意一个或两个以上成员的组合，但不包括-C(=O)O-；B代表含有4个或更多碳原子的烃基团的基团，当n大于等于2时，两个或更多个-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机离子。

  公开号：

  WO2010035905A1
• 作为产物：
  描述：

  1,3,5-tricyclohexylbenzene 在 氯磺酸 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 10.0h， 生成 2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonate sodium salt
  参考文献：
  名称：

  偶氮偶联反应的机理：第三十六部分。偶氮偶联反应中阴离子相转移催化剂的结构与催化活性的关系

  摘要：

  研究了一系列含有烷基、羟基或甲氧基的 15 种芳烃磺酸钠，用于 4-甲氧基苯重氮离子 (1) 与 1,3,5-三甲氧基苯 (2) 在二氯甲烷 /水两相系统，其中测量了产率、初始反应速率和重氮离子 1 分解的影响。抗衡阴离子对二氯甲烷/水体系中重氮离子1分配系数(α)的影响，以及抗衡阴离子的溶剂极性和结构对重氮离子1与重氮离子偶氮偶联反应速率的影响研究了有机溶剂和二氯甲烷/水体系中的 N,N-二甲基苯胺 (4) 和 1,3,5-三甲氧基苯 (2)。tetrakis 的对称结构[3, 5-双(三氟甲基)苯基]硼酸盐 (TFPB) 阴离子被证明是与 TFPB 离子配对的重氮离子 1 具有非常高的 α 的重要因素。松散的...

  DOI：

  10.1246/bcsj.66.2590

文献信息

• TWI525070
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
  申请人：Kawabata Takeshi

  公开号：US20110189609A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes an arylsulfonium salt that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, the arylsulfonium salt containing at least one aryl ring on which there are a total of one or more electron donating groups, the acid generated upon exposure to actinic rays or radiation having a volume of 240 Å 3 or greater.
• US8962233B2
  申请人：——

  公开号：US8962233B2

  公开（公告）日：2015-02-24
• WO2023/53977
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——