3,6-di(3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl)benzene pyromellitic dianhydride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3,6-di(3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl)benzene pyromellitic dianhydride
• 英文别名: 4,8-Bis[3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]-1H,3H-benzo[1,2-c:4,5-c']difuran-1,3,5,7-tetrone；4,8-bis[3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone
• 化学式: C₂₆H₆F₁₂O₆
• 分子量: 642.311
• InChiKey: QJMOANNNAVXYND-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.5
• 重原子数：
  44
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.15
• 拓扑面积：
  86.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  18

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  均苯四甲酸二酐 在 四(三苯基膦)钯 、 水 、 溴 、 sodium carbonate 、 sodium hydroxide 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 50.0~290.0 ℃ 、101.59 kPa 条件下， 反应 50.0h， 生成 3,6-di(3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl)benzene pyromellitic dianhydride
  参考文献：
  名称：

  불소화된 피로멜리트산 이무수물의 신규한 제조방법

  摘要：

  本发明涉及一种用于制备氟化的苯二甲酸二无水物的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1) 溴化苯二甲酸二无水物以制备化学式2的化合物；(2) 在催化剂的作用下，使化学式2的化合物与1-溴-3,5-双(三氟甲基)苯发生反应，制备化学式4的化合物；以及(3) 将化学式4的化合物经减压升华处理以制备化学式1的化合物。本发明的制备方法省略了制备氟化的苯二甲酸二无水物所需的复杂中间体生成工艺，使得工艺简单且具有高生产效率。通过本发明的制备方法制备的氟化的苯二甲酸二无水物可用于制备具有低介电损耗和高耐热性的聚酰亚胺。

  公开号：

  KR20150112649A

文献信息

• Photosensitive polyimide compositions
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10036952B2

  公开（公告）日：2018-07-31

  This disclosure relates to a photosensitive composition that includes at least one fully imidized polyimide polymer having a weight average molecular weight in the range of about 20,000 Daltons to about 70,000 Daltons; at least one solubility switching compound; at least one photoinitiator; and at least one solvent. The composition is capable of forming a film or a dry film having a dissolution rate of greater than about 0.15 micron/second using cyclopentanone as a developer.

  本公开涉及一种光敏组合物，它包括至少一种重量平均分子量在约 20,000 道尔顿至约 70,000 道尔顿范围内的全亚胺化聚酰亚胺聚合物；至少一种溶解度切换化合物；至少一种光引发剂；以及至少一种溶剂。使用环戊酮作为显影剂，该组合物能够形成溶解速率大于约 0.15 微米/秒的薄膜或干膜。
• PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITIONS
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP3286606B1

  公开（公告）日：2022-12-28
• [EN] PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITIONS<br/>[FR] COMPOSITIONS PHOTOSENSIBLES DE POLYIMIDE
  申请人：FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC

  公开号：WO2016172092A1

  公开（公告）日：2016-10-27

  This disclosure relates to a photosensitive composition that includes at least one fully imidized polyimide polymer having a weight average molecular weight in the range of about 20,000 Daltons to about 70,000 Daltons; at least one solubility switching compound; at least one photoinitiator; and at least one solvent. The composition is capable of forming a film or a dry film having a dissolution rate of greater than about 0.15 micron/second using cyclopentanone as a developer.
• 불소화된 피로멜리트산 이무수물의 신규한 제조방법
  申请人：PI Advanced Materials Co., Ltd. 피아이첨단소재 주식회사(120080576729) Corp. No ▼ 154311-0022729BRN ▼301-81-97858

  公开号：KR20150112649A

  公开（公告）日：2015-10-07

  본 발명은 (1) 피로멜리트산 이무수물을 브롬화하여 화학식 2의 화합물을 제조하는 단계; (2) 화학식 2의 화합물과 1-브로모-3,5-비스(트리플루오로메틸)벤젠을 촉매 하에서 반응시켜 화학식 4의 화합물을 제조하는 단계; 및 (3) 화학식 4의 화합물을 감압 승화시켜 화학식 1의 화합물을 제조하는 단계를 포함하는 화학식 1로 표시되는 불소화된 피로멜리트산 이무수물의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 제조방법은 불소화된 피로멜리트산 이무수물을 생성하기 위해 필요한 중간체의 복잡한 생성공정이 생략되어 공정이 단순하며 높은 생산성을 발휘할 수 있으며, 본 발명의 제조방법에 의해 제조된 불소화된 피로멜리트산 이무수물은 저 유전율 및 고 내열성을 가지는 폴리이미드의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.

  本发明涉及一种用于制备氟化的苯二甲酸二无水物的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1) 溴化苯二甲酸二无水物以制备化学式2的化合物；(2) 在催化剂的作用下，使化学式2的化合物与1-溴-3,5-双(三氟甲基)苯发生反应，制备化学式4的化合物；以及(3) 将化学式4的化合物经减压升华处理以制备化学式1的化合物。本发明的制备方法省略了制备氟化的苯二甲酸二无水物所需的复杂中间体生成工艺，使得工艺简单且具有高生产效率。通过本发明的制备方法制备的氟化的苯二甲酸二无水物可用于制备具有低介电损耗和高耐热性的聚酰亚胺。