双(对-甲苯磺酰)重氮甲烷 | 14159-45-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 双(对-甲苯磺酰)重氮甲烷
• 英文名称: 1,1'-[(Diazomethylene)disulfonyl]bis(2-methylbenzene)
• 英文别名: 1-[diazo-(2-methylphenyl)sulfonylmethyl]sulfonyl-2-methylbenzene
• CAS: 14159-45-6
• 化学式: C15H14N2O4S2
• 分子量: 350.4
• InChiKey: CUBDZIRDAUNQAB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  87
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 海关编码：
  2927000090

文献信息

• Positive photoresist composition
  申请人：——

  公开号：US20010041303A1

  公开（公告）日：2001-11-15

  Provided is a positive photoresist composition which comprises (A) a resin which contains a repeating unit represented by formula (I) shown below and a repeating unit represented by formula (II) shown below and whose solubility in an alkaline developing solution increases by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, 1 wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group, a haloalkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a trialkylsilyl group or a trialkylsilyloxy group; and n represents 0 or 1, 2 wherein M represents an atomic group necessary for forming an alicyclic structure, which may be substituted, together with the connected two carbon atoms (C-C); and R 11 and R 12 each independently represents a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom or an alkyl group which may be substituted.

  提供的是一种正光刻胶组合物，其中包括(A)树脂，该树脂包含以下式子(I)和式子(II)所表示的重复单元，并且在酸的作用下其在碱性显影液中的溶解度增加；以及(B)一种化合物，该化合物在被光致辐射照射后会产生酸，其中R1、R2和R3分别独立地表示烷基、卤代烷基、卤素原子、烷氧基、三烷基硅基或三烷基硅氧基；n表示0或1；M表示必要的原子团以形成脂环结构，该原子团可以被取代，与连接的两个碳原子(C-C)一起；R11和R12分别独立地表示氢原子、氰基、卤素原子或可以被取代的烷基。
• Positive resist composition and pattern forming method using the same
  申请人：Shirakawa Koji

  公开号：US20050277060A1

  公开（公告）日：2005-12-15

  A positive resist composition satisfying high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good in-vacuum PED property at the same time, and a pattern forming method using the composition, are provided, which is a positive resist composition comprising: (A) a resin which is insoluble or sparingly soluble in an alkali developer and becomes soluble in an alkali developer under the action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (C) an organic basic compound, wherein (A1) a resin containing a repeating unit having a specific structure and (A2) a resin other than the resin (A1) are contained as the resin of the component (A); and a pattern forming method using the composition.

  提供了一种满足高灵敏度、高分辨率、良好的图案轮廓和良好的真空PED特性的正性光阻组合物及其图案形成方法，其中该正性光阻组合物包括：（A）一种树脂，在碱性显影剂中不溶或难溶，在酸的作用下变为可溶于碱性显影剂；（B）一种能够在受到光致辐射时产生酸的化合物；（C）一种有机碱性化合物，其中作为组分（A）的树脂包含具有特定结构的重复单元的树脂（A1）和不包含树脂（A1）的其他树脂（A2）；以及使用该组合物的图案形成方法。
• Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0444493A2

  公开（公告）日：1991-09-04

  Es wird ein negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben, das als wesentliche Bestandteile a) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung der allgemeinen Formel worin R¹einen Rest R²-SO₂- oder R³-C(O)-, R² und R³voneinander unabhängig einen ggf. substituierten Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Heteroarylrest bedeuten, b) eine Verbindung mit mindestens zwei durch Säure vernetzbaren reaktiven Gruppen und c) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches oder zumindest quellbares Bindemittel enthält. Das erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Gemisch zeichnet sich durch eine hohe Empfindlichkeit über einem weiten Spektralbereich aus. Es zeigt ebenso eine hohe thermische Stabilität und bildet bei Belichtung keine korrodierenden Photolyseprodukte.

  描述了一种消极工作的辐射敏感混合物，其主要成分是 a) 在辐照下形成强酸的化合物，其通式为 其中 R¹ 是自由基 R²-SO₂- 或 R³-C(O)-、 R² 和 R³ 各自表示任选取代的烷基、环烷基、芳基或杂芳基、 b) 具有至少两个可酸性交联反应基团的化合物，以及 c) 不溶于水、可溶于或至少可溶于碱性水溶液的粘合剂 在碱性水溶液中。 根据本发明制成的辐射敏感混合物具有在宽光谱范围内灵敏度高的特点。它还具有很高的热稳定性，在光照下不会形成腐蚀性光解产物。
• Foam Production Method
  申请人：Takada Tomoyuki

  公开号：US20080070998A1

  公开（公告）日：2008-03-20

  A foam production method including an irradiating step in which an active energy beam is irradiated onto a foamable composition containing an acid generating agent, which generates an acid, or a base generating agent, which generates a base, due to an action of an active energy beam, and containing a compound which has a decomposable/foamable functional group, which decomposes and eliminates one or more kinds of volatile substances with a low boiling point by reacting with the acid or base; and a subsequent foaming step in which the foamable composition is foamed under controlled pressure in a temperature region where the volatile substances with a low boiling point are decomposed and being eliminated.
• US5424166A
  申请人：——

  公开号：US5424166A

  公开（公告）日：1995-06-13