tetrabutylammonium chlorate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: tetrabutylammonium chlorate
• 英文别名: Tetrabutylammonium chlorate；tetrabutylazanium;chlorate
• 化学式: C₁₆H₃₆N*ClO₃
• 分子量: 325.92
• InChiKey: CDDFFMJAOKTPRF-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.44
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  57.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 tetrabutylammonium chlorate 以 丙酮 为溶剂， 以90%的产率得到C₃₆H₃₄N₆O⁽²⁺⁾*2Cl^(1-)
  参考文献：
  名称：

  Zn2+ 超分子开关的超分子纳米胶囊的形成和破裂

  摘要：

  合成了一种含有 2-p-苯基咪唑并[4,5-f][1,10]菲咯啉和一个由柔性链连接的紫罗碱单元的新型选择性荧光探针，发现能够选择具有明显荧光增强的锌离子和水溶液中的大斯托克斯位移。该探针还可以通过在水溶液中形成和破裂具有葫芦 [8] 脲 (CB[8]) 的超分子纳米胶囊来设计为开关分子开关。

  DOI：

  10.1002/ejoc.201201416
• 作为产物：
  描述：

  四丁基氯化铵 在 sodium chlorate 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 tetrabutylammonium chlorate
  参考文献：
  名称：

  铁催化还原高氯酸盐的方法：机理的见解和改进的催化剂周转率

  摘要：

  高氯酸根是一种非配位和动力学惰性的阴离子，常用于固体火箭燃料和炸药。引入环境后，它是一种普遍存在的地下水污染物，带来了修复挑战。几乎没有能够将高氯酸盐脱氧为氯化物的均相系统，并且所报道的催化剂在催化过程中随着氯化物浓度的增加而失活。该报告将含次级配位球的铁催化剂将高氯酸盐还原的周转次数提高了一个数量级。锌试剂的使用减轻了氯化物的抑制并促进了催化剂的转化。此外，使用时间分辨紫外可见光谱法检查了高氯酸盐还原的初始速率，从而为高氯酸盐还原的机理提供了见识。

  DOI：

  10.1021/acscatal.9b05029
• 作为试剂：
  描述：

  5-(4-bromobutoxy)-2,2'-bipyridine 在 tetrabutylammonium chlorate 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 96.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of ru(bpy)3-viologen and its complex included by p-sulfonatocalix[4]arene in a U-type binding manner

  摘要：

  A novel Ru(bpy)(3)-viologen guest RPV and a reference compound PV are well designed and synthesized. Ru(bpy)(3) based guest compound RPV prefers to form a novel U-type complex RPV subset of SC4 with p-sulfonatocalix[4]arene (SC4) host. Binding manner of the complex has been fully studied by H-1 NMR, ESI-MS and 2D NOE NMR spectra. The 1:1 Binding ratio is confirmed by UV-Vis measurement and the association constant is determined by H-1 NMR titration. In this host-guest system, both Ru(bpy)(3) and viologen group show strong interactions with the host SC4. Due to the unique U-type structure of RPV subset of SC4, the competitive interactions between Ru(bpy)(3) and viologen group were investigated as well. (C) 2012 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.dyepig.2012.04.020

文献信息

• Organic EL devices and production process thereof
  申请人：Kato Tetsuya

  公开号：US20070293704A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  An organic electroluminescent device comprising a light-emitting layer between a pair of electrodes, the light-emitting layer comprising a mixture of a hole-transporting material consisting of a tertiary amine compound, an electron-transporting material and a light-emitting additive material, in which the tertiary amine compound has two or more oxidation potentials determined by a cyclic voltammetry wherein a potential difference between the first oxidation potential and the second oxidation potential in the oxidation potentials is 0.22V or more, and a glass transition temperature of at least 100° C., and the electron-transporting material has a glass transition temperature of at least 100° C.

  一种有机电致发光器件，包括位于一对电极之间的发光层，该发光层包括由三级胺化合物组成的传输空穴材料、电子传输材料和发光添加剂材料的混合物，其中三级胺化合物具有由循环伏安法确定的两个或更多氧化电位，氧化电位中第一个氧化电位和第二个氧化电位之间的电位差为0.22V或更大，且具有至少100°C的玻璃转变温度，电子传输材料具有至少100°C的玻璃转变温度。
• Synthesis and structural characterization of CO₂-soluble oxidizers [Bu₄N]BrO₃ and [Bu₄N]ClO₃ and their dissolution in cosolvent-modified CO₂ for reservoir applications
  作者：Katherine L. Hull、Desmond E. Schipper、Allen G. Oliver

  DOI：10.1039/d0ra09563j

  日期：——

  CO2 utilization in upsteam oil and gas applications requires CO2-soluble additives such as polymers, surfactants, and other components. Here we report the facile synthesis of CO2-soluble oxidizers composed of judiciously selected organic cations paired with oxidizing anions. [Bu4N]BrO3 and [Bu4N]ClO3 are prepared using a double displacement synthetic strategy, whereby the crystalline product is readily

  在上游石油和天然气应用中利用 CO 2 需要 CO 2可溶性添加剂，例如聚合物、表面活性剂和其他组分。在这里，我们报告了由明智选择的有机阳离子与氧化性阴离子配对组成的 CO 2可溶性氧化剂的简便合成。[Bu 4 N]BrO 3和 [Bu 4 N]ClO 3使用双置换合成策略制备结晶产物，从而容易以高产率获得结晶产物，并使用单晶 X 射线衍射对其结构进行表征。该方法的便利性通过制备几种额外的烷基溴酸铵化合物来证明。使用带有观察窗的高压池进行的静态溶解度研究表明，四丁基铵化合物可以使用助溶剂改性的 CO 2溶解。使用 4 mol% 乙醇作为助溶剂，>3 mM [Bu 4 N]BrO 3可以溶解在 CO 2中，而 ∼0.75 mM [Bu 4 N]ClO 3可以溶解在相同的溶剂系统中。[Bu 4的溶解性N]BrO 3及其高达~200°C的热稳定性表明它是一种很有前途的油田氧化剂，可用于地下CO 2应用。
• Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2011829A1

  公开（公告）日：2009-01-07

  A silicon-containing film is formed from a heat curable composition comprising (A) a silicon-containing compound obtained through hydrolytic condensation of a hydrolyzable silicon compound in the presence of an acid catalyst, (B) a hydroxide or organic acid salt of Li, Na, K, Rb or Ce, or a sulfonium, iodonium or ammonium compound, (C) an organic acid, (D) a cyclic ether-substituted alcohol, and (E) an organic solvent. The silicon-containing film ensures effective pattern formation, effective transfer of a photoresist pattern, and accurate processing of a substrate.

  含硅薄膜由一种热固化组合物形成，该组合物包括：(A) 在酸催化剂存在下通过可水解硅化合物的水解缩合得到的含硅化合物；(B) Li、Na、K、Rb 或 Ce 的氢氧化物或有机酸盐，或锍、碘或铵化合物；(C) 有机酸；(D) 环醚取代醇，以及 (E) 有机溶剂。 含硅薄膜可确保图案的有效形成、光刻胶图案的有效转移以及基底的精确加工。
• Metal oxide-containing film-forming composition, metal oxide-containing film, metal oxide-containing film-bearing substrate, and patterning method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2063319A1

  公开（公告）日：2009-05-27

  A metal oxide-containing film is formed from a heat curable composition comprising (A) a metal oxide-containing compound obtained through hydrolytic condensation between a hydrolyzable silicon compound and a hydrolyzable metal compound, (B) a hydroxide or organic acid salt of Li, Na, K, Rb or Cs, or a sulfonium, iodonium or ammonium compound, (C) an organic acid, and (D) an organic solvent. The metal oxide-containing film ensures effective pattern formation.

  一种含金属氧化物的薄膜由一种热固化组合物形成，该组合物包括：(A) 通过可水解硅化合物和可水解金属化合物之间的水解缩合获得的含金属氧化物化合物；(B) Li、Na、K、Rb 或 Cs 的氢氧化物或有机酸盐，或锍、碘或铵化合物；(C) 有机酸；以及 (D) 有机溶剂。含金属氧化物的薄膜可确保有效的图案形成。
• Composition for forming silicon-containing film, silicon-containing film-formed substrate and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2172807A1

  公开（公告）日：2010-04-07

  There is disclosed a thermosetting composition for forming a silicon-containing film to form a silicon-containing film formed in a multilayer resist process used in lithography, including at least (A) a silicon-containing compound obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silicon compound using an acid as a catalyst, (B) a thermal crosslinking accelerator (C) a monovalent or bivalent or more organic acid having 1 to 30 carbon atoms, (D) trivalent or more alcohol and (E) an organic solvent. There can be provided a composition for a silicon-containing film which can form a good pattern in a photoresist film, can form a silicon-containing film for an etching mask having a good dry etching resistance, can give a good storage stability and can be delaminated with a solution used in a delamination process in a multilayer resist process used for lithography, a substrate on which the silicon-containing film is formed, and further a method for forming a pattern.

  本发明公开了一种用于形成含硅薄膜的热固性组合物，该组合物用于形成在光刻中使用的多层抗蚀剂工艺中形成的含硅薄膜，至少包括(A)通过使用酸作为催化剂水解和缩合可水解硅化合物而获得的含硅化合物，(B)热交联促进剂，(C)具有 1 至 30 个碳原子的一价或二价或更多有机酸，(D)三价或更多醇，以及(E)有机溶剂。本发明可以提供一种含硅薄膜的组合物，该组合物可以在光刻胶膜中形成良好的图案，可以形成用于蚀刻掩膜的含硅薄膜，该薄膜具有良好的耐干蚀刻性，可以提供良好的储存稳定性，并且可以用用于光刻的多层抗蚀剂工艺中的分层工艺中使用的溶液进行分层，还可以提供一种在其上形成含硅薄膜的基底，以及进一步提供一种形成图案的方法。