申请人:Ciba-Geigy Corporation
公开号:US05380882A1
公开(公告)日:1995-01-10
The invention relates to compounds of formula I ##STR1## wherein A is a radical of formula ##STR2## R.sub.1 and R.sub.2 are each independently of the other hydrogen, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, C.sub.1 -C.sub.4 alkoxy, halogen or a radical of formula ##STR3## wherein X is --O--, --CH.sub.2 --, --C(CH.sub.3).sub.2 -- or --SO.sub.2 --, and R.sub.3 and R.sub.4 are each independently of the other hydrogen, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl or phenyl, as well as compositions comprising these compounds. The compositions are particularly suitable for making integrated circuits.
该发明涉及式I的化合物
其中A是式的基团
R1和R2分别独立于另一个是氢,C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,卤素或式的基团
其中X为--O--,--CH2--,--C(CH3)2--或--SO2--,而R3和R4分别独立于另一个是氢,C1-C4烷基或苯基,以及包含这些化合物的组合物。这些组合物特别适用于制造集成电路。