carbonic acid caprylyl ester

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机碳酸及其衍生物
• 英文名称: carbonic acid caprylyl ester
• 英文别名: octylcarbonic acid；Octaoxycarbonsaure；octyl hydrogen carbonate
• 化学式: C₉H₁₈O₃
• 分子量: 174.24
• InChiKey: RZKVHIPRDKHSAJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氯甲酸正辛酯 在 水 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 辛醇 、 二氧化碳 、 carbonic acid caprylyl ester
  参考文献：
  名称：

  溶剂分解的速率的相关性ñ辛基氟甲并将其与比较ň辛基氯溶剂分解

  摘要：

  具体费率 溶剂分解 的 氟甲酸正辛酯 已在24.2°C下以28个纯净和二元测量得出 溶剂。对于23溶剂对于这两个N T（溶剂亲核性）和Y Cl（溶剂电离功率）值是已知的，使用两项Grunwald-Winstein方程的相关性导致分别对1.80±0.13（l值）和0.79±0.06（m值）两个标度的变化敏感。对于七溶剂，进行了一项并行研究 氯甲酸正辛酯 溶剂分解 F：Cl的特定比率在大多数情况下高于统一，这与确定比率的缔合-解离（加成-消除）途径的缔合步骤一致。

  DOI：

  10.1039/b109169g

文献信息

• [EN] COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR RESIST, INK-JET INK, COLOR FILTER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, ORGANIC EL DISPLAY, AND COLORANT COMPOUND AND TAUTOMER THEREOF<br/>[FR] COMPOSITION COLORÉE DURCISSABLE, RÉSINE COLORÉE, ENCRE POUR IMPRESSION À JET D'ENCRE, FILTRE DE COULEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ, DISPOSITIF DE PRISE D'IMAGES À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES, AFFICHEUR À CRISTAUX LIQUIDES,
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2010143745A1

  公开（公告）日：2010-12-16

  A colored curable composition including: at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following Formula (1a) and a tautomer thereof; and at least one polymerizable compound, wherein R11, R12, R13, R14, R15, and R16 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent; and R11 and R12, and R15 and R16 independently may bond to each other in each pair to form a ring.

  包含至少以下之一的彩色可固化组合物：由以下公式（1a）表示的化合物及其互变异构体之一；以及至少一种可聚合化合物，其中R11、R12、R13、R14、R15和R16各自独立代表一个氢原子或单价取代基；并且R11和R12，以及R15和R16各自可以相互结合形成环。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160168115A1

  公开（公告）日：2016-06-16

  A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group or a C 1 to C 12 hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by a —O— or —CO—; m and n independently represent 1 or 2; Ar represents an optionally substituted phenyl group; Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 24 alkanediyl group or the like, and Y represents an optionally substituted C 1 to C 18 alkyl group or monovalent C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon group, and a methylene group therein may be replaced by a —O—, O— or —SO 2 —, provided that the alkyl group or the alicyclic hydrocarbon group has at least one substituent, or at least one methylene group contained therein is replaced by a —O—, —CO— or —SO 2 —.

  一种由化学式（I）表示的盐：其中R1和R2分别表示氢原子、羟基或C1到C12的烃基，其中亚甲基可能被—O—或—CO—取代；m和n分别表示1或2；Ar表示可选取代的苯基；Q1和Q2分别表示氟原子或C1到C6的全氟烷基基团，A1表示单键，C1到C24的烷二基基团或类似物，Y表示可选取代的C1到C18的烷基基团或一价的C3到C18的脂环烃基团，其中的亚甲基团可能被—O—、O—或—SO2—取代，前提是烷基基团或脂环烃基团至少有一个取代基，或其中至少一个亚甲基团被—O—、—CO—或—SO2—取代。
• COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.

  公开号：US20200249573A1

  公开（公告）日：2020-08-06

  The present invention provides a composition for resist underlayer film formation comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种用于抗蚀底层膜形成的组合物，其包括含碲化合物或含碲树脂。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• SULFONIUM SALT, HEAT- OR PHOTO-ACID GENERATOR, HEAT- OR PHOTO-CURABLE COMPOSITION, AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：SAN APRO LTD.

  公开号：US20190284134A1

  公开（公告）日：2019-09-19

  The sulfonium salt does not contain a toxic metal and exhibits higher cationic polymerization performance and crosslinking performance than a tetrakis(pentafluorophenyl)borate salt. The heat- or photo-acid generator contains the sulfonium salt. The sulfonium salt is formed of a sulfonium cation selected from a group represented by general formulas (1), (9), (10) and (11) described below and a gallate anion represented by formula (a). The heat- or photo-acid generator contains the sulfonium salt. The heat- or energy ray-curable composition contains the acid generator and a cationically polymerizable compound. A cured product can be obtained by curing the same.

  硫铵盐不含有毒金属，表现出比四(五氟苯基)硼酸盐更高的阳离子聚合性能和交联性能。热或光酸发生剂含有硫铵盐。硫铵盐由下面描述的通用公式(1)、(9)、(10)和(11)所代表的一组硫铵阳离子和由公式(a)代表的镓酸根阴离子形成。热或光酸发生剂含有硫铵盐。热或能量射线固化组合物含有酸发生剂和阳离子聚合性化合物。通过固化可以获得固化产品。