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(E)-3-butoxy-1-(4-tert-butylphenyl)propene

中文名称
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中文别名
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英文名称
(E)-3-butoxy-1-(4-tert-butylphenyl)propene
英文别名
1-[(E)-3-butoxyprop-1-enyl]-4-tert-butylbenzene
(E)-3-butoxy-1-(4-tert-butylphenyl)propene化学式
CAS
——
化学式
C17H26O
mdl
——
分子量
246.393
InChiKey
WKFJZVNJMICHTC-BQYQJAHWSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.1
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.53
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    烯丙基丁基醚4-叔丁基溴苯 在 bis(η3-allyl-μ-chloropalladium(II)) potassium carbonate顺式,顺式,顺式-1,2,3,4-四[(二苯基膦)甲基]环戊烷 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 反应 20.0h, 生成 、 1-[(E)-3-butoxyprop-2-enyl]-4-tert-butylbenzene 、 (E)-3-butoxy-1-(4-tert-butylphenyl)propene 、 1-(3-Butoxyprop-1-en-2-yl)-4-tert-butylbenzene
    参考文献:
    名称:
    四磷杂钯配合物催化受保护的烯丙醇与芳基溴的Heck反应
    摘要:
    在[PdCl(C3H5)]2/cis,cis,cis-1,2,3,4-四(二苯基膦基甲基)环戊烷存在下,一系列芳基溴化物与受保护的烯丙醇发生Heck乙烯基化反应催化剂。已经研究了使用各种保护基团的这些烯丙醇衍生物的反应性。使用 THP 保护基团获得了在底物/催化剂比方面的最佳结果。在大多数情况下,获得的主要异构体是 (E)-肉桂醇衍生物。该反应耐受多种官能团,例如三氟甲基、甲氧基、二甲氨基、乙酰基、甲酰基或腈。此外,这种催化剂可以在低负载下使用,甚至可以用于与空间位阻底物的反应。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2005)
    DOI:
    10.1002/ejoc.200400797
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文献信息

  • Heck Reaction of Protected Allyl Alcohols with Aryl Bromides Catalyzed by a Tetraphosphanepalladium Complex
    作者:Florian Berthiol、Henri Doucet、Maurice Santelli
    DOI:10.1002/ejoc.200400797
    日期:2005.4
    A range of aryl bromides undergo a Heck vinylation reaction with a protected allyl alcohol in the presence of[PdCl(C3H5)]2/cis,cis,cis-1,2,3,4-tetrakis(diphenylphosphan-ylmethyl)cyclopentane as a catalyst. The reactivity of these allyl alcohol derivatives using a variety of protecting groups has been studied. The best results in terms of substrate/catalyst ratio were obtained with a THP protecting
    在[PdCl(C3H5)]2/cis,cis,cis-1,2,3,4-四(二苯基膦基甲基)环戊烷存在下,一系列芳基溴化物与受保护的烯丙醇发生Heck乙烯基化反应催化剂。已经研究了使用各种保护基团的这些烯丙醇衍生物的反应性。使用 THP 保护基团获得了在底物/催化剂比方面的最佳结果。在大多数情况下,获得的主要异构体是 (E)-肉桂醇衍生物。该反应耐受多种官能团,例如三氟甲基、甲氧基、二甲氨基、乙酰基、甲酰基或腈。此外,这种催化剂可以在低负载下使用,甚至可以用于与空间位阻底物的反应。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2005)
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